Fabrication of epitaxial III-nitride cantilivers on silicon (1 1 1) substrates

Journal of Materials Science: Materials in Electronics

Volumn 15, Issue 11, 2004, Pages 705-710

  Davies, S ^a   Huang, T S ^a   Murray, R T ^a   Gass, M H ^a   Papworth, A J ^a   Joyce, T B ^a   Chalker, P R ^a  

^a UNIVERSITY OF LIVERPOOL   (United Kingdom)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALUMINUM NITRIDE; CRYSTAL STRUCTURE; DRY ETCHING; ELECTRON ENERGY LOSS SPECTROSCOPY; ELECTRONIC STRUCTURE; GALLIUM NITRIDE; INDUCTIVELY COUPLED PLASMA; INTERFACES (MATERIALS); SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; SEMICONDUCTING ALUMINUM COMPOUNDS; SEMICONDUCTING SILICON; TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY;

ALUMINUM ARSENIDE; NITRIDE SEMICONDUCTOR CANTILEVERS; SEMICONDUCTING ALUMINUM GALLIUM NITRIDE;

MOLECULAR BEAM EPITAXY;

EID: 4644327215     PISSN: 09574522     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1023/B:JMSE.0000043416.67986.10     Document Type: Article

References (29)

1. S. J. PEARTON, C. R. ABERNATHY, F. REN, J. R. LOTHIAN, P. W. WISK and A. KATZ, J Vac. Sci. Technol. A 11 (1993) 1772.
2. C. R. EDDY, JR and B. MOLNAR, J Electron. Mater. 28 (1999) 314.
3. A. R. STONAS, P. KODOZY, H. MARCHAND, P. FINI, S. P. DENBAARS, U. K. MISHRA and E. L. HU, Appl. Phys. Lett. 77 (2000) 2610.
4. A. R. STONAS, N. C. MCDONALD, K. L. TURNER, S. P. DENBAARS and E. L. HU, J. Vac. Sci. Technol. B 19 (2001) 1071.
5. A. OHTANI, K. S. STEVENS and R. BERESFORD, Appl. Phys. Lett. 65 (1994) 61.
6. Z. YANG, F. GUARIN, W. TAO, W. I. WANG and S. S. IYER, J. Vac. Sci. Technol. B 13 (1995) 789.
7. U. ROSSNER, Y L. ROUVIERE, A. BOURRET and A. BARSKI, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 395 (1996) 145.
8. M. A. SÁNCHEZ-GARCÍA, E. CALLEJA, E. MONROY, F. J. SANCHEZ, F. CALLE, E. MUNOZ and R. BERESFORD, J. Cryst. Growth 183 (1998 ) 23.
9. E. S. HELLMAN, D. N. E. BUCHANAN and C. H. CHEN, MRS Int. J. Nitride Semicond. Res. 3 (1998) 43.
10. H. P. D. SCHENK, G. D. KIPSHIDZE, V. B. LEBEDEV, S. SHOKHOVETS, R. GOLDHAHN, J. KRAULICH, A. FISSEL and W. RICHTER, J. Cryst. Growth 201 (1999) 359.
11. F. SEMOND, B. DAMILANO, S. VEZIAN, N. GRANDJEAN, M. LEROUX and J. MASSIES, Appl. Phys. Lett. 75 (1999) 82.
12. F. SEMOND, P. LORENZINI, N. GRANDJEAN and J. MASSIES, Appl. Phys. Lett. 78 (2001) 335.
13. J. STECKL, J. DEVRAJAN, C. TRAN and R. A. STALL, Appl. Phys. Lett. 69 (1996) 2264.
14. J. W. YANG, C. J. SUN, Q. CHEN, M. Z. ANWAR, M. ASIF KHAN, S. A. NIKISHIN, G. A. SERYOGIN, A. V. OSINSKY, L. CHERNYAK, H. TEMKIN, CHIMIN HU and S. MAHAJAN, Appl. Phys. Lett. 69 (1996) 3566.
15. N. P. KOBAYASHI, J. T. KOBAYASHI, P. D. DAPKUS, W. J. CHOI, A. E. BOND, X. ZHANG andD. H. RICH, Appl. Phys. Lett. 71 (1997) 3569.
16. A. IZUMI and H. MATSUMURA, Appl. Phys. Lett. 71 (1997) 1371.
17. C. B. VARTULI, J. D. MCKENZIE, J. W. LEE, C. R. ABERNATHY and S. J. PEARTON, J. Appl. Phys. 80 (1996) 3705.
18. T. S. HUANG, T. B. JOYCE, R. T. MURRAY and P. R. CHALKER, J. Phys. D: Appl. Phys. 35 (2002) 620.
19. R. J. SCHUL, S. P. KILCOYNE, A. CASALNUOVO, D. J. RIEGER and S. J. PEARTON, Appl. Phys. Lett. 69 (1996) 1119.
20. N. P. KOBAYASHI, J. T. KOBAYASHI, P. D. DAPKUS, W.-J. CHOI, A.E. BOND,X. ZHANG and D. H. RICH, Appl. Phys. Lett. 71 (1997) 3569.
21. R. F. EGERTON, "Electron Energy-Loss Spectroscopy in the Electron Microscope" (Plenum Press, New York, ISBN 0-306- 42158-5 1986) Chapter 5.
22. S. C. BINARI, J. M. REDWING, G. KLENER and W. KRUPPA, Electron. Lett. 33 (1997) 242.
23. S. N. MOHAMMAD, A. SALVADOR and H. MORKOÇ, Proc. IEEE 83 (1995) 1306.
24. B. DAUDIN, J. L. ROUVIERRE and M. ARLEY, Appl. Phys. Lett 69 (1996) 2480.
25. T. FARRELL and J. V. ARMSTRONG, Appl. Surf. Sci. 86 (1995) 582.
26. S. A. SMITH, C. A. WOLDEN, M. D. BREMSER, A. D. HANSER, R. F. DAVIS and W. V. LAMPERT, Appl. Phys. Lett. 71 (1997) 3631.
27. J. K. SHEU, Y. K. SU, G. C. CHI, M. J. JOU, C. C. LIU, C. M. CHANG and W. C. HUNG, J Appl. Phys. 85 (1999) 1970.
28. J. M. ZAVADA, C. R. ABERNATHY, S. J. PEARTON, J. D. MCKENZIE, J. R. MILEHAM, R. G. WILSON and R. N. SCHWARTZ, Solid-State Electron. 41 (1997) 353.
29. H. SIEDEL, L. CSEPREGI, A. HEUBERGER and H. BAUMGARTEL, J. Electrochem. Soc. 137 (1990) 3612.