-
2
-
-
55449122987
-
-
Burr, G. W.; Kurdi, B. N.; Scott, J. C.; Lam, C. H.; Gopalakrishnan, K.; Shenoy, R. S. IBM J. Res. Dev. 2008, 52, 449-464
-
(2008)
IBM J. Res. Dev.
, vol.52
, pp. 449-464
-
-
Burr, G.W.1
Kurdi, B.N.2
Scott, J.C.3
Lam, C.H.4
Gopalakrishnan, K.5
Shenoy, R.S.6
-
3
-
-
49249131600
-
-
Ed. Wiley: New York, Vol. (Information Technology I)
-
Nanotechnology; Waser, R., Ed.; Wiley: New York, 2008, Vol. 3 (Information Technology I).
-
(2008)
Nanotechnology
, vol.3
-
-
Waser, R.1
-
6
-
-
84863507287
-
-
Jeong, D. S.; Thomas, R.; Katiyar, R. S.; Scott, J. F.; Kohlstedt, H.; Petraru, A.; Hwang, C. S. Rep. Prog. Phys. 2012, 75, 076502
-
(2012)
Rep. Prog. Phys.
, vol.75
, pp. 076502
-
-
Jeong, D.S.1
Thomas, R.2
Katiyar, R.S.3
Scott, J.F.4
Kohlstedt, H.5
Petraru, A.6
Hwang, C.S.7
-
8
-
-
84863158824
-
-
Yang, J. J.; Inoue, I. H.; Mikolajick, T.; Hwang, C. S. MRS Bull. 2012, 37, 131-137
-
(2012)
MRS Bull.
, vol.37
, pp. 131-137
-
-
Yang, J.J.1
Inoue, I.H.2
Mikolajick, T.3
Hwang, C.S.4
-
9
-
-
0002878283
-
-
Simmons, J. G.; Verderber, R. R. Proc. R. Soc. London, Ser. A 1967, 301, 77-102
-
(1967)
Proc. R. Soc. London, Ser. A
, vol.301
, pp. 77-102
-
-
Simmons, J.G.1
Verderber, R.R.2
-
10
-
-
19944434155
-
-
Seo, S.; Lee, M. J.; Seo, D. H.; Jeoung, E. J.; Suh, D.-S.; Joung, Y. S.; Yoo, I. K.; Hwang, I. R.; Kim, S. H.; Byun, I. S.; Kim, J.-S.; Choi, J. S.; Park, B. H. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 5655
-
(2004)
Appl. Phys. Lett.
, vol.85
, pp. 5655
-
-
Seo, S.1
Lee, M.J.2
Seo, D.H.3
Jeoung, E.J.4
Suh, D.-S.5
Joung, Y.S.6
Yoo, I.K.7
Hwang, I.R.8
Kim, S.H.9
Byun, I.S.10
Kim, J.-S.11
Choi, J.S.12
Park, B.H.13
-
11
-
-
23944447615
-
-
Choi, B. J.; Jeong, D. S.; Kim, S. K.; Rohde, C.; Choi, S.; Oh, J. H.; Kim, H. J.; Hwang, C. S.; Szot, K.; Waser, R.; Reichenberg, B.; Tiedke, S. J. Appl. Phys. 2005, 98, 033715
-
(2005)
J. Appl. Phys.
, vol.98
, pp. 033715
-
-
Choi, B.J.1
Jeong, D.S.2
Kim, S.K.3
Rohde, C.4
Choi, S.5
Oh, J.H.6
Kim, H.J.7
Hwang, C.S.8
Szot, K.9
Waser, R.10
Reichenberg, B.11
Tiedke, S.12
-
13
-
-
67949097936
-
-
Lee, H. Y.; Chen, P. S.; Wu, T. Y.; Chen, Y. S.; Wang, C. C.; Tzeng, P. J.; Lin, C. H.; Chen, F.; Lien, C. H.; Tsai, M.-J. IEEE Int. Electron Devices Meet. 2008, 297-300
-
(2008)
IEEE Int. Electron Devices Meet.
, pp. 297-300
-
-
Lee, H.Y.1
Chen, P.S.2
Wu, T.Y.3
Chen, Y.S.4
Wang, C.C.5
Tzeng, P.J.6
Lin, C.H.7
Chen, F.8
Lien, C.H.9
Tsai, M.-J.10
-
14
-
-
78650349637
-
-
Yang, J. J.; Zhang, M.-X.; Strachan, J. P.; Miao, F.; Pickett, M. D.; Kelley, R. D.; Medeiros-Ribeiro, G.; Williams, R. S. Appl. Phys. Lett. 2010, 97, 232102
-
(2010)
Appl. Phys. Lett.
