Low Temperature Deposition of AlN Films by an Alternate Supply of Trimethyl Aluminum and Ammonia

Chemical Vapor Deposition

Volumn 2, Issue 6, 1996, Pages 277-283

  Riihelä, Diana ^a   Ritala, Mikko ^a   Matero, Raija ^a   Leskelä, Markku ^a   Jokinen, Janne ^a   Haussalo, Pekka ^a  

^a UNIVERSITY OF HELSINKI   (Finland)

Author keywords

Aluminum nitride; Atomic layer epitaxy (ALE); Thin film analysis; Trimethyl aluminum

Indexed keywords

AMMONIA; CARBON; EPITAXIAL GROWTH; HYDROGEN; LOW TEMPERATURE EFFECTS; LOW TEMPERATURE OPERATIONS; OXYGEN; SEMICONDUCTING ALUMINUM COMPOUNDS; THIN FILMS;

ALUMINUM NITRIDE; ATOMIC LAYER EPITAXY; NUCLEAR RESONANCE BROADENING; TIME OF FLIGHT ELASTIC RECOIL DETECTION ANALYSIS; TRIMETHYL ALUMINUM;

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION;

EID: 0030283274     PISSN: 09481907     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cvde.19960020612     Document Type: Article

References (40)

1. S. Strite, H. Morkoc, J. Vac. Sci. Technol. B 1992, 10, 1237.
2. A. C. Jones, C. R. Whitehouse, J. S. Roberts, Chem. Vap. Deposition 1995, 1, 65.
3. L. Baixia, L. Yinkui, L. Yi, J. Mater. Chem. 1993, 3, 117.
4. D. K. Gaskill, N. Bottka, M. C. Lin, J. Cryst. Growth 1986, 77, 418.
5. L. V. Interrante, W. Lee, M. McConnell, N. Lewis, E. Hall, J. Electrochem. Soc., 1989, 136, 472.
6. D. C. Boyd, R. T. Haasch, D. R. Mantell, R. K. Schulze, J. F. Evans, W. L. Gladfelter, Chem. Mater. 1989, 1, 119.
7. R. G. Gordon, U. Riaz, D. M. Hoffman, J. Mater. Res. 1992, 7, 1679.
8. J. Auld, D. J. Houlton, A. C. Jones, S. A. Rushworth, G. W. Critchlow, J. Mater. Chem. 1994, 4, 1245.
9. A. C. Jones, J. Auld, S. A. Rushworth, D. J. Houlton, G. W. Critchlow, J. Mater. Chem. 1994, 4, 1591.
10. A. C. Jones, J. Auld, S. A. Rushworth, E. W. Williams, P. W. Haycock, C. C. Tang, G. W. Critchlow, Adv. Mater. 1994, 6, 229.
11. A. J. Noreika, D. W. Ing. J. Appl. Phys. 1968, 39, 5578.
12. W. M. Yim, E. J. Stofko, P. J. Zanzucchi, J.I. Pankova, M. Ettenberg, S. L. Gilbert, J. Appl. Phys. 1973, 44, 292
13. J. Bauer, L. Biste, D. Bolze, Phys. Status Solidi A 1977, 39, 173
14. Y. G. Roman, A. P. M. Adriaansen, Thin Solid Films 1989, 169, 241.
15. K. G. Nickel, R. Riedel, G. Petzow, J. Am. Ceram. Soc. 1989, 72, 1804
16. H. M. Manasevit, F. M. Erdmann, W. I. Simpson, J. Electrochem. Soc. 1971, 118, 1864
17. M. Morita, N. Uesugi, S. Isogai, K. Tsubouchi, N. Mikoshiba, J. Appl. Phys. 1981, 20, 17
18. Y. Chubachi, K. Sato, K. Kojima, Thin Solid Films 1984, 122, 259.
19. U. Rensch, G. Eichhorn, Phys. Status Solidi A 1985, 90, 135.
20. Z. J. Yu, J. H. Edgar, A. U. Ahmed, A. Rys, J. Electrochem. Soc. 1991, 38, 196.
21. B. Aspar, R. Rodriguez-Clemente, A. Figueras, B. Armas, C. Combescure, J. Cryst. Growth 1993, 129, 56.
22. M. Asif Khan, J. N. Kuznia, R. A. Skogman, D. T. Olson, M. MacMillan, W. J. Choyke, Appl. Phys. Lett. 1992, 61, 2539.
23. J. N. Kidder, Jr., J. S. Kuo, A. Ludviksson, T. P. Pearsall, J. W. Rogers, Jr., J. M. Grant, L. R. Allen, S. T. Hsu J. Vac. Sci. Technol. A 1995, 13, 711.
24. K. E. Elers, M. Ritala, M. Leskelä, L. S. Johansson, J. Phys. IV (Paris) 1995, 5, C5-1021.
25. T. Suntola, Thin Solid Films 1992, 216, 84.
26. M. Leskelä, M. Ritala, J. Phys. IV (Paris) 1995, 5, C5-937.
27. M. Ylilammi, T. Ranta-aho, Thin Solid Films 1993, 232, 56.
28. J. Jokinen, P. Haussalo, J. Keinonen, M. Ritala, D. Riihelä, M. Leskelä, Thin Solid Films, in press.
29. H. J. Whitlow, J. Keinonen, M. Hautala "A. Hautojärvi, Nucl. Instrum. Methods, Phys. Res. B 1984, 5, 505.
30. T. W. Mayer, J. W. Rogers, Jr., T. A. Michalske, Chem. Mater. 1991, 3, 641.
31. M. E. Bartram, T. A. Michalske, J. W. Rogers, Jr., R. T. Paine, Chem. Mater. 1993, 5, 1424.
32. H. Liu, D. C. Bertolet, J. W. Rogers, Jr., Surf. Sci. 1994, 320, 145.
33. G. A. Slack, T. F. McNelly, J. Cryst. Growth 1976, 34, 263.
34. V. Shanov, B. Ivanov, C. Popov, Thin Solid Films 1992, 207, 71.
35. M. G. Simmonds, W. L. Gladfelter, in The Chemistry of Metal CVD (Eds: T. T. Kodas, M. J. Hampden-Smith), VCH, Weinheim 1994, p. 45.
36. J. O. Carlsson, S. Gorbatkin, D. Lubben, J. E. Greene, J. Vac. Sci. Technol. B 1991, 9, 2759.
37. J. J. Hill, A. A. Aquino, C. P. A. Mulcahy, N. Harwood, A. C. Jones, T. S. Jones, Surf. Sci. 1995, 340, 49.
38. J. L. Dupuie, E. Gulari, J. Vac. Sci. Technol. A 1992, 10, 18.
39. Joint Committee on Powder Diffraction Standards, Card 25-1133.
40. F. Hagesawa, T. Takahashi, K. Kubo, Y. Nannichi, Jpn. J. Appl. Phys. 1987, 26, 1555.