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Volumn 16, Issue 5, 1998, Pages 2794-2803

Low temperature plasma deposition of silicon nitride from silane and nitrogen plasmas

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EID: 0032369236     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.581424     Document Type: Article
Times cited : (70)

References (37)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.