, vol.97
, pp. 232102
-
-
Yang, J.J.1
Zhang, M.-X.2
Strachan, J.P.3
Miao, F.4
Pickett, M.D.5
Kelley, R.D.6
Medeiros-Ribeiro, G.7
Williams, R.S.8
-
15
-
-
79960642086
-
-
Lee, M.-J.; Lee, C. B.; Lee, D.; Lee, S. R.; Chang, M.; Hur, J. H.; Kim, Y.; Kim, C.; Seo, D. H.; Seo, S.; Chung, U.; Yoo, I.; Kim, K. Nat. Mater. 2011, 10, 625-630
-
(2011)
Nat. Mater.
, vol.10
, pp. 625-630
-
-
Lee, M.-J.1
Lee, C.B.2
Lee, D.3
Lee, S.R.4
Chang, M.5
Hur, J.H.6
Kim, Y.7
Kim, C.8
Seo, D.H.9
Seo, S.10
Chung, U.11
Yoo, I.12
Kim, K.13
-
16
-
-
0035883782
-
-
Rossel, C.; Meijer, G. I.; Brémaud, D.; Widmer, D. J. Appl. Phys. 2001, 90, 2892
-
(2001)
J. Appl. Phys.
, vol.90
, pp. 2892
-
-
Rossel, C.1
Meijer, G.I.2
Brémaud, D.3
Widmer, D.4
-
17
-
-
0042378349
-
-
Baikalov, A.; Wang, Y. Q.; Shen, B.; Lorenz, B.; Tsui, S.; Sun, Y. Y.; Xue, Y. Y.; Chu, C. W. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 957
-
(2003)
Appl. Phys. Lett.
, vol.83
, pp. 957
-
-
Baikalov, A.1
Wang, Y.Q.2
Shen, B.3
Lorenz, B.4
Tsui, S.5
Sun, Y.Y.6
Xue, Y.Y.7
Chu, C.W.8
-
18
-
-
10044237971
-
-
Sawa, A.; Fujii, T.; Kawasaki, M.; Tokura, Y. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 4073
-
(2004)
Appl. Phys. Lett.
, vol.85
, pp. 4073
-
-
Sawa, A.1
Fujii, T.2
Kawasaki, M.3
Tokura, Y.4
-
19
-
-
33645641019
-
-
Szot, K.; Speier, W.; Bihlmayer, G.; Waser, R. Nat. Mater. 2006, 5, 312-320
-
(2006)
Nat. Mater.
, vol.5
, pp. 312-320
-
-
Szot, K.1
Speier, W.2
Bihlmayer, G.3
Waser, R.4
-
20
-
-
77956198128
-
-
Chen, C.; Yang, Y. C.; Zeng, F.; Pan, F. Appl. Phys. Lett. 2010, 97, 083502
-
(2010)
Appl. Phys. Lett.
, vol.97
, pp. 083502
-
-
Chen, C.1
Yang, Y.C.2
Zeng, F.3
Pan, F.4
-
21
-
-
78751522684
-
-
Kim, H.-D.; An, H.-M.; Kim, T. G. J. Appl. Phys. 2011, 109, 016105
-
(2011)
J. Appl. Phys.
, vol.109
, pp. 016105
-
-
Kim, H.-D.1
An, H.-M.2
Kim, T.G.3
-
22
-
-
84866680779
-
-
Choi, B. J.; Yang, J. J.; Zhang, M.-X.; Norris, K. J.; Ohlberg, D. A. A.; Kobayashi, N. P.; Medeiros-Ribeiro, G.; Williams, R. S. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2012, 109, 1-4
-
(2012)
Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process.
, vol.109
, pp. 1-4
-
-
Choi, B.J.1
Yang, J.J.2
Zhang, M.-X.3
Norris, K.J.4
Ohlberg, D.A.A.5
Kobayashi, N.P.6
Medeiros-Ribeiro, G.7
Williams, R.S.8
-
23
-
-
73449094517
-
-
Pandian, R.; Kooi, B. J.; Oosthoek, J. L. M.; Van den Dool, P.; Palasantzas, G.; Pauza, A. Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 252109
-
(2009)
Appl. Phys. Lett.
