Inductively coupled plasma etching of GaN using Cl2/Ar and Cl2/N2 gases

Journal of Applied Physics

Volumn 85, Issue 3, 1999, Pages 1970-1974

  Sheu, J K ^a   Su, Y K ^a   Chi, G C ^b   Jou, M J ^c   Liu, C C ^c   Chang, C M ^c   Hung, W C ^c  

^a NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY   (Taiwan)

^b NATIONAL CENTRAL UNIVERSITY   (Taiwan)

^c EPISTAR CORPORATION   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001662910     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.369188     Document Type: Article

References (11)

1. R. F. Davis, Proc. IEEE 79, 702 (1991).
2. M. E. Lin, Z. F. Fan, Z Ma, L. H. Allen, and H. Morkoc, Appl. Phys. Lett. 64, 887 (1994).
3. R. J. Shul, S. P. Kilcoyne, M. Hagerott Crawford, J. E. Parmeter, C. B. Vartuli, C. R. Abernathy, and S. J. Pearton, Appl. Phys. Lett. 66, 1761 (1995).
4. R. J. Shul, G. B. McClellan, S. A. Casalnuovo, D. J. Rieger S. J. Pearton, C. Constantine, C. Barratt, R. F. Karlicek, Jr., C. Tarn, and M. Schurman, Appl. Phys. Lett. 69, 1119 (1996).
5. C. B. Vartuli, J. D. Mackenzie, J. W. Lee, C. R. Abernathy, S. J. Pearton, and R. J. Shul, J. Appl. Phys. 80, 3705 (1996).
6. R. J. Shul, G. B. McClellan, S. J. Pearton, C. R. Abernathy, C. Constantine, and C. Barratt, Electron. Lett. 32, 1408 (1996).
7. S. A. Smith, C. A. Wolden, M. D. Bbremser, A. D. Hanser, R. F. Davis, and W. V. Lampert, Appl. Phys. Lett. 71, 3631 (1997).
8. R. J. Shul, G. B. McClellan, S. A. Casalnuovo, D. J. Rieger, S. J. Pearton, C. Constantine, C. Barratt, R. F. Karlicek, Jr., and M. Schurman, Appl. Phys. Lett. 69, 1119 (1996).
9. R. J. Shul, A. J. Howard, S. J. Pearton, C. R. Abernathy, and C. B. Vartuli, J. Electrochem. Soc. 143, 3285 (1996).
10. S. J. Pearton, F. Ren, T. R. Fullowan, J. R. Lothian, A. Katz, R. F. Kopf, and C. R. Abernathy, Plasma Sources Sci. Technol. 1, 18 (1992).
11. G. A. Hebner, C. B. Fleddermann, and P. A. Miller, J. Vac Sci. Technol. A 15, 2698 (1997).