Plasma diagnostic study of silicon nitride film growth in a remote Ar-H2-N2-SiH4 plasma: Role of N and SiH n radicals

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 22, Issue 1, 2004, Pages 96-106

  Kessels, W M M ^a   Van Assche, F J H ^a   Hong, J ^a   Schram, D C ^a   Van de Sanden, M C M ^a  

^a EINDHOVEN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Netherlands)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AMORPHOUS MATERIALS; HYDROGENATION; IONIZATION OF GASES; MASS SPECTROMETRY; MICROELECTRONICS; PASSIVATION; PLASMA DENSITY; PLASMA DIAGNOSTICS; SILICON NITRIDE;

EXPANDING THERMAL PLASMA (ETP) TECHNIQUE; IONIZATION MASS SPECTROMETRY;

THIN FILMS;

EID: 1242352024     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.1631294     Document Type: Article

References (40)

1. A. Grill, Cold Plasma in Materials Fabrication (IEEE, New York, 1994).
2. A. G. Aberle, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 65, 239 (2001).
3. H. E. A. Huitema, G. H. Gelinck, J. P. B. H. van der Putten, K. E. Kuijk, C. M. Hart, E. Cantatore, P. T. Herwig, A. J. J. M. van Breemen, and D. M. de Leeuw, Nature (London) 414, 599 (2001).
4. W. M. M. Kessels, R. J. Severens, A. H. M. Smets, B. A. Korevaar, G. J. Adriaenssens, D. C. Schram, and M. C. M. van de Sanden, J. Appl. Phys. 89, 2404 (2001).
5. J. W. A. M. Gielen, W. M. M. Kessels, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram, J. Appl. Phys. 82, 2643 (1997); R. Groenen, J. L. Linden, H. R. M. van Lierop, D. C. Schram, A. D. Kuypers, and M. C. M. van de Sanden, Appl. Surf. Sci. 173, 40 (2001).
6. J. W. A. M. Gielen, W. M. M. Kessels, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram, J. Appl. Phys. 82, 2643 (1997); R. Groenen, J. L. Linden, H. R. M. van Lierop, D. C. Schram, A. D. Kuypers, and M. C. M. van de Sanden, Appl. Surf. Sci. 173, 40 (2001).
7. W. M. M. Kessels, J. Hong, F. J. H. van Assche, J. D. Moschner, T. Lauinger, W. J. Soppe, A. W. Weeber, and M. C. M. van de Sanden, J. Vac. Sci. Technol. A 20, 1704 (2002).
8. J. Hong, W. M. M. Kessels, F. J. H. van Assche, H. C. Rieffe, W. J. Soppe, A. W. Weeber, and M. C. M. van de Sanden, Prog. Photovoltaics 11, 125 (2003).
9. D. L. Smith, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 165, 69 (1990).
10. D. L. Smith, A. S. Alimoda, and F. J. von Preisig, J. Vac. Sci. Technol. B 8, 551 (1990).
11. D. L. Smith, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 1843 (1993).
12. A. D. Bailey III and R. A. Gottscho, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 34, 2172 (1995).
13. B. F. Hanyaloglu and E. S. Aydil, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 2794 (1998).
14. W. M. M. Kessels, C. M. Leewis, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram, J. Appl. Phys. 86, 4029 (1999).
15. W. M. M. Kessels, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram, J. Vac. Sci. Technol. A 18, 2153 (2000).
16. H. Singh, J. W. Coburn, and D. Graves, J. Vac. Sci. Technol. A 18, 299 (2000).
17. H. C. Straub, P. Renault, B. G. Lindsay, K. A. Smith, and R. F. Stebbings, Phys. Rev. A 54, 2146 (1995).
18. D. Rapp, P. Englander-Golden, and D. D. Briglia, J. Chem. Phys. 42, 4081 (1965).
19. . Stephan, H. Helm, and T. D. Mark, J. Chem. Phys. 73, 3763 (1980).