, vol.95
, pp. 252109
-
-
Pandian, R.1
Kooi, B.J.2
Oosthoek, J.L.M.3
Van Den Dool, P.4
Palasantzas, G.5
Pauza, A.6
-
24
-
-
84862143790
-
-
Jeong, D. S.; Lim, H.; Park, G.-H.; Hwang, C. S.; Lee, S.; Cheong, B. J. Appl. Phys. 2012, 111, 102807
-
(2012)
J. Appl. Phys.
, vol.111
, pp. 102807
-
-
Jeong, D.S.1
Lim, H.2
Park, G.-H.3
Hwang, C.S.4
Lee, S.5
Cheong, B.6
-
25
-
-
20444372632
-
-
Kozicki, M. N.; Park, M.; Mitkova, M. IEEE Trans. Nanotechnol. 2005, 4, 331-338
-
(2005)
IEEE Trans. Nanotechnol.
, vol.4
, pp. 331-338
-
-
Kozicki, M.N.1
Park, M.2
Mitkova, M.3
-
26
-
-
28144433129
-
-
Gilbert, N. E.; Gopalan, C.; Kozicki, M. N. Solid-State Electron. 2005, 49, 1813-1819
-
(2005)
Solid-State Electron.
, vol.49
, pp. 1813-1819
-
-
Gilbert, N.E.1
Gopalan, C.2
Kozicki, M.N.3
-
27
-
-
77958591143
-
-
Tsuruoka, T.; Terabe, K.; Hasegawa, T.; Aono, M. Nanotechnology. 2010, 21, 425205
-
(2010)
Nanotechnology.
, vol.21
, pp. 425205
-
-
Tsuruoka, T.1
Terabe, K.2
Hasegawa, T.3
Aono, M.4
-
28
-
-
84855463299
-
-
Hasegawa, T.; Terabe, K.; Tsuruoka, T.; Aono, M. Adv. Mater. 2012, 24, 252-267
-
(2012)
Adv. Mater.
, vol.24
, pp. 252-267
-
-
Hasegawa, T.1
Terabe, K.2
Tsuruoka, T.3
Aono, M.4
-
29
-
-
63649138779
-
-
Jo, S. H.; Kim, K.-H.; Lu, W. Nano Lett. 2009, 9, 870-874
-
(2009)
Nano Lett.
, vol.9
, pp. 870-874
-
-
Jo, S.H.1
Kim, K.-H.2
Lu, W.3
-
30
-
-
84859206837
-
-
Yang, Y.; Gao, P.; Gaba, S.; Chang, T.; Pan, X.; Lu, W. Nat. Comm. 2012, 3, 732
-
(2012)
Nat. Comm.
, vol.3
, pp. 732
-
-
Yang, Y.1
Gao, P.2
Gaba, S.3
Chang, T.4
Pan, X.5
Lu, W.6
-
31
-
-
79955827194
-
-
Chen, A. B. K.; Kim, S. G.; Wang, Y.; Tung, W.-S.; Chen, I.-W. Nat. Nanotechnol. 2011, 6, 237-241
-
(2011)
Nat. Nanotechnol.
, vol.6
, pp. 237-241
-
-
Chen, A.B.K.1
Kim, S.G.2
Wang, Y.3
Tung, W.-S.4
Chen, I.-W.5
-
32
-
-
78649819746
-
-
Cario, L.; Vaju, C.; Corraze, B.; Guiot, V.; Janod, E. Adv. Mater. 2010, 22, 5193-5197
-
(2010)
Adv. Mater.
, vol.22
, pp. 5193-5197
-
-
Cario, L.1
Vaju, C.2
Corraze, B.3
Guiot, V.4
Janod, E.5
-
33
-
-
84860155423
-
-
Brataas, A.; Kent, A. D.; Ohno, H. Nat. Mater. 2012, 11, 372-381
-
(2012)
Nat. Mater.
, vol.11
, pp. 372-381
-
-
Brataas, A.1
Kent, A.D.2
Ohno, H.3
-
34
-
-
84856874706
-
-
Chanthbouala, A.; Crassous, A.; Garcia, V.; Bouzehouane, K.; Fusil, S.; Moya, X.; Allibe, J.; Dlubak, B.; Grollier, J.; Xavier, S.; Deranlot, C.; Moshar, A.; Proksch, R.; Mathur, N. D.; Bibes, M.; Barthélémy, A. Nat. Nanotechnol. 2012, 7, 101-104
-
(2012)
Nat. Nanotechnol.
