Tunneling characteristics of Au-alkanedithiol-Au junctions formed via nanotransfer printing (nTP)

Journal of the American Chemical Society

Volumn 134, Issue 29, 2012, Pages 12072-12082

  Niskala, Jeremy R ^a   Rice, William C ^a   Bruce, Robert C ^a   Merkel, Timothy J ^a   Tsui, Frank ^a   You, Wei ^a  

^a University of North Carolina at Chapel Hill   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALKANE MOLECULES; AU ELECTRODES; AU THIN FILMS; CURRENT VOLTAGE CURVE; I - V CURVE; LATERAL DIMENSION; METAL ELECTRODES; METAL-MOLECULE INTERFACE; MOLECULAR LAYER; NANOTRANSFER PRINTING (NTP); PERFLUOROPOLYETHERS; PROTECTION LAYERS; SIMMONS MODEL; THEORETICAL VALUES; TUNNELING BARRIER; TUNNELING CHARACTERISTICS; UPPER BOUND;

ELECTRIC PROPERTIES; EQUIPMENT TESTING; METALS; PARAFFINS; PRINTING; SELF ASSEMBLED MONOLAYERS; THIN FILMS; TRANSPORT PROPERTIES;

MOLECULES;

ALKANE; ALKANEDITHIOL; GOLD NANOPARTICLE; SELF ASSEMBLED MONOLAYER; THIOL DERIVATIVE; UNCLASSIFIED DRUG;

ARTICLE; CHEMICAL ANALYSIS; ELECTRODE; FILM; MODEL; MOLECULAR INTERACTION; NANOTRANSFER PRINTING; PRINTING; SIMMONS MODEL;

EID: 84864255364     PISSN: 00027863     EISSN: 15205126     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/ja302602b     Document Type: Article

References (66)

