Tunable metallization by assembly of metal nanoparticles in polymer thin films by photo- or electron beam lithography

Langmuir

Volumn 21, Issue 20, 2005, Pages 9352-9358

  Yin, Dehui ^a   Horiuchi, Shin ^a   Morita, Masamichi ^b   Takahara, Atsushi ^b  

^a NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY AIST   (Japan)

^b KYUSHU UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY; METALLIZING; NANOSTRUCTURED MATERIALS; PALLADIUM; PYROLYSIS; THIN FILMS; ULTRAVIOLET RADIATION;

NANOPARTICLES; PRECURSORS; SURFACE PATTERNS; TUNABLE METALLIZATION;

POLYMETHYL METHACRYLATES;

EID: 26444612278     PISSN: 07437463     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la0511485     Document Type: Article

References (51)

1. Rotello, V. Nanoparticles: Building Blocks for Nanotechnology; Kluwer Academic/Plenum Publishers: New York, 2004; Chapter 5.
2. Grunes, J.; Zhu, J.; Anderson, E. A.; Somorjai, G. A. J. Phys. Chem. B 2002, 106, 11463.
3. Chen, M.-S.; Dulcey, C. S.; Brandow, S. L.; Leonard, D. N.; Dressick, W. J.; Calvert, J. M.; Sims, C. W. J. Electrochem. Soc. 2000, 147, 2607.
4. Dressick, W. J.; Chen, M.-S.; Brandow, S. L. J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 982.
5. Chen, M. S.; Brandow, S. L.; Dressick, W. J. Thin Solid Films 2000, 379, 203.
6. Huang, S.; Dai, L.; Mau, A. W. H. Adv. Mater. 2002, 14, 1140.
7. Xu, Y.; Sun, H.-B.; Ye, J.-Y.; Matsuo, S.; Misawa, H. J. Opt. Soc. Am. B 2001, 18, 1084.
8. Haes, A. J.; Zou, S.; Schatz, G. C.; Van Duyne, R. P. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 6961.
9. Rotello, V. Nanoparticles: Building Blocks for Nanotechnology; Kluwer Academic/Plenum Publishers: New York, 2004; Chapter 6.
10. Delamarche, E.; Geissler, M.; Vichiconti, J.; Graham, W. S.; Andry, P. A.; Flake, J. C.; Fryer, P. M.; Nunes, R. W.; Michel, B.; O'Sullivan, E. J.; Schmid, H.; Wolf, H.; Wisnieff, R. L. Langmuir 2003, 19, 5923.
11. Delamarche, E.; Vichiconti, J.; Hall, S. A.; Geissler, M.; Graham, W.; Michel, B.; Nunes, R. Langmuir 2003, 19, 6567.
12. Thurn-Albrecht, T.; Schotter, J.; Kästle, G. A.; Emley, N.; Shibauchi, T.; Krusin-Elbaum, L.; Guarini, K.; Black, C. T.; Tuominen, M. T.; Russell, T. P. Science 2000, 290, 2126.
13. Chou, S. Y.; Wei, M. S.; Krauss, P. R.; Fischer, P. B. J. Appl. Phys. 1994, 76, 6673.
14. Cheng, A. Y.; Clendenning, S. B.; Yang, G.; Lu, Z.-H.; Yip, C. M.; Manners, I. Chem. Commun. 2004, 780.
15. Clendenning, S. B.; Aouba, S.; Rayat, M. S.; Grozea, D.; Sorge, J. B.; Brodersen, P. M.; Sodhi, R. N. S.; Lu, Z.-H.; Yip, C. M.; Freeman, M. R.; Ruda, H. E.; Manners, I. Adv. Mater. 2004, 16, 215.
16. Chan, W. Y.; Clendenning, S. B.; Berenbaum, A.; Lough, A. J.; Aouba, S.; Ruda, H. E.; Manners, I. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 1765.
17. Cyr, P. W.; Rider, D. A.; Kulbaba, K.; Manners, I. Macromolecules 2004, 37, 3959.
18. Zangmeister, C. D.; van Zee, R. D. Langmuir 2003, 19, 8065.
19. Geissler, M.; Wolf, H.; Stutz, R.; Delamarche, E.; Grummt, U.-W.; Michel, B.; Bietsch, A. Langmuir 2003, 19, 6301.
