Effect of oxygen plasma on the surface states of ZnO films used to produce thin-film transistors on soft plastic sheets

Journal of Materials Chemistry C

Volumn 1, Issue 40, 2013, Pages 6613-6622

  Meena, Jagan Singh ^a   Chu, Min Ching ^a   Chang, Yu Cheng ^a   You, Hsin Chiang ^b   Singh, Ranjodh ^a   Liu, Po Tsun ^a   Shieh, Han Ping D ^a   Chang, Feng Chih ^a   Ko, Fu Hsiang ^a  

^a NATIONAL CHIAO TUNG UNIVERSITY   (Taiwan)

^b NATIONAL CHIN YI UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

C. THIN FILM TRANSISTOR (TFT); ELECTRONICS PRODUCTION; HIGH ELECTRON MOBILITY; MICROELECTRONICS TECHNOLOGY; PLASMA-SURFACE INTERACTIONS; THIN-FILM DEPOSITIONS; THIN-FILM TRANSISTOR (TFTS); TRANSPARENT ELECTRONICS;

BIOMEDICAL EQUIPMENT; CARRIER CONCENTRATION; COATINGS; DEPOSITION; ELECTRON MOBILITY; FLEXIBLE ELECTRONICS; FOURIER TRANSFORM INFRARED SPECTROSCOPY; METALLIC FILMS; MICROELECTRONICS; OXYGEN; PHOTOELECTRONS; PLASMA APPLICATIONS; PLASMA INTERACTIONS; PLASTIC SHEETS; SEMICONDUCTING ORGANIC COMPOUNDS; SURFACE STATES; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY; ZINC COATINGS; ZINC OXIDE;

THIN FILM TRANSISTORS;

EID: 84884835271     PISSN: 20507534     EISSN: 20507526     Source Type: Journal    
DOI: 10.1039/c3tc31320d     Document Type: Article

References (57)

