A quantum chemical study of the atomic layer deposition of Al 2O3 using AlCl3 and H2O as precursors

Journal of Physical Chemistry B

Volumn 108, Issue 18, 2004, Pages 5718-5725

  Heyman, Annica ^a   Musgrave, Charles B ^b  

^a STANFORD UNIVERSITY   (United States)

^b Stanford University   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ADSORPTION; AMORPHOUS MATERIALS; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; CHLORIDE MINERALS; CORROSION; CRYSTAL ATOMIC STRUCTURE; IMPURITIES; INDUCTANCE; ORGANOMETALLICS; SURFACE REACTIONS;

OPTICAL MULTILAYER COATING; SELF TERMINATING SURFACE REACTIONS; THERMODYNAMICS DRIVING FORCE;

ALUMINA;

EID: 2442713946     PISSN: 15206106     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp049762x     Document Type: Article

References (22)

1. Ritala, M.; Leskelä, M. In Handbook of Thin Film Materials; Nalwa, H. S., Ed.; Academic Press: San Diego, CA, 2001; Vol. 1, Chapter 2.
2. George, S. M.; Ott, A. W.; Klaus, J. W. J. Phys. Chem. 1996, 100, 13121.
3. Wilk, G. D.; Wallace, R. M.; Anthony, J. M. J. Appl. Phys. 2001, 89, 5243.
4. Suntola, T. S.; Pakkala, A. J.; Lindfors, S. G. U.S. Patent No. 4389973, 1983.
5. Suntola, T. S.; Pakkala, A. J.; Lindfors, S. G. U.S. Patent No. 4413022, 1983.
6. Manchanda, L.; Morris, M. D.; Green, M. L.; van Dover: R. B.; Klemens, F.; Sorsch, T. W.; Silverman, P. J.; Wilk, G.; Busch, B.; Aravamudhan, S. Microelectron. Eng. 2001, 59, 351.
7. van Corbach, H. D.; Haanappel, V. A. C.; Fransen, T.; Gellings, P. J. Thin Solid Films 1994, 239, 31.
8. Lux, B.; Colombier, C.; Altena, H.; Stjernberg, K. Thin Solid Films 1986, 138, 49.
9. Yang, W. S.; Kim, Y. K.; Yang, S.-Y.; Choi, J. H.; Park, H. S.; Lee, S. I.; Yoo, J.-B. Surf. Coat. Technol. 2000, 131, 79.
10. Riihelä, D.; Ritala, M.; Matero, R.; Leskelä, M. Thin Solid Films 1996, 289, 250.
11. Aarik, J.; Aidla, A.; Jaek, A.; Kiisler, A. A.; Tammik, A. A. Acta Polytech. Scand., Chem. Technol. Metall. Ser. 1990, 195, 201.
12. Hiltunen, L.; Kattelus, H.; Leskelä, M.; Makela, M.; Niinistö, L.; Nykänen, E.; Soininen, P.; Tiitta, M. Mater. Chem. Phys. 1991, 28, 379.
13. Yun, S. J.; Lee, K.-H.; Skarp, J.; Kim, H.-R.; Nam, K.-S. J. Vac. Sci. Technol., A 1997, 15, 2993.
14. Widjaja, Y.; Musgrave, C. B. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 3304.
15. Widjaja, Y.; Musgrave, C. B. J. Chem. Phys. 2002, 117, 1931.
16. Widjaja, Y.; Musgrave, C. B. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 304.
17. Becke, A. D. J. Chem. Phys. 1993, 98, 1372.
18. Frisch, M. J.; Trucks, G. W.; Schlegel, H. B.; Scuseria, G. E.; Robb, M. A.; Cheeseman, J. R.; Zakrzewski, V. G.; Montgomery, J. A., Jr.; Stratmann, R. E.; Burant, J. C.; Dapprich, S.; Millam, J. M.; Daniels, A. D.; Kudin, K. N.; Strain, M. C.; Farkas, O.; Tomasi, J.; Barone, V.; Cossi, M.; Cammi, R.; Mennucci, B.; Pomelli, C.; Adamo, C.; Clifford, S.; Ochterski, J.; Petersson, G. A.; Ayala, P. Y.; Cui, Q.; Morokuma, K.; Rega, N.; Salvador, P.; Dannenberg, J. J.; Malik, D. K.; Rabuck, A. D.; K., R.; Foresman, J. B.; Cioslowski, J.; Ortiz, J. V.; Baboul, A. G.; Stefanov, B. B.; Liu, G.; Liashenko, A.; Piskorz, P.; Komaromi, L; Gomperts, R.; Martin, R. L.; Fox, D. J.; Keith, T.; Al-Laham, M. A.; Peng, C. Y.; Nanayakkara, A.; Challacombe, M.; Gill, P. M. W.; Johnson, B.; Cheng, W.; Wong, M. W.; Andres, J. L.; Gonzales, C.; Head-Gordon, M.; Replogle, E. S.; Pople, J. A. Gaussian 98, revision A.11.2; Gaussian, Inc.: Pittsburgh, PA, 2001.
19. Han, J.; Wang, S.; Gordon, R. G.; Musgrave, C. B. Submitted, 2003.
20. Mui, C.; Musgrave, C. B. Submitted, 2003.
21. Halls, M.; Raghavachari, K.; Frank, M.; Chabal, Y. Phys. Rev. B 2003, 68, 161302.
22. Matero, R.; Rahtu, A.; Ritala, M.; Leskelä, M.; Sajavaara, T. Thin Solid Films 2000, 368, 1.