Preparation of amorphous CNx thin films by pulsed laser deposition using a radio frequency radical beam source

Journal of Applied Physics

Volumn 86, Issue 4, 1999, Pages 2318-2322

  Aoi, Yoshifumi ^a   Ono, Kojiro ^a   Kamijo, Eiji ^a  

^a RYUKOKU UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CARBON INORGANIC COMPOUNDS; CHEMICAL BONDS; DEPOSITION; FILM GROWTH; FILM PREPARATION; FOURIER TRANSFORM INFRARED SPECTROSCOPY; NITROGEN; PULSED LASER APPLICATIONS; RAMAN SCATTERING; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; THIN FILMS; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

NITROGEN RADIO FREQUENCY RADICAL BEAM SOURCES; PULSED LASER DEPOSITION (PLD);

AMORPHOUS FILMS;

EID: 0032606771     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.371048     Document Type: Article

References (40)

1. A. Liu and M. Cohen, Science 245, 841 (1989).
2. A. Liu and M. Cohen, Phys. Rev. B 41, 10727 (1990).
3. Y. Guo and W. A. Goddard III, Chem. Phys. Lett. 237, 72 (1995).
4. D. M. Teter, MRS Bull. 23, 22 (1998).
5. N. Nakayama, Y. Tsuchiya, S. Tamada, K. Kosuge, S. Nagata, K. Takahiro, and S. Yamaguchi, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 32, L1465 (1993).
6. H. Sjöström, L. Hultman, J.-E. Sundgren, S. V. Hainsworth, T. F. Page, and G. S. A. M. Theunissen, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 56 (1996).
7. W. T. Zheng, H. Sjöström, I. Ivanov, K. Z. Xing, E. Broitman, W. R. Salaneck, J. E. Greene, and J.-E. Sundgren, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 2696 (1996).
8. W. T. Zheng, E. Broitman, N. Hellgren, K. Z. Xing, I. Ivanov, H. Sjöström, L. Hultman, and J.-E. Sundgren, Thin Solid Films 308/309, 223 (1997).
9. N. Hellgren, M. P. Johansson, E. Broitman, L. Hultman, and J.-E. Sundgren, Phys. Rev. B 59, 5162 (1999).
10. M. Kohzaki, A. Matsumoto, T. Hayashi, M. Muramatsu, and K. Yamaguchi, Thin Solid Films 308/309, 239 (1997).
11. F. Alvarez, N. M. Victoria, P. Hammer, F. L. Freire, Jr., and M. C. dos Santos, Appl. Phys. Lett. 73, 1065 (1998).
12. L. C. Chen, C. K. Chen, S. L. Wei, D. M. Bhusari, K. H. Chen, Y. F. Chen, Y. C. Jong, and Y. S. Huang, Appl. Phys. Lett. 72, 3449 (1998).
13. S. Grigull, W. Jacob, D. Henke, C. Spaeth, L. Sümmchen, and W. Sigle, J. Appl. Phys. 83, 5185 (1998).
14. A. P. Caricato, G. Leggieri, A. Luches, A. Perrone, E. Gyorgy, I. N. Mihailescu, M. Popescu, G. Barucca, P. Mengucci, J. Zemek, and M. Trchova, Thin Solid Films 307, 54 (1997).
15. P. González, R. Soto, E. G. Parada, X. Redondas, S. Chiussi, J. Serra, J. Pou, B. León, and M. Pérez-Amor, Appl. Surf. Sci. 109/110, 380 (1997).
16. C. W. Ong, X.-A. Zhao, Y. C. Tsang, C. L. Choy, and P. W. Chan, J. Mater. Sci. 32, 2347 (1997).
17. C. Niu, Y. Z. Lu, and C. M. Lieber, Science 261, 334 (1993).
18. M. Y. Chen and P. T. Murray, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 2093 (1998).
19. T. W. Yen and C. P. Chou, Appl. Phys. Lett. 67, 2801 (1995).
20. Y. Chen, L. Guo, and E. G. Wang, J. Mater. Sci. 16, 594 (1997).
21. J. L. He and W. L. Chang, Surf. Coat. Technol. 99, 184 (1998).
22. Y. Tani, Y. Aoi, and E. Kamijo, Appl. Phys. Lett. 73, 1652 (1998).
23. Pulsed Laser Deposition of Thin Films, edited by D. G. Chrisey and G. K. Hubler (Wiley, New York, 1994).
24. D. L. Pappas, K. L. Saenger, J. J. Cuomo, and R. W. Dreyfus, J. Appl. Phys. 72, 3966 (1992).
25. D. L. Pappas, K. L. Saenger, J. Bruley, W. Krakow, J. J. Cuomo, T. Gu, and R. W. Collins, J. Appl. Phys. 71, 5675 (1992).
26. D. L. Lowndes, V. I. Merkulov, A. A. Puretzky, D. B. Geohegan, G. E. Jellison, Jr., C. M. Rouleau, and T. Thundat, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 526, 325 (1998).
27. R. M. Park, J. Vac. Sci. Technol. A 10, 701 (1992).
28. H. Liu, A. C. Frenkel, J. G. Kim, and R. M. Park, J. Appl. Phys. 74, 6124 (1993).
29. K. J. Clay, S. P. Speakman, G. A. J. Amaratunga, and S. R. P. Silva, J. Appl. Phys. 79, 7227 (1996).
30. N. Xu, Y. Du, Z. Ying, Z. Ren, F. Li, J. Lin, Y. Ren, and X. Zong, J. Phys. D 30, 1370 (1997).
31. M. A. Baker and P. Hammer, Surf. Interface Anal. 25, 301 (1997).
32. S. Lopez, H. M. Dunlop, M. Benmalek, G. Tourillon, M.-S. Wong, and W. D. Sproul, Surf. Interface Anal. 25, 315 (1997).
33. J. Q. Zhang, Y. Setsuhara, S. Miyake, and B. Kyoh, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 36, 6894 (1997).
34. S. Souto, M. Pickholz, M. C. dos Santos, and F. Alvarez, Phys. Rev. B 57, 2536 (1999).
35. J. H. Kaufman, S. Metin, and D. D. Saperstein, Phys. Rev. B 39, 13053 (1989).
36. M. R. Wixom, J. Am. Ceram. Soc. 73, 1973 (1990).
37. Y. F. Lu, Z. M. Ren, W. D. Song, D. S. H. Chan, T. S. Low, K. Gamani, G. Chen, and K. Li, J. Appl. Phys. 84, 2909 (1998).
38. R. O. Dillon and J. A. Woollam, Phys. Rev. B 29, 3482 (1984).
39. M. A. Tamor and W. C. Vassell, J. Appl. Phys. 76, 3823 (1994).
40. J. Bulíř, M. Jelínek, V. Vorlíček, J. Zemek, and V. Peŕina, Thin Solid Films 292, 318 (1997).