Actinic phase defect detection for extreme ultraviolet lithography mask with absorber patterns

Japanese Journal of Applied Physics

Volumn 49, Issue 6 PART 2, 2010, Pages

  Terasawa, Tsuneo ^a   Yamane, Takeshi ^a   Tanaka, Toshihiko ^a   Suga, Osamu ^a   Tomie, Toshihisa ^b  

^a SEMICONDUCTOR LEADING EDGE TECHNOLOGIES INC   (Japan)

^b NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY AIST   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ABSORBER PATTERN; AT-WAVELENGTH; DARK-FIELD; EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY MASKS; MASK BLANK; PERIODIC PATTERN; PHASE DEFECTS; PHASE-DEFECT DETECTION; SIGNAL-TO-BACKGROUND RATIO; TEST MASKS;

DEFECTS; EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY; MASKS; SIGNAL DETECTION;

INSPECTION;

EID: 77955331293     PISSN: 00214922     EISSN: 13474065     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/JJAP.49.06GD02     Document Type: Article

References (26)

1. O. Wood, C.-S. Koay, K. Petrillo, H. Mizuno, S. Raghunathan, J. Arnold, D. Horak, M. Burkhardt, G. McIntyre, Y. Deng, B. La Fontaine, U. Okoroanyanwu, A. Tchikoulaeva, T. Wallow, J. H.-C. Chen, M. Colburn, S. S.-C. Fan, B. S. Haran, and Y. Yin: Proc. SPIE 7271 (2009) 727104.
2. J. V. Hermans, B. Baudemprez, G. Lorusso, E. Hendrickx, A. van Dijk, R. Jonckheere, and A.-M. Goethals: Proc. SPIE 7271 (2009) 72710T.
3. K. Tawarayama, H. Aoyama, T. Kamo, S. Magoshi, Y. Tanaka, S. Shirai, and H. Tanaka: Jpn. J. Appl. Phys. 48 (2009) 06FA02.
4. T. Shoki, M. Hosoya, T. Kinoshita, H. Kobayashi, Y. Usui, R. Ohkubo, S. Ishibashi, and O. Nagarekawa: Proc. SPIE 4754 (2002) 857.
5. T. Kamo, H. Aoyama, T. Tanaka, and O. Suga: Proc. SPIE 6730 (2007) 673017.
6. N. Kikuiri, M. Hirono, R. Hirano, T. Amano, O. Suga, H. Shigemura, H. Hashimoto, K. Takahara, and K. Usuda: Proc. SPIE 7488 (2009) 74882O.
7. W. Cho, P. A. Kearney, E. M. Gullikson, A. Jia, T. Tamura, A. Tajima, H. Kusunose, and C. U. Jeon: Proc. SPIE 6517 (2007) 65170D.
8. S. S. Kim, J. Park, R. Chalykh, J. Kang, S. Lee, S. Woo, H. Cho, and J. Moon: Proc. SPIE 6151 (2006) 61511C.
9. E. M. Gullikson, C. Cerjan, D. G. Sterns, P. B. Mirkarimi, and D. B. Sweeney: J. Vac. Sci. Technol. B 20 (2002) 81.
10. T. Haga, H. Takenaka, and M. Fukuda: J. Vac. Sci. Technol. B 18 (2000) 2916.
11. M. Yi, T. Haga, C. Walton, and J. Boker: J. Vac. Sci. Technol. B 19 (2001) 2401.
12. T. Haga, H. Kinoshita, K. Hamamoto, S. Takada, N. Kazui, S. Kakunai, H. Tsubakino, and T. Watanabe: Jpn. J. Appl. Phys. 42 (2003) 3771.
13. H. Kinoshita, T. Haga, K. Hamamoto, S. Takada, N. Kazui, S. Kakunai, H. Tsubakino, T. Shoki, M. Endo, and T. Watanabe: J. Vac. Sci. Technol. B 22 (2004) 264.
14. E. M. Gullikson, E. Tejnil, T. Liang, and A. Stivers: Proc. SPIE 5374 (2004) 791.
15. K. A. Goldberg, A. Barty, Y. Liu, P. Kearny, Y. Tezuka, T. Terasawa, J. S. Taylor, H. S. Han, and O. R. Wood: J. Vac. Sci. Technol. B 24 (2006) 2824.
16. Y. Kamaji, K. Takase, T. Yoshizumi, T. Sugiyama, T. Uno, T. Watanabe, and H. Kinoshita: Jpn. J. Appl. Phys. 48 (2009) 06FA07.
17. T. Tomie, T. Terasawa, Y. Tezuka, and N. Ito: Proc. SPIE 5038 (2003) 41.
18. Y. Tezuka, M. Ito, T. Terasawa, and T. Tomie: Proc. SPIE 5038 (2003) 866.
19. T. Terasawa, Y. Tezuka, M. Ito, and T. Tomie: Proc. SPIE 5446 (2004) 804.
20. T. Tanaka, Y. Tezuka, T. Terasawa, and T. Tomie: Proc. SPIE 6152 (2006) 61523U.
21. Y. Tezuka, T. Tanak, T. Terasawa, and T. Tomie: Jpn. J. Appl. Phys. 45 (2006) 5359.
22. T. Terasawa, T. Yamane, T. Tanak, T. Iwasaki, O. Suga, and T. Tomie: Jpn. J. Appl. Phys. 48 (2009) 06FA04.
23. T. Terasawa, T. Yamane, T. Tanaka, T. Iwasaki, O. Suga, and T. Tomie: Proc. SPIE 7271 (2009) 727122.
24. T. Yamane, T. Tanaka, T. Terasawa, and O. Suga: Proc. SPIE 7488 (2009) 74881B.
25. T. Kinoshita, T. Shoki, H. Kobayashi, R. Ohkubo, Y. Usui, M. Hosoya, N. Sakaya, and O. Nagarekawa: Proc. SPIE 5256 (2003) 595.
26. J. C. Stover: Optical Scattering-Measurement and Analysis (SPIE Press, Bellingham, WA, 1995) 2nd ed., p. 44.