Distinct processes in radio-frequency reactive magnetron plasma sputter deposition of silicon suboxide films

Journal of Applied Physics

Volumn 102, Issue 12, 2007, Pages

  Van Hattum, E D ^a   Palmero, A ^a,b   Arnoldbik, W M ^a   Rudolph, H ^a   Habraken, F H P M ^a  

^a UTRECHT UNIVERSITY   (Netherlands)

^b INSTITUTO DE CIENCIA DE MATERIALES DE SEVILLA   (Spain)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

GROWTH RATE; MAGNETRON SPUTTERING; OXYGEN; PARTIAL PRESSURE; SILICON; SPUTTER DEPOSITION;

CATHODE EROSION; ION IMPINGEMENT; MAGNETRON PLASMA SPUTTER DEPOSITION; METALLIC CATHODE;

OXIDE FILMS;

EID: 37549000931     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2828163     Document Type: Article

References (49)

1. S. Berg, H.-O. Blom, T. Larsson, and C. Nender, J. Vac. Sci. Technol. A 5, 202 (1987).
2. S. Berg and T. Nyberg, Thin Solid Films 476, 215 (2005).
3. A. Ershov and L. Pekker, Thin Solid Films 289, 140 (1996).
4. L. Pekker, Thin Solid Films 312, 341 (1998).
5. A. Palmero, E. D. van Hattum, W. M. Arnoldbik, and F. H. P. M. Habraken, Surf. Coat. Technol. 188, 392 (2004).
6. S. Ossicini, L. Pavesi, and F. Priolo, Light Emitting Silicon for Microphotonics, Springer Tracts in Modern Physics Vol. 194 (Springer, New York, 2003).
7. J. J. van Hapert, A. M. Vredenberg, E. E. van Faassen, N. Tomozeiu, W. M. Arnoldbik, and F. H. P. M. Habraken, Phys. Rev. B 69, 245202 (2004).
8. W. M. Arnoldbik, N. Tomozeiu, E. D. van Hattum, R. W. Lof, A. M. Vredenberg, and F. H. P. M. Habraken, Phys. Rev. B 71, 125329 (2005).
9. S. D. Ekpe and S. K. Dew, J. Phys. D 39, 1413 (2006).
10. A. Palmero, H. Rudolph, and F. H. P. M. Habraken, Appl. Phys. Lett. 87, 071501 (2005).
11. S. D. Ekpe and S. K. Dew, J. Vac. Sci. Technol. A 20, 1877 (2002).
12. E. D. van Hattum, D. B. Boltje, A. Palmero, W. M. Arnoldbik, H. Rudolph, and F. H. P. M. Habraken (unpublished).
13. W. M. Arnold Bik and F. H. P. M. Habraken, Rep. Prog. Phys. 56, 859 (1993).
14. E. D. van Hattum, W. M. Arnoldbik, A. Palmero, and F. H. P. M. Habraken, Thin Solid Films 494, 13 (2006).
15. A. Palmero, E. D. van Hattum, W. M. Arnoldbik, A. M. Vredenberg, and F. H. P. M. Habraken, J. Appl. Phys. 95, 7611 (2004).
16. A. Palmero, E. D. van Hattum, H. Rudolph, and F. H. P. M. Habraken, Thin Solid Films 494, 18 (2006).
17. A. Palmero, E. D. van Hattum, H. Rudolph, and F. H. P. M. Habraken, Eur. Phys. J. D 41, 303 (2007).
18. J. H. Keller and R. G. Simmons, IBM J. Res. Dev. 23, 24 (1979).
19. T. P. Drüsedau, M. Lohmann, and Bernd Garke, J. Vac. Sci. Technol. A A16, 2728 (1998).
20. A. Palmero, H. Rudolph, and F. H. P. M. Habraken, J. Appl. Phys. 101, 083307 (2007).
21. A. Palmero, H. Rudolph, and F. H. P. M. Habraken, Appl. Phys. Lett. 89, 211501 (2006).
22. E. D. van Hattum, A. Palmero, W. M. Arnoldbik, and F. H. P. M. Habraken, Surf. Coat. Technol. 188-189, 399 (2004).
23. L. R. Shaginyana, J. G. Han, V. R. Shaginyan, and J. Musil, J. Vac. Sci. Technol. A 24, 1083 (2006).
24. T. Nyberg, C. Nender, H. Hogberg, and S. Berg, Surf. Coat. Technol. 94-95, 242 (1997).
25. M. Taguchi and S. Hamaguchi, J. Appl. Phys. 100, 123305 (2006).
26. J. M. Andersson, E. Wallin, E. P. Münger, and U. Helmersson, Appl. Phys. Lett. 88, 054101 (2006).
27. D. Marton, Appl. Surf. Sci. 5, 65 (1980).
28. M. P. D'Evelyn, M. M. Nelson, and T. Engel, Surf. Sci. 186, 75 (1987).
29. D. Depla and R. De Gryse, Surf. Coat. Technol. 183, 184 (2004).
30. D. Rośn, I. Katardjiev, S. Berg, and W. Möller, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 228, 193 (2005).
31. K. Wittmaack, Phys. Rev. B 68, 235211 (2003).
32. H. Miyazaki and T. Goto, J. Non-Cryst. Solids 352, 329 (2006).
33. R. Y. Chan, W. S. Ho, J. C. Wolfe, and D. L. Licon, Thin Solid Films 287, 57 (1996).
34. W. L. Fite and R. T. Brackmann, Phys. Rev. 113, 815 (1959).
35. Y.-K. Kim and J.-P. Desclaux, Phys. Rev. A 66, 012708 (2002).
36. B. L. Schram, F. J. de Heer, M. J. van der Wiel, and J. Kistemaker, Physica (Amsterdam) 31, 94 (1965).
37. W. Hwang, Y. K. Kim, and M. E. Rudd, J. Chem. Phys. 104, 2956 (1996).
38. T. Engel, Surf. Sci. Rep. 18, 91 (1993).
39. F. Meyer and J. J. Vrakking, Surf. Sci. 38, 275 (1973).
40. J. Z. Xu, W. J. Choyke, and J. T. Yates, J. Appl. Phys. 82, 6289 (1997).
41. A. Terrasi, C. Colluza, and G. Margaritondo, J. Appl. Phys. 78, 3820 (1995).
42. R. Dorn, H. Lüth, and H. Ibach, Surf. Sci. 42, 583 (1974).
43. D. A. King and M. G. Wells, Proc. R. Soc. London, Ser. A 339, 245 (1974).
44. J. A. Thornton and J. E. Greene, in Handbook of Deposition Technologies for Films and Coatings, 2nd ed., edited by, Rointan F. Bunshah, (Noyes Publications, Westwood, NJ, 1994), Chap..
45. V. S. Smentkowski, Prog. Surf. Sci. 64, 1 (2000).
46. A. E. Morgan, H. A. M. de Grefte, N. Warmoltz, H. W. Werner, and H. J. Tolle, Appl. Surf. Sci. 7, 372 (1981).
47. K. Franzreb, J. Lorincik, and P. Williams, Surf. Sci. 573, 372 (2004).
48. A. Terrasi, J. Almeida, C. Coluzza, and G. Margaritondo, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 116, 416 (1996).
49. Y. Abe, K. Takamura, M. Kawamura, and K. Sasaki, J. Vac. Sci. Technol. A 23, 1371 (2005).