Effects of plasma exposure on SiCOH and methyl silsesquioxane films

Plasma Processes and Polymers

Volumn 4, Issue 9, 2007, Pages 789-796

  Silverstein, Michael S ^a   Shach Caplan, Michal ^a   Khristosov, Maria ^a   Harel, Tuval ^a  

^a TECHNION ISRAEL INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (Israel)

Author keywords

Low k dielectrics; Plasma modification; SiCOH; Silsesquioxane

Indexed keywords

INTERFACIAL ENERGY; PERMITTIVITY; POROUS MATERIALS; SILICON COMPOUNDS; SURFACE CHEMISTRY;

PLASMA EXPOSURE; PLASMA MODIFICATION; SILSESQUIOXANE;

PLASMA APPLICATIONS;

EID: 36348938685     PISSN: 16128850     EISSN: 16128869     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/ppap.200700079     Document Type: Article

References (37)

1. International Roadmap for Semiconductors, Semiconductor Industry Association, San Jose 2006.
2. K. Maex, M. R. Baklanov, D. Shamiryan, F. Iacopi, S. H. Brongersma, Z. S. Yanovitskaya, J. Appl. Phys. 2003, 93, 8793.
3. G. Maier, Prog. Polym. Sci. 2001, 26, 3.
4. M. R. Baklinov, K. P. Mogilnikov, Microelectron. Eng. 2002, 64, 335.
5. H. J. Lee, C. L. Soles, D. W. Liu, B. J. Bauer, E. K. Lin, W. L. Wu, A. Grill, J. Appl. Phys. 2004, 95, 2355.
6. R. C. Hedden, H. J. Lee, B. J. Bauer, Langmuir 2004, 20, 416.
7. J. N. Sun, D. W. Gidley, T. L. Dull, W. E. Frieze, A. F. Yee, E. T. Ryan, S. Lin, J. Wetzel, J. Appl. Phys. 2001, 89, 5138.
8. H. W. Ro, K. J. Kim, P. Theato, D. W. Gidley, D. Y. Yoon, Macromolecules 2005, 38, 1031.
9. Q. R. Huang, W. Volksen, E. Huang, M. Toney, C. W. Frank, R. D. Miller, Chem. Mater. 2002, 14, 3676.
10. H. C. Kim, W. Volksen, R. D. Miller, E. Huang, G. Yank, R. M. Briber, K. Shin, S. K. Satija, Chem. Mater. 2003, 15, 609.
11. E. Kondoh, M. R. Baklanov, E. Lin, D. Gidley, A. Nakashima, Jpn. J. Appl. Phys. 2001, 40, L323.
12. M. S. Silverstein, B. J. Bauer, R. C. Hedden, H. J. Lee, B. G. Landes, Macromolecules 2006, 39, 2998.
13. M. S. Silverstein, M. Shach-Caplan, B. J. Bauer, R. C. Hedden, H. J. Lee, B. G. Landes, Macromolecules 2005, 38, 4301.
14. Y. P. Yin, S. Rasgon, H. H. Sawin, J. Vac. Sci. Technol. B 2006, 24, 2360.
15. G. Mannaert, M. R. Baklanov, Q. T. Le, Y. Travaly, W. Boullart, S. Vanhaelemeersch, A. M. Jonas, J. Vac. Sci. Technol. B 2005, 23, 2198.
16. M. R. Baklanov, K. P. Mogilnikov, Q. T. Le, Microelectron. Eng. 2006, 83, 2287.
17. T. Abell, J. Schuhmacher, Z. Tokei, Y. Travaly, K. Maex, Microelectron. Eng. 2005, 82, 411.
18. P. Lazzeri, X. Hua, G. Oehrlein, E. Iacob, M. Barozzi, M. Bersani, M. Anderle, Appl. Surf. Sci. 2006, 252, 7186.
19. X. F. Hua, C. Stolz, G. S. Oehrlein, P. Lazzeri, N. Coghe, M. Anderle, C. K. Inoki, T. S. Kuan, P. Jiang, J. Vac. Sci. Technol. A 2005, 23, 151.
20. N. Posseme, T. Chevolleau, O. Joubert, L. Vallier, J. Vac. Sci. Technol. B 2003, 21, 2432.
21. N. Posseme, T. Chevolleau, O. Joubert, L. Vallier, N. Rochat, J. Vac. Sci. Technol. B 2004, 22, 2772.
22. X. F. Hua, M. S. Kuo, G. S. Oehrlein, P. Lazzeri, E. Iacob, M. Anderle, C. K. Inoki, T. S. Kuan, P. Jiang, W. L. Wu, J. Vac. Sci. Technol. B 2006, 24, 1238.
23. P. Lazzeri, G. J. Stueber, G. S. Oehrlein, R. McGowan, E. Busch, J. Vac. Sci. Technol. B 2006, 24, 2695.
24. W. Puyrenier, V. Rouessac, L. Broussous, D. Rebiscoul, A. Ayral, Microelectron. Eng. 2006, 83, 2314.
25. A. Humbert, L. Mage, C. Goldberg, K. Junker, L. Proenca, J. B. Lhuillier, Microelectron. Eng. 2005, 82, 399.
26. A. Grill, V. Patel, J. Electrochem. Soc. 2006, 153, F169.
27. P. M. A. Sherwood, "Data Analysis in XPS and AES", in: Practical Surface Analysis, Vol. 1, 2nd edition, D. Briggs, M. P. Seah, Eds., J. Wiley and Sons, New York 1990, p. 555.
28. T. Abell, J. Lee, M. Moinpour, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 914, MRS, Pittsburgh 2006, p. F04-02.
29. A. Humbert, D. E. Badaroglu, R. J. O. M. Hoofman, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 914, MRS, Pittsburgh 2006, p. F04-03.
30. T. Abell, K. Houthoofd, F. Iacopi, P. Grobet, K. Maex, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 914, MRS, Pittsburgh 2006, p. F04-05.
31. E. Ollier, M. Clain, R. Fox, P. Brun, S. Jullian, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 863, MRS, Pittsburgh 2005, p. B1.8.1.
32. K. Kohmura, H. Tanaka, S. Oike, M. Murakami, T. Ono, Y. Seino, T. Kikkawa, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 863, MRS, Pittsburgh 2005, p. B3.10.1.
33. M. S. Silverstein, L. Sandrin, E. Sacher, Polymer 2001, 42, 4299.
34. L. Sandrin, M. S. Silverstein, E. Sacher, Polymer 2001, 42, 3761.
35. R. Chen, M. S. Silverstein, J. Polym. Sci. Part A: Polym. Chem. 1996, 34, 207.
36. R. Chen, V. Gorelik, M. S. Silverstein, J. Appl. Polym. Sci. 1995, 56, 615.
37. M. S. Silverstein, R. Chen, O. Kesler, Polym. Eng. Sci. 1996, 36, 2542.