High-resolution patterning of aluminum thin films with a water-mediated transfer process

Advanced Materials

Volumn 19, Issue 13, 2007, Pages 1714-1718

  Lee, Byoung H ^a   Cho, Yeon H ^a   Lee, Haiwon ^a   Lee, Ki Dong ^b   Kim, Sang H ^b   Sung, Myung M ^a  

^a Hanyang University   (South Korea)

^b LG Electronics Inc   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALUMINUM; ELECTRODEPOSITION; LITHOGRAPHY; NANOTECHNOLOGY; POLYDIMETHYLSILOXANE;

OCTADECYLSILOXANE; PATTERN-TRANSFER PROCESS; THIN WATER LAYER; WATER-MEDIATED TRANSFER PROCESSES;

THIN FILMS;

EID: 34547305735     PISSN: 09359648     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adma.200601884     Document Type: Article

References (40)

1. G. M. Wallraff, W. D. Hinsberg, Chem. Rev. 1999, 99, 1801.
2. J. Yao, J. Micromech. Microeng. 2000, 10, R9.
3. J. A. Walker, J. Micromech. Microeng. 2000, 10, R1.
4. S. M. Spearing, Acta Mater. 2000, 48, 179.
5. Y. Dong, C. Shannon, Anal. Chem. 2000, 72, 2371.
6. J. Lahiri, L. Isaacs, J. Tien, G. M. Whitesides, Anal. Chem. 1999, 71, 777.
7. K. Sirkar, A. Revzin, M. V. Pishko, Anal. Chem. 2000, 72, 2930.
8. M. Wells, R. M. Crooks, J. Am. Chem. Soc. 1996, 118, 3988.
9. D. J. Beebe, J. S. Moore, Q. Yu, R. H. Liu, M. L. Kraft, B. Jo, C. Devadoss, Proc. Natl. Acad. Sci. USA 2000, 97, 13 488.
10. D. J. Beebe, G. A. Mensing, G. M. Walker, Annu. Rev. Biomed. Eng. 2002, 4, 261.
11. J. Rossier, F. Reymond, P. E. Michel, Electrophoresis 2002, 23, 858.
12. H. Becker, C. Gartner, Electrophoresis 2000, 21, 12.
13. H. E. Maes, C. Claeys, R. Mertens, A. Campitelli, C. Van Hoff, J. De Boeck, Adv. Eng. Mater. 2001, 3, 781.
14. Y. Xia, J. A. Rogers, K. E. Paul, G. M. Whitesides, Chem. Rev. 1999, 99, 1823.
15. Y. Xia, G. M. Whitesides, Angew. Chem. Int. Ed. 1998, 37, 550.
16. A. Kumar, H. A. Biebuyck, N. L. Abbott, G. M. Whitesides, J. Am. Chem. Soc. 1992, 114, 9188.
17. A. Kumar, G. M. Whitesides, Appl. Phys. Lett. 1993, 63, 2002.
18. A. Kumar, H. A. Biebuyck, G. M. Whitesides, Langmuir 1994, 10, 1498.
19. Y. Xia, X. Zhao, G. M. Whitesides, Microelectron. Eng. 1996, 32, 255.
20. Y. Masuda, Y. Jinbo, T. Yonezawa, K. Koumoto, Chem. Mater. 2002, 14, 1236.
21. Y.-L. Loo, R. L. Willett, K. W. Baldwind, J. A. Rogers, J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 7654.
22. Y.-L. Loo, R. L. Willett, K. W. Baldwind, J. A. Rogers, Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 562.
23. J. Zaumseil, M. A. Meitl, J. W. P. Hsu, B. R. Acharya, K. W. Baldwind, Y.-L. Loo, J. A. Rogers, Nano Lett. 2003, 3, 1223.
24. E. Menard, L. Bilhaut, J. Zaumseil, J. A. Rogers, Langmuir 2004, 20, 6871.
25. J. A. Rogers, R. G. Nuzzo, Mater. Today 2005, 8(2), 50.
26. W. R. Childs, R. G. Nuzzo, J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 13 583.
27. W. R. Childs, R. G. Nuzzo, Adv. Mater. 2004, 16, 1323.
28. W. R. Childs, R. G. Nuzzo, Langmuir 2005, 21, 195
29. K. S. Park, E. K. Seo, Y. R. Do, K. Kim, M. M. Sung, J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 2858.
30. J. S. Kim, K. D. Lee, S. W. Ahn, S. H. Kim, J. D. Park, S. E. Lee, S. S. Yoon, J. Korean Phys. Soc. 2004, 45, S890.
31. A. Maskara, D. M. Smith, J. Am. Ceram. Soc. 1997, 80, 1715.
32. G. I. Tardos, R. Gupta, Powder Technol. 1996, 87, 175.
33. E. Laarz, B. V. Zhmud, L. Bergström, J. Am. Ceram. Soc. 2000, 83, 2394.
34. B. Bika, G. I. Tardos, S. Panmai, L. Farber, J. Michaels, Powder Technol. 2005, 150, 104.
35. K. Komvopoulos, Wear 1996, 200, 305.
36. R. Maboudian, R. T. Howe, J. Vac. Sci. Technol. B 1997, 15, 1.
37. D. K. Aswal, N. Joshi, A. K. Debnath, S. K. Gupta, D. Vuillaume, J. V. Yakhmi, Phys. Status Solidi A 2006, 203, 1254.
38. H. D. Liu, Y.-P. Zhao, G. Ramanath, S. P. Murarka, G.-C. Wang, Thin Solid Films 2001, 384, 151.
39. L. Libioulle, A. Bietsch, H. Schmid, B. Michel, E. Delamarche, Langmuir 1999, 15, 300.
40. A. Ishizaka, Y. Shiraki, J. Electrochem. Soc. 1986, 133, 666