, vol.7
, pp. 101-104
-
-
Chanthbouala, A.1
Crassous, A.2
Garcia, V.3
Bouzehouane, K.4
Fusil, S.5
Moya, X.6
Allibe, J.7
Dlubak, B.8
Grollier, J.9
Xavier, S.10
Deranlot, C.11
Moshar, A.12
Proksch, R.13
Mathur, N.D.14
Bibes, M.15
Barthélémy, A.16
-
35
-
-
79952403920
-
-
Jiang, A. Q.; Wang, C.; Jin, K. J.; Liu, X. B.; Scott, J. F.; Hwang, C. S.; Tang, T. A.; Lu, H. Bin; Yang, G. Z. Adv. Mater. 2011, 23, 1277-1281
-
(2011)
Adv. Mater.
, vol.23
, pp. 1277-1281
-
-
Jiang, A.Q.1
Wang, C.2
Jin, K.J.3
Liu, X.B.4
Scott, J.F.5
Hwang, C.S.6
Tang, T.A.7
Lu, H.B.8
Yang, G.Z.9
-
36
-
-
75649111548
-
-
Raoux, S.; Wełnic, W.; Ielmini, D. Chem. Rev. 2010, 110, 240-267
-
(2010)
Chem. Rev.
, vol.110
, pp. 240-267
-
-
Raoux, S.1
Wełnic, W.2
Ielmini, D.3
-
37
-
-
80052154799
-
-
Choi, B. J.; Chen, A. B. K.; Yang, X.; Chen, I.-W. Adv. Mater. 2011, 23, 3847-3852
-
(2011)
Adv. Mater.
, vol.23
, pp. 3847-3852
-
-
Choi, B.J.1
Chen, A.B.K.2
Yang, X.3
Chen, I.-W.4
-
38
-
-
84863033846
-
-
Chen, A. B. K.; Choi, B. J.; Yang, X.; Chen, I.-W. Adv. Funct. Mater. 2012, 22, 546-554
-
(2012)
Adv. Funct. Mater.
, vol.22
, pp. 546-554
-
-
Chen, A.B.K.1
Choi, B.J.2
Yang, X.3
Chen, I.-W.4
-
40
-
-
84875677236
-
-
Yang, X.; Choi, B. J.; Chen, A. B. K.; Chen, I.-W. ACS Nano 2013, 7, 2302-2311
-
(2013)
ACS Nano
, vol.7
, pp. 2302-2311
-
-
Yang, X.1
Choi, B.J.2
Chen, A.B.K.3
Chen, I.-W.4
-
41
-
-
26144433204
-
-
Abrahams, E.; Anderson, P. W.; Licciardello, D. C.; Ramakrishnan, T. V. Phys. Rev. Lett. 1979, 42, 673-676
-
(1979)
Phys. Rev. Lett.
, vol.42
, pp. 673-676
-
-
Abrahams, E.1
Anderson, P.W.2
Licciardello, D.C.3
Ramakrishnan, T.V.4
-
42
-
-
80054950125
-
-
Chai, Y.; Wu, Y.; Takei, K.; Chen, H.; Member, S.; Yu, S.; Chan, P. C. H.; Javey, A.; Wong, H. P. IEEE Trans. Electon Devices 2011, 58, 3933-3939
-
(2011)
IEEE Trans. Electon Devices
, vol.58
, pp. 3933-3939
-
-
Chai, Y.1
Wu, Y.2
Takei, K.3
Chen, H.4
Member, S.5
Yu, S.6
Chan, P.C.H.7
Javey, A.8
Wong, H.P.9
-
43
-
-
84859376831
-
-
Banerjee, W.; Maikap, S.; Lai, C.-S.; Chen, Y.-Y.; Tien, T.-C.; Lee, H.-Y.; Chen, W.-S.; Chen, F. T.; Kao, M.-J.; Tsai, M.-J.; Yang, J.-R. Nanoscale Res. Lett. 2012, 7, 194
-
(2012)
Nanoscale Res. Lett.
, vol.7
, pp. 194
-
-
Banerjee, W.1
Maikap, S.2
Lai, C.-S.3
Chen, Y.-Y.4
Tien, T.-C.5
Lee, H.-Y.6
Chen, W.-S.7
Chen, F.T.8
Kao, M.-J.9
Tsai, M.-J.10
Yang, J.-R.11
-
44
-
-
77949760330
-
-
Schroeder, H.; Zhirnov, V. V.; Cavin, R. K.; Waser, R. J. Appl. Phys. 2010, 107, 054517
-
(2010)
J. Appl. Phys.
, vol.107
, pp. 054517
-
-
Schroeder, H.1
Zhirnov, V.V.2
Cavin, R.K.3
Waser, R.4
-
45
-
-
80855156709
-
-
Torrezan, A. C.; Strachan, J. P.; Medeiros-Ribeiro, G.; Williams, R. S. Nanotechnology. 2011, 22, 485203
-
(2011)
Nanotechnology.