20. Mendes, P. M.; Jacke, S.; Critchley, K.; Plaza, J.; Chen, Y.; Nikitin, K.; Palmer, R. E.; Preece, J. A.; Evans, S. D.; Fitzmaurice, D. Langmuir 2004, 20, 3766.
21. Carvalho, A.; Geissler, M.; Schmid, H.; Michel, B.; Delamarche, E. Langmuir 2002, 18, 2406.
22. Martensson, T.; Carlberg, P.; Borgstrom, M.; Montelius, L.; Seifert, W.; Samuelson, L. Nano Lett. 2004, 4, 699.
23. Yan, X.-M.; Contreras, A. M.; Bokor, J.; Somorjai, G. A. Nano Lett. 2005, 5, 745.
24. Cherniavskaya, O.; Adzic, A.; Knutson, C.; Gross, B. J.; Zang, L.; Liu, R.; Adams, D. M. Langmuir 2002, 18, 7029.
25. Guo, Q.; Teng, X.; Rahman, S.; Yang, H. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 630.
26. Yan, Y.; Chan-Park, M. B.; Gao, J.; Yue, C. Y. Langmuir 2004, 20, 1031.
27. Yu, M.; Lin, J.; Wang, Z.; Fu, J.; Wang, S.; Zhang, H. J.; Han, Y. C. Chem. Mater. 2002, 14, 2224.
28. Ng, H. T.; Foo, M. L.; Fang, A.; Li, J.; Xu, G.; Jaenicke, S.; Chan, L.; Li, S. F. Y. Langmuir 2002, 18, 1.
29. Ormonde, A. D.; Hicks, E. C. M.; Castillo, J.; Van Duyne, R. P. Langmuir 2004, 20, 6927.
30. Kuo, C.-W.; Shiu, J.-Y.; Chen, P.; Somorjai, G. A. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 9950.
31. Bullen, H. A.; Garrett, S. J. Nano Lett. 2002, 2, 739.
32. Haynes, C. L.; McFarland, A. D.; Smith, M. T.; Hulteen, J. C.; Van Duyne, R. P. J. Phys. Chem. B 2002, 106, 1898.
33. Nakao, Y. Chem. Lett. 2000, 766.
34. Horiuchi, S.; Sarwar, M. L.; Nakao, Y. Adv. Mater. 2000, 12, 1507.
35. Horiuchi, S.; Fujita, T.; Hayakawa, T.; Nakao, Y. Langmuir 2003, 19, 2963.
36. Horiuchi, S.; Fujita, T.; Hayakawa, T.; Nakao, Y. Adv. Mater. 2003, 15, 1449.
37. Hirooka, H. IBM J. Res. Dev. 1977, 3, 121.
38. Yin, D.; Horiuchi, S.; Masuoka, T. Chem. Mater. 2005, 17, 463.
39. Park, M.; Harrison, C.; Chaikin, P. M.; Register, R. A.; Adamson, D. H. Science 1997, 276, 1401.
40. Spatz, J. P.; Eibeck, P.; Mossmer, S.; Moller, M.; Herzog, T.; Ziemann, P. Adv. Mater. 1998, 10, 849.
41. Lammertink, R. G. H.; Hempenius, M. A.; van den Enk, J. E.; Chan, V. Z.-H.; Thomas, E. L.; Vancso, G. J. Adv. Mater. 2000, 12, 98.
42. Chang, T. H. P.; Kern, D. P.; Kratschmer, E.; Lee, K. Y.; Luhn, H. E.; McCord, M. A.; Rishton, S. A.; Vladimirsky, Y. IBM J. Res. Dev. 1988, 32, 462.
43. Vieu, C.; Carcenac, F.; Pepin, A.; Chen, Y.; Mejias, M.; Lebib, A.; Manin-Ferlazzo, L.; Couraud, L.; Launois, H. Appl. Surf. Sci. 2000, 164, 111.
44. Kawano, H.; Kadowaki, Y.; Oonuki, K.; Ohta, H. Hitachi Rev. 2005, 54, 37.
45. Klabunde, K. J. Nanoscale Materials in Chemistry; Wiley-Interscience: New York, 2001; Chapter 8.
46. Müther, T.; Schulze, Th.; Jürgens, D.; Oberthaler, M. K.; Mlynek, J. Microelectron. Eng. 2001, 57-58, 857.
47. Yang, S.; Megens, M.; Aizenberg, J.; Wiltzius, P.; Chaikin, P. M.; Russel, W. B. Chem. Mater. 2002, 14, 2831.
48. Hirai, Y.; Harada, S.; Kikuta, H.; Tanaka, Y.; Okano, M.; Isaka, S.; Kobayasi, M. J. Vac. Sci. Technol., B 2002, 20, 2867.
49. Chen, X.; Chen, Z.; Fu, N.; Lu G.; Yang, B. Adv. Mater. 2003, 15, 1413.
50. Oikawa, M.; Iga, K.; Sanada, T.; Yamamoto, N.; Nishizawa, K. Jpn. J. Appl. Phys. 1981, 20, L296.
51. Popovic, Z. D.; Sprague, R. A.; Neville Connell, G. A. Appl. Opt. 1988, 27, 1281.