1. Heath, J. R. Annu. Rev. Mater. Res. 2009, 39, 1-23
2. Akkerman, H. B.; de Boer, B. J. Phys.: Condensed Matter 2008, 20, 013001
3. Mann, B.; Kuhn, H. J. Appl. Phys. 1971, 42, 4398-4405
4. Chen, F.; Hihath, J.; Huang, Z.; Li, X.; Tao, N. J. Annu. Rev. Phys. Chem. 2007, 58, 535-564
5. Kelley, T. W.; Granstrom, E.; Frisbie, C. D. Adv. Mater. 1999, 11, 261-264
6. Loo, Y.-L.; Lang, D. V.; Rogers, J. A.; Hsu, J. W. P. Nano Lett. 2003, 3, 913-917
7. Akkerman, H. B.; Blom, P. W. M.; de Leeuw, D. M.; de Boer, B. Nature 2006, 441, 69-72
8. Chiechi, R. C.; Weiss, E. A.; Dickey, M. D.; Whitesides, G. M. Angew. Chem., Int. Ed. 2008, 47, 142-144
9. Li, C.; Pobelov, I.; Wandlowski, T.; Bagrets, A.; Arnold, A.; Evers, F. J. Am. Chem. Soc. 2008, 130, 318-326
10. de Boer, B.; Frank, M. M.; Chabal, Y. J.; Jiang, W.; Garfunkel, E.; Bao, Z. Langmuir 2004, 20, 1539-1542
11. Chen, J.; Reed, M. A.; Rawlett, A. M.; Tour, J. M. Science 1999, 286, 1550-1552
12. Wang, W.; Lee, T.; Reed, M. A. Phys. Rev. B 2003, 68, 035416
13. Wang, W.; Lee, T.; Kretzschmar, I.; Reed, M. A. Nano Lett. 2004, 4, 643-646
14. Kim, T.-W.; Wang, G.; Lee, H.; Lee, T. Nanotechnology 2007, 18, 315204
15. Reed, M. A.; Zhou, C.; Muller, C. J.; Burgin, T. P.; Tour, J. M. Science 1997, 278, 252-254
16. Rampi, M. A.; Schueller, O. J. A.; Whitesides, G. M. Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 1781-1783
17. York, R. L.; Nguyen, P. T.; Slowinski, K. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 5948-5953
18. Weiss, E. A.; Chiechi, R. C.; Kaufman, G. K.; Kriebel, J. K.; Li, Z.; Duati, M.; Rampi, M. A.; Whitesides, G. M. J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 4336-4349
19. Kushmerick, J. G.; Holt, D. B.; Yang, J. C.; Naciri, J.; Moore, M. H.; Shashidhar, R. Phys. Rev. Lett. 2002, 89, 086802
20. Li, X.; He, J.; Hihath, J.; Xu, B.; Lindsay, S. M.; Tao, N. J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 2135-2141
21. Wold, D. J.; Haag, R.; Rampi, M. A.; Frisbie, C. D. J. Phys. Chem. B 2002, 106, 2813-2816
22. Wang, G.; Kim, T.-W.; Jo, G.; Lee, T. J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 5980-5985
23. Engelkes, V. B.; Beebe, J. M.; Frisbie, C. D. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 14287-14296
24. Salomon, A.; Cahen, D.; Lindsay, S.; Tomfohr, J.; Engelkes, V. B.; Frisbie, C. D. Adv. Mater. 2003, 15, 1881-1890
25. Akkerman, H. B.; Kronemeijer, A. J.; Harkema, J.; van Hal, P. A.; Smits, E. C. P.; de Leeuw, D. M.; Blom, P. W. M. Org. Electron. 2008, 11, 146-149
26. Akkerman, H. B.; Naber, R. C. G.; Jongbloed, B.; van Hal, P. A.; Blom, P. W. M.; de Leeuw, D. M.; de Boer, B. Proc. Natl. Acad. Sci. U.S.A. 2007, 104, 11161-11166
27. Wang, G.; Yoo, H.; Na, S.-I.; Kim, T.-W.; Cho, B.; Kim, D.-Y.; Lee, T. Thin Solid Films 2009, 518, 824-828
28. Wang, G.; Kim, Y.; Choe, M.; Kim, T.-W.; Lee, T. Adv. Mater. 2011, 23, 755-760
29. Loo, Y.-L.; Willett, R. L.; Baldwin, K. W.; Rogers, J. A. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 562-564
30. Loo, Y.-L.; Willett, R. L.; Baldwin, K. W.; Rogers, J. A. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 7654-7655
31. Lee, B. H.; Cho, Y. H.; Lee, H.; Lee, K. D.; Kim, S. H.; Sung, M. M. Adv. Mater. 2007, 19, 1714-1718
32. Kaoru, O.; Yoichi, O.; Takuya, M.; Tomoji, K.; Kenichiro, N.; Shinji, M. Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 234110
33. Guerin, D.; Merckling, C.; Lenfant, S.; Wallart, X.; Pleutin, S.; Vuillaume, D. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 7947-7956
34. Kim, J.-W.; Yang, K.-Y.; Hong, S.-H.; Lee, H. Appl. Surf. Sci. 2008, 254, 5607-5611
35. Loo, Y.-L.; Hsu, J. W. P.; Willett, R. L.; Baldwin, K. W.; West, K. W.; Rogers, J. A. J. Vac. Sci. Technol. B 2002, 20, 2853-2856
36. Wang, R. Y.; Segalman, R. A.; Majumdar, A. Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 173113
37. Felmet, K.; Loo, Y.-L.; Sun, Y. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 3316-3318
38. Jiang, W.; Garfunkel, E.; Zhitenev, N.; Abusch-Magder, D.; Tennant, D.; Bao, Z. Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 113107
39. Fan, X.; Rogow, D. L.; Swanson, C. H.; Tripathi, A.; Oliver, S. R. J. Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 163114
40. Niskala, J. R.; You, W. J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 13202-13203
41. Tomfohr, J. K.; Sankey, O. F. Phys. Rev. B 2002, 65, 245105
42. Vericat, C.; Vela, M. E.; Benitez, G.; Carro, P.; Salvarezza, R. C. Chem. Soc. Rev. 2010, 39, 1805-1834
43. Love, J. C.; Estroff, L. A.; Kriebel, J. K.; Nuzzo, R. G.; Whitesides, G. M. Chem. Rev. 2005, 105, 1103-1170
44. Hoertz, P. G.; Niskala, J. R.; Dai, P.; Black, H. T.; You, W. J. Am. Chem. Soc. 2008, 130, 9763-9772
45. Millone, M. a. A. D.; Hamoudi, H.; Rodríguez, L.; Rubert, A.; Benítez, G. A.; Vela, M. a. E.; Salvarezza, R. C.; Gayone, J. E.; Sánchez, E. A.; Grizzi, O.; Dablemont, C. l.; Esaulov, V. A. Langmuir 2009, 25, 12945-12953
46. Akkerman, H.e B.; Kronemeijer, A. J.; van Hal, P. A.; de Leeuw, D. M.; Blom, P. W. M.; de Boer, B. Small 2008, 4, 100-104
47. Rieley, H.; Kendall, G. K.; Zemicael, F. W.; Smith, T. L.; Yang, S. Langmuir 1998, 14, 5147-5153
48. Carot, M. L.; Esplandiu, M. J.; Cometto, F. P.; Patrito, E. M.; Macagno, V. A. J. Electroanal. Chem. 2005, 579, 13-23
49. Rolland, J. P.; Hagberg, E. C.; Denison, G. M.; Carter, K. R.; Simone, J. M. D. Angew. Chem., Int. Ed. 2004, 43, 5796-5799
50. Simmons, J. G. J. Appl. Phys. 1963, 34, 1793-1803
51. Simmons, J. G. J. Appl. Phys. 1963, 34, 2581-2590
52. Wang, G.; Kim, T.-W.; Jang, Y. H.; Lee, T. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 13010-13016
53. Poirier, G. E. Chem. Rev. 1997, 97, 1117-1128
54. Schreiber, F. Prog. Surf. Sci. 2000, 65, 151-257
55. Ulman, A. Chem. Rev. 1996, 96, 1533-1554
56. Luca, M. G.; Riccarda, C.; Luigi Delle, S. J. Phys.: Condens. Matter 2007, 19, 176004
57. Barrena, E.; Ocal, C.; Salmeron, M. J. Chem. Phys. 2000, 113, 2413-2418
58. Barrena, E.; Ocal, C.; Salmeron, M. J. Chem. Phys. 2001, 114, 4210-4214
59. Slowinski, K.; Chamberlain, R. V.; Miller, C. J.; Majda, M. J. Am. Chem. Soc. 1997, 119, 11910-11919
60. Wang, G.; Kim, T.-W.; Lee, H.; Lee, T. Phys. Rev. B 2007, 76, 205320
61. Xu, B.; Tao, N. J. Science 2003, 301, 1221-1223
62. Wold, D. J.; Frisbie, C. D. J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 5549-5556
63. Cui, X. D.; Zarate, X.; Tomfohr, J.; Sankey, O. F.; Primak, A.; Moore, A. L.; Moore, T. A.; Gust, D.; Harris, G.; Lindsay, S. M. Nanotechnology 2002, 13, 5-14
64. Koch, N.; Kahn, A.; Ghijsen, J.; Pireaux, J. J.; Schwartz, J.; Johnson, R. L.; Elschner, A. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 70-72
65. Song, H.; Lee, T.; Choi, N.-J.; Lee, H. Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 253116
66. Krim, J. Sci. Am. 1996, 275, 74-80