, vol.22
, pp. 485203
-
-
Torrezan, A.C.1
Strachan, J.P.2
Medeiros-Ribeiro, G.3
Williams, R.S.4
-
46
-
-
82555171565
-
-
Menzel, S.; Waters, M.; Marchewka, A.; Böttger, U.; Dittmann, R.; Waser, R. Adv. Funct. Mater. 2011, 21, 4487-4492
-
(2011)
Adv. Funct. Mater.
, vol.21
, pp. 4487-4492
-
-
Menzel, S.1
Waters, M.2
Marchewka, A.3
Böttger, U.4
Dittmann, R.5
Waser, R.6
-
47
-
-
77957585627
-
-
Yang, J. J.; Strachan, J. P.; Xia, Q.; Ohlberg, D. A. A.; Kuekes, P. J.; Kelley, R. D.; Stickle, W. F.; Stewart, D. R.; Medeiros-Ribeiro, G.; Williams, R. S. Adv. Mater. 2010, 22, 4034-4038
-
(2010)
Adv. Mater.
, vol.22
, pp. 4034-4038
-
-
Yang, J.J.1
Strachan, J.P.2
Xia, Q.3
Ohlberg, D.A.A.4
Kuekes, P.J.5
Kelley, R.D.6
Stickle, W.F.7
Stewart, D.R.8
Medeiros-Ribeiro, G.9
Williams, R.S.10
-
48
-
-
84871772858
-
-
Yang, J. J.; Strukov, D. B.; Stewart, D. R. Nat. Nanotechnol. 2013, 8, 13-24
-
(2013)
Nat. Nanotechnol.
, vol.8
, pp. 13-24
-
-
Yang, J.J.1
Strukov, D.B.2
Stewart, D.R.3
-
50
-
-
76649133422
-
-
Kwon, D.-H.; Kim, K. M.; Jang, J. H.; Jeon, J. M.; Lee, M. H.; Kim, G. H.; Li, X.-S.; Park, G.-S.; Lee, B.; Han, S.; Kim, M.; Hwang, C. S. Nat. Nanotechnol. 2010, 5, 148-153
-
(2010)
Nat. Nanotechnol.
, vol.5
, pp. 148-153
-
-
Kwon, D.-H.1
Kim, K.M.2
Jang, J.H.3
Jeon, J.M.4
Lee, M.H.5
Kim, G.H.6
Li, X.-S.7
Park, G.-S.8
Lee, B.9
Han, S.10
Kim, M.11
Hwang, C.S.12
-
51
-
-
67649143212
-
-
Yang, J. J.; Miao, F.; Pickett, M. D.; Ohlberg, D. A. A.; Stewart, D. R.; Lau, C. N.; Williams, R. S. Nanotechnology 2009, 20, 215201
-
(2009)
Nanotechnology
, vol.20
, pp. 215201
-
-
Yang, J.J.1
Miao, F.2
Pickett, M.D.3
Ohlberg, D.A.A.4
Stewart, D.R.5
Lau, C.N.6
Williams, R.S.7
-
52
-
-
84861577228
-
-
Strukov, D. B.; Alibart, F.; Williams, R. S. Appl. Phys. A 2012, 107, 509-518
-
(2012)
Appl. Phys. A
, vol.107
, pp. 509-518
-
-
Strukov, D.B.1
Alibart, F.2
Williams, R.S.3
-
53
-
-
84859747018
-
-
Yao, J.; Zhong, L.; Natelson, D.; Tour, J. M. Sci. Rep. 2012, 2, 242
-
(2012)
Sci. Rep.
, vol.2
, pp. 242
-
-
Yao, J.1
Zhong, L.2
Natelson, D.3
Tour, J.M.4
-
54
-
-
46749093701
-
-
Yang, J. J.; Pickett, M. D.; Li, X.; Ohlberg, D. A. A.; Stewart, D. R.; Williams, R. S. Nat. Nanotechnol. 2008, 3, 429-433
-
(2008)
Nat. Nanotechnol.
, vol.3
, pp. 429-433
-
-
Yang, J.J.1
Pickett, M.D.2
Li, X.3
Ohlberg, D.A.A.4
Stewart, D.R.5
Williams, R.S.6
|