1. A. Janotti C. G. van De Walle Rep. Prog. Phys. 2009 72 126501
2. Z. L. Wang X. Y. Kong Y. Ding P. Gao W. L. Hughes R. Yang Y. Zhang Adv. Funct. Mater. 2004 14 943
3. N. K. Hassan M. R. Hashim Y. Al-Douri K. Al-Heuseen Int. J. Electrochem. Sci. 2012 7 4625
4. Y.-S. Choi J.-W. Kang D.-K. Hwang S.-J. Park IEEE Trans. Electron Devices 2010 57 26
5. K. Laurent B. Q. Wang D. P. Yu Y. Leprince-Wang Thin Solid Films 2008 517 617
6. O. Maksimov Rev. Adv. Mater. Sci. 2010 24 26
7. M. H. Huang S. Mao H. Feick H. Yan Y. Wu H. Kind E. Weber R. Russo P. Yang Science 2001 292 1897
8. B. K. Roberts A. B. Pakhomov V. S. Shutthanandan K. M. Krishnan J. Appl. Phys. 2005 97 10D310
9. U. Özgür Ya. I. Alivov C. Liu A. Teke M. A. Reshchikov S. Doǧan V. Avrutin S.-J. Cho H. Morkoç J. Appl. Phys. 2005 98 041301
10. P. K. Shishodia H. J. Kim A. Wakahara A. Yoshida G. Shishodia R. M. Mehra J. Non-Cryst. Solids 2006 352 2343
11. K.-S. Jang D. Wee Y. H. Kim J. Kim T. Ahn J.-W. Ka M. H. Yi Langmuir 2013 29 7143
12. S. Y. Cho Y. H. Kang J.-Y. Jang S. Y. Nam J. Lim S. C. Yoon D. H. Choi C. Lee Chem. Mater. 2012 24 3517
13. Y. Jung T. Jun A. Kim K. Song T. H. Yeo J. Moon J. Mater. Chem. 2011 21 11879
14. K. Kim S. Park J.-B. Seon K.-H. Lim K. Char K. Shin Y. S. Kim Adv. Funct. Mater. 2011 21 3546
15. S. Y. Park B. J. Kim K. Kim M. S. Kang K.-H. Lim T. I. Lee J. M. Myoung H. K. Baik J. H. Cho Y. S. Kim Adv. Mater. 2012 24 834
16. E. M. C. Fortunato P. M. C. Barquinha A. C. M. B. G. Pimentel A. M. F. Gonçalves A. J. S. Marques L. M. N. Pereira R. F. P. Martins Adv. Mater. 2005 17 590
17. C. C. Liu M. L. Wu K. C. Liu S.-H. Hsiao Y. S. Chen G.-R. Lin J. J. Huang IEEE J. Display Technol. 2009 5 192
18. J. B. Franklin B. Zou P. Petrov D. W. McComb M. P. Ryan M. A. McLachlan J. Mater. Chem. 2011 21 8178
19. D. S. Bhachu G. Sankar I. P. Parkin Chem. Mater. 2012 24 4704
20. E. Guziewicz M. Godlewski T. Krajewski Ł. Wachnicki A. Szczepanik K. Kopalko A. Wójcik-Głodowska E. Przeździecka W. Paszkowicz E. Łusakowska P. Kruszewski N. Huby G. Tallarida S. Ferrari J. Appl. Phys. 2009 105 122413
21. M. A. Thomas J. B. Cui ACS Appl. Mater. Interfaces 2012 4 3122
22. K. Park D.-K. Lee B.-S. Kim H. Jeon N.-E. Lee D. Whang H.-J. Lee Y. J. Kim J.-H. Ahn Adv. Funct. Mater. 2010 20 3577
23. H. C. Cheng C. F. Chen C. Y. Tsay Appl. Phys. Lett. 2007 90 012113
24. C. S. Li Y. N. Li Y. L. Wu B. S. Ong R. O. Loutfy J. Mater. Chem. 2009 19 1626
25. J.-S. Lee S.-M. Song Y.-H. Kim J.-Y. Kwon M.-K. Han Phys. Status Solidi A 2013 1 5
26. M.-C. Chu J. S. Meena P.-T. Liu H.-P. D. Shieh H.-C. You Y.-W. Tu F.-C. Chang F.-H. Ko Appl. Phys. Express 2013 6 076501
27. H. Faber J. Hirschmann M. Klaumünzer B. Braunschweig W. Peukert M. Halik ACS Appl. Mater. Interfaces 2012 4 1693
28. J. S. Meena M.-C. Chu S.-W. Kuo F.-C. Chang F.-H. Ko Phys. Chem. Chem. Phys. 2010 12 2582
29. S.-Y. Han G. S. Harman C.-H. Chang J. Am. Chem. Soc. 2011 133 5166
30. R. Martins E. Fortunato P. Nunes I. Ferreira A. Marques M. Bender N. Katsarakis V. Cimalla G. Kiriakidis J. Appl. Phys. 2004 96 1398
31. P.-T. Liu Y.-T. Chou L.-F. Teng Appl. Phys. Lett. 2009 95 233504
32. P. P. Edwards A. Porch M. O. Jones D. V. Morgan R. M. Perks Dalton Trans. 2004 2995
33. T.-Y. Tseng and S. M. Sze, Nonvolatile Memories: Materials, Devices and Applications, American Scientific Publishers, Los Angeles, California, USA, 2012, vol. 1
34. R. Eason, Pulsed Laser Deposition of Thin Films: Applications-LED Growth of Functional Materials, Wiley-Interscience, A John Wiley & Sons, INC., Publications, New York, 2007
35. M. S. Hammer D. Rauh V. Lorrmann C. Deibel V. Dyakonov Nanotechnology 2008 19 485701
36. V. A. Johnson K. Lark-Horovitz Phys. Rev. 1953 92 226
37. J. Y. Lee C. M. Shin J. H. Heo C. R. Kim J. H. Park T. M. Lee H. Ryu C. S. Son B. C. Shin W. J. Lee Current Applied Physics 2010 10 S290
38. M. Mekhnache A. Drici L. S. Hamideche H. Benzarouk A. Amara L. Cattin J. C. Bernede M. Guerioune Superlattices Microstruct. 2011 49 510
39. Z. L. Pei X. B. Zhang G. P. Zhang J. Gong C. Sun R. F. Huang L. S. Wen Thin Solid Films 2006 497 20
40. P. K. Nayak M. N. Hedhili D. Cha H. N. Alshareef Appl. Phys. Lett. 2012 100 202106
41. Z. Fan D. Wang P.-C. Chang W.-Y. Tseng J. G. Lu Appl. Phys. Lett. 2004 85 5923
42. M.-G. Kim H. S. Kim Y.-G. Ha J. He M. G. Kanatzidis A. Facchetti T. J. Marks J. Am. Chem. Soc. 2010 132 10352
43. J. Xie D. Xin H. Cao C. Wang Y. Zhao L. Yao F. Ji Y. Qiu Surf. Coat. Technol. 2011 206 191
44. K. Y. Rhee S. J. Park D. Hui Y. Qiu Composites, Part B 2012 43 2395
45. M. N. Kamalasanan S. Chandra Thin Solid Films 1996 288 112
46. A. Kelchtermans K. Elen K. Schellens B. Conings H. Damm H.-G. Boyen J. D'Haen P. Adriaensens A. Hardy M. K. Van Bael RSC Adv. 2013 3 15254
47. S. K. Sharma A. I. Inamdar H. Im B. G. Kim P. S. Patil J. Alloys Compd. 2011 509 2127
48. C. Busch G. Schierning R. Theissmann R. Schmechel J. Appl. Phys. 2012 112 034506
49. J. S. Meena M.-C. Chu C.-S. Wu Y.-C. Chang F.-C. Chang F.-H. Ko Org. Electron. 2011 12 1414
50. L. Li W. Hu L. Chi H. Fuchs J. Phys. Chem. B 2010 114 5315
51. I. Abdel-Motaleb N. Shetty K. Leedy R. Cortez J. Appl. Phys. 2011 109 014503
52. C. G. Van de Walle Phys. Rev. Lett. 2000 85 1012
53. B. S. Ong C. Li Y. Li Y. Wu R. Loutfy J. Am. Chem. Soc. 2007 129 2750
54. K. Song J. Noh T. Jun Y. Jung H.-Y. Kang J. Moon Adv. Mater. 2010 22 4308
55. M. Liu H. K. Kim Appl. Phys. Lett. 2004 84 173
56. C. W. Litton, D. C. Reynolds and T. C. Collins, Zinc Oxide Materials for Electronic and Optoelectronic Device Applications, Wiley, Chichester, UK, 2011
57. S. Walther S. Polster M. P. M. Jank H. Thiem H. Ryssel L. Frey Adv. Powder Technol. 2011 22 253