20. S. F. Adams and T. A. Miller, Plasma Sources Sci. Technol. 9, 248 (2000).
21. H. Singh, J. W. Coburn, and D. B. Graves, J. Appl. Phys. 88, 3748 (2000).
22. W. M. M. Kessels, J. Hong, E. Langereis, P. J. van de Oever, R. A. H. Engeln, and M. C. M. van de Sanden (unpublished).
23. S. Mazouffre, I. Bakker, P. Vankan, R. Engeln, and D. C. Schram, Plasma Sources Sci. Technol. 11, 439 (2002).
24. Cavity Ring Down Spectroscopy - A New Technique for Trace Absorption Measurements edited by K. W. Busch and M. A. Busch (American Chemical Society, Washington, 1998).
25. W. M. M. Kessels, A. Leroux, M. G. H. Boogaarts, J. P. M. Hoefnagels, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram, J. Vac. Sci. Technol. A 19, 467 (2001).
26. W. M. M. Kessels, J. P. M. Hoefnagels, M. G. H. Boogaarts, D. C. Schram, and M. C. M. van de Sanden, J. Appl. Phys. 89, 2065 (2001).
27. P. D. Lightfoot, R. Becerra, A. A. Jemi-Alade, and R. Lesclaux, Chem. Phys. Lett. 180, 441 (1991).
28. M. C. M. van de Sanden, J. M. de Regt, and D. C. Schram, Plasma Sources Sci. Technol. 3, 501 (1994); R. F. G. Meulenbroeks, R. A. H. Engeln, M. N. A. Beurskens, R. M. J. Paffen, M. C. M. van de Sanden, J. A. M. van der Mullen, and D. C. Schram, Plasma Sources Sci. Technol. 4, 74 (1995); S. Mazouffre, M. G. H. Boogaarts, J. A. M. van der Mullen, and D. C. Schram, Phys. Rev. Lett. 84, 2622 (2000).
29. M. C. M. van de Sanden, J. M. de Regt, and D. C. Schram, Plasma Sources Sci. Technol. 3, 501 (1994); R. F. G. Meulenbroeks, R. A. H. Engeln, M. N. A. Beurskens, R. M. J. Paffen, M. C. M. van de Sanden, J. A. M. van der Mullen, and D. C. Schram, Plasma Sources Sci. Technol. 4, 74 (1995); S. Mazouffre, M. G. H. Boogaarts, J. A. M. van der Mullen, and D. C. Schram, Phys. Rev. Lett. 84, 2622 (2000).
30. M. C. M. van de Sanden, J. M. de Regt, and D. C. Schram, Plasma Sources Sci. Technol. 3, 501 (1994); R. F. G. Meulenbroeks, R. A. H. Engeln, M. N. A. Beurskens, R. M. J. Paffen, M. C. M. van de Sanden, J. A. M. van der Mullen, and D. C. Schram, Plasma Sources Sci. Technol. 4, 74 (1995); S. Mazouffre, M. G. H. Boogaarts, J. A. M. van der Mullen, and D. C. Schram, Phys. Rev. Lett. 84, 2622 (2000).
31. M. C. M. van de Sanden, R. J. Severens, W. M. M. Kessels, R. F. G. Meulenbroeks, and D. C. Schram, J. Appl. Phys. 84,. 2426 (1998).
32. W. M. M. Kessels, M. G. H. Boogaarts, J. P. M. Hoefnagels, D. C. Schram, and M. C. M. van de Sanden, J. Vac. Sci. Technol. A 19, 1027 (2001).
33. L. G. Piper and G. E. Caledonia, J. Phys. Chem. 95, 698 (1991).
34. M. J. Kushner, J. Appl. Phys. 71, 4173 (1992).
35. J. P. M. Hoefnagels, A. A. E. Stevens, M. G. H. Boogaarts, W. M. M. Kessels, and M. C. M. van de Sanden, Chem. Phys. Lett. 360, 189 (2002).
36. W. M. M. Kessels, P. R. McCurdy, K. W. Williams, G. R. Barker, V. A. Ventura, and E. R. Fisher, J. Phys. Chem. B 106, 2680 (2002).
37. R. Walkup, Ph. Avouris, R. W. Dreyfus, J. M. Jasinski, and G. S. Selwyn, Appl. Phys. Lett. 45, 372 (1984).
38. G. J. H. Brussaard, Ph.D. dissertation, Eindhoven University of Technology, The Netherlands.
39. P. Kae-Nune, J. Perrin, J. Guillon, and J. Jolly, Plasma Sources Sci. Technol. 4, 250 (1995).
40. W. M. M. Kessels, M. C. M. van de Sanden, R. J. Severens, and D. C. Schram, J. Appl. Phys. 87, 3313 (2000).