N, NH, and NH2 radical densities in a remote Ar-NH 3-SiH4 plasma and their role in silicon nitride deposition

Journal of Applied Physics

Volumn 100, Issue 9, 2006, Pages

  Van Den Oever, P J ^a   Van Helden, J H ^a   Van Hemmen, J L ^a   Engeln, R ^a   Schram, D C ^a   Van De Sanden, M C M ^a   Kessels, W M M ^a  

^a EINDHOVEN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Netherlands)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ABSORPTION SPECTROSCOPY; DEPOSITION; IONIZATION; MASS SPECTROMETRY; PLASMAS; SILICON NITRIDE; THRESHOLD ELEMENTS;

CAVITY RINGDOWN ABSORPTION SPECTROSCOPY; SILICON NITRIDE DEPOSITION; THRESHOLD IONIZATION MASS SPECTROMETRY;

FREE RADICALS;

EID: 33751079593     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2358330     Document Type: Article

References (48)

1. J. C. Barbour, H. J. Stein, O. A. Popov, M. Yoder, and C. A. Outten, J. Vac. Sci. Technol. A 9, 480 (1991).
2. S. Garcia, I. Martil, G. Gonzalez, E. Castan, S. Duenas, and M. Fernandez, J. Appl. Phys. 83, 332 (1998).
3. J. M. Jeon and J.-L. Lee, Appl. Phys. Lett. 86, 172101 (2005).
4. D. Stryahilev, A. Sazonov, and A. Nathan, J. Vac. Sci. Technol. A 20, 1087 (2002).
5. A. G. Aberle, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 65, 239 (2001).
6. J. Hong, W. M. M. Kessels, W. J. Soppe, A. W. Weeber, W. M. Arnoldbik, and M. C. M. van de Sanden, J. Vac. Sci. Technol. B 21, 2123 (2003).
7. N. I. Fainer, Yu. M. Rumyantsev, M. L. Kosinova, G. S. Yurjef, E. S. Maximovskii, and F. A. Kuznetsov, Appl. Surf. Sci. 113/114, 614 (1997).
8. X.-J. Liu, Y.-F. Chen, H.-L. Li, X.-W. Sun, and L.-P. Huang, Thin Solid Films 479, 137 (2005).
9. R. Di Mundo, R. d'Agostino, F. Fracassi, and F. Palumbo, Plasma Processes Polym. 2, 612 (2005).
10. G. Lucovsky, P. D. Richard, D. V. Tsu, S. Y. Lin, and R. J. Markunas, J. Vac. Sci. Technol. A 4, 681 (1986).
11. D. L. Smith, A. S. Alimonda, C.-C. Chen, S. E. Ready, and B. Wacker, J. Electrochem. Soc. 137, 614 (1990).
12. S. Sitbon, M. C. Hugon, B. Agius, F. Abel, J. L. Courant, and M. Puech, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 2900 (1995).
13. D. Landheer, N. G. Skinner, T. E. Jackmann, D. A. Thompson, J. G. Simmons, D. V. Stevanovic, and D. Khatamian, J. Vac. Sci. Technol. A 9, 2594 (1991).
14. D. L. Smith, A. S. Alimonda, and F. J. von Preissig, J. Vac. Sci. Technol. B 8, 551 (1990).
15. B. F. Hanyaloglu and E. S. Aydil, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 2794 (1998).
16. W. M. M. Kessels, F. J. H. van Assche, J. Hong, D. C. Schram, and M. C. M. van de Sanden, J. Vac. Sci. Technol. A 22, 96 (2004).
17. W. M. M. Kessels, F. J. H. van Assche, P. J. van den Oever, and M. C. M. van de Sanden, J. Non-Cryst. Solids 338, 37 (2004).
18. D. L. Smith, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 1843 (1993).
19. D. B. Beach and J. M. Jasinski, J. Phys. Chem. 94, 3019 (1990).
20. D. T. Murley, R. A. G. Gibson, B. Dunnett, A. Goodyear, and I. D. French, J. Non-Cryst. Solids 187, 324 (1995).
21. J. A. Theil, S. V. Hattangady, and G. Lucovsky, J. Vac. Sci. Technol. A 10, 719 (1992).
22. H. Umemoto, T. Morimoto, M. Yamawaki, Y. Masuda, A. Masuda, and H. Matsumura, Thin Solid Films 430, 24 (2003).
23. E. R. Fisher, P. Ho, W. G. Breiland, and R. J. Buss, J. Phys. Chem. 96, 9855 (1992).
24. P. R. McCurdy, C. I. Butoi, K. L. Williams, and E. R. Fisher, J. Phys. Chem. B 103, 6919 (1999).
25. M. L. Steen, K. R. Kull, and E. R. Fisher, J. Appl. Phys. 92, 55 (2002).
26. S. F. Adams and T. A. Miller, Plasma Sources Sci. Technol. 9, 248 (2000).
27. H. Singh, J. W. Coburn, and D. B. Graves, J. Appl. Phys. 88, 3748 (2000).
28. P. J. van den Oever, J. L. van Hemmen, J. H. van Helden, D. C. Schram, R. Engeln, M. C. M. van de Sanden, and W. M. M. Kessels, Plasma Sources Sci. Technol. 15, 546 (2006).
29. B. Hoex, A. J. M. van Erven, R. C. M. Bosch, W. T. M. Stals, M. D. Bijker, P. J. van den Oever, W. M. M. Kessels, and M. C. M. van de Sanden, Prog. Photovoltaics 13, 705 (2005).
30. M. Schaepkens, T. W. Kim, A. G. Erlat, M. Tan, K. W. Flanagan, C. M. Heller, and P. A. McConnelee, J. Vac. Sci. Technol. A 22, 1716 (2004).
31. W. M. M. Kessels, C. M. Leewis, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram, J. Appl. Phys. 86, 4029 (1999).
32. M. C. M. van de Sanden, R. J. Severens, W. M. M. Kessels, R. F. G. Meulenbroeks, and D. C. Schram, J. Appl. Phys. 0021-8979 10.1063/1.368977 84, 2426 (1998); M. C. M. van de Sanden, R. J. Severens, W. M. M. Kessels, R. F. G. Meulenbroeks, and D. C. Schram, J. Appl. Phys. 85, 1243 (1999).
33. M. C. M. van de Sanden, R. J. Severens, W. M. M. Kessels, R. F. G. Meulenbroeks, and D. C. Schram, J. Appl. Phys. 0021-8979 10.1063/1.368977 84, 2426 (1998); M. C. M. van de Sanden, R. J. Severens, W. M. M. Kessels, R. F. G. Meulenbroeks, and D. C. Schram, J. Appl. Phys. 85, 1243 (1999).
34. P. J. van den Oever, J. H. van Helden, C. C. H. Lamers, R. Engeln, D. C. Schram, M. C. M. van de Sanden, and W. M. M. Kessels, J. Appl. Phys. 98, 093301 (2005).
35. J. P. M. Hoefnagels, Y. Barrell, W. M. M. Kessels, and M. C. M. van de Sanden, J. Appl. Phys. 96, 4094 (2004).
36. W. M. M. Kessels, A. Leroux, M. G. H. Boogaarts, J. P. M. Hoefnagels, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram, J. Vac. Sci. Technol. A 19, 467 (2001).
37. S. Agarwal, G. W. W. Quax, M. C. M. van de Sanden, D. Maroudas, and E. S. Aydil, J. Vac. Sci. Technol. A 22, 71 (2004).
38. J. Benedikt, S. Agarwal, D. Eijkman, W. Vandamme, M. Creatore, and M. C. M. van de Sanden, J. Vac. Sci. Technol. A 23, 1400 (2005).
39. A. Goumri, W.-J. Yuan, L. Ding, Y. Shi, and P. Marshall, Chem. Phys. 177, 233 (1993).
40. L. G. Piper and G. E. Caledonia, J. Phys. Chem. 95, 698 (1991).
41. A. H. Mahan, A. C. Dillon, L. M. Gedvillas, D. L. Williamson, and J. D. Perkins, J. Appl. Phys. 94, 2360 (2003).
42. Q. Wang, S. Ward, L. Gedvilas, B. Keyes, E. Sanchez, and S. Wang, Appl. Phys. Lett. 84, 338 (2004).
43. S. G. Ansari, H. Umemoto, T. Morimoto, K. Yoneyama, A. Izumi, A. Masuda, and H. Matsumura, Thin Solid Films 501, 31 (2006).
44. A. I. Chowdhury, T. M. Klein, T. M. Anderson, and G. N. Parsons, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 1852 (1998).
45. H. Motz and H. Wise, J. Chem. Phys. 32, 1893 (1960).
46. G. Ganguly and A. Matsuda, Phys. Rev. B 47, 3661 (1993).
47. Y.-K. Kim and J. P. Desclaux, Phys. Rev. A 66, 012708 (2002).
48. H. M. Rosenstock, K. Draxl, B. W. Steiner, and J. T. Herron, Energetics of Gaseous Ions, Journal of Physical and Chemical Reference Data, Vol. 6, Supplement No. 1 (American Institute of Physics, Melville, New York, 1977).