Difference between initial distributions of proton and counter anion in chemically amplified electron-beam resist

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering

Volumn 6153 I, Issue , 2006, Pages

  Kozawa, Takahiro ^a   Yamamoto, Hiroki ^a   Saeki, Akinori ^a   Tagawa, Seiichi ^a  

^a OSAKA UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

Anion distribution; Electron beam lithography; Line edge roughness; Proton distribution

Indexed keywords

NANOSTRUCTURED MATERIALS; NEGATIVE IONS; PHOTOLITHOGRAPHY; PHOTORESISTS; PROTONS; SURFACE ROUGHNESS; SURFACE TOPOGRAPHY;

ANION DISTRIBUTION; IMAGE CONTRAST; LINE EDGE ROUGHNESS (LER); LINE WIDTH ROUGHNESS (LWR); PROTON DISTRIBUTION;

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY;

EID: 33745591424     PISSN: 0277786X     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: 10.1117/12.656869     Document Type: Conference Paper

References (39)

1. G. W. Reynolds and J. W. Taylor, J. Vac. Sci. Technol. B17, p. 334, 1999.
2. T. Yamaguchi and H. Namatsu, J. Vac. Sci. Technol. B22, p. 1037, 2004.
3. S. Yasin, D. G. Hasko, M. N. Khalid, D. J. Weaver and H. Ahmed, J. Vac. Sci. Technol. B22, p. 574, 2004.
4. S. Mori, T. Morisawa, N. Matsuzawa, Y. Kaimoto, M. Endo, T. Matsuo, K. Kuhara and M. Sasago, J. Vac. Sci. Technol. B16, p. 3739, 1998.
5. T. Yamaguchi, K. Yamazaki and H. Namatsu, J. Vac. Sci. Technol. B22, p. 2604, 2004.
6. H. Shiraishi, T. Yoshimura, T. Sakamizu, T. Ueno and S. Okazaki, J. Vac. Sci. Technol. 12, p. 3895, 1994.
7. T. Yoshimura, H. Shiraishi, J. Yamamoto and S. Okazaki, Appl. Phys. Lett. 63, p. 764, 1993.
8. T. Yoshimura, H. Shiraishi, J. Yamamoto and S. Okazaki, Jpn. J. Appl. Phys. 32, p. 6065, 1993.
9. T. Yamaguchi, H. Namatsu, M. Nagase, K. Yamazaki and K. Kurihara, Appl. Phys. Lett. 71, p. 2388, 1997.
10. M. Ishida, K. Kobayashi, J. Fujita, Y. Ochiai, H. Yamamoto and S. Tono, Jpn. J. Appl. Phys. 41, p. 4228, 2002.
11. D. He and F. Cerrina, J. Vac. Sci. Technol. B16, p. 3748, 1998.
12. M. Yoshizawa and S. Moriya, J. Vac. Sci. Technol. B20, p. 1342, 2002.
13. E. K. Lin, C. L. Soles, D. L. Goldfarb, B. C. Trinque, S. D. Burns, R. L. Jones, J. L. Lenhart, M. Angelopoulos, C. G. Willson, S. K. Satija and W. Wu, Science 297, p. 372, 2002.
14. W. Hinsberg, F. A. Houle, J. Hoffnagle, M. Sanchez, G. Wallraff, M. Morrison and S. Frank, J. Vac. Sci. Technol. B16, p. 3689, 1998.
15. S. C. Palmateer, S. G. Cann, J. E. Curtin, S. P. Doran, L. M. Eriksen, A. R. Forte, R. R. Kunz, T. M. Lyszczarz and M. B. Stern, Proc. SPIE 3333, p. 634, 1998.
16. J. Shin, G. Han, Y. Ma, K. Moloni and F. Cerrina, J. Vac. Sci. Technol. B19, p. 2890, 2001.
17. Y. Ma, G. Tsvid and F. Cerrina, J. Vac. Sci. Technol. B21, p. 3124, 2003.
18. S. Tagawa, S. Nagahara, T. Iwamoto, M. Wakita, T. Kozawa, Y. Yamamoto, D. Werst and A. D. Trifunac, Proc. SPIE 3999, p. 204, 2000.
19. T. Kozawa, A. Saeki, A. Nakano, Y. Yoshida and S. Tagawa, J. Vac. Sci. Technol. B21, p. 3149, 2003.
20. R. J. Hawryluk, A. M. Hawryluk and H. I. Smith, J. Appl. Phys. 45, p. 2551, 1974.
21. K. Murata, D. F. Kyser and C. H. Ting, J. Appl. Phys. 52, p. 4396, 1981.
22. M. Bohn, U. Hofmann, W. Hoppe, C. Progier and M. Ryzhoukhin, Proc. SPIE 5256, p. 695, 2003.
23. T. Kozawa, Y. Yoshida, M. Uesaka and S. Tagawa, Jpn. J. Appl. Phys. 31, p. 4301, 1992.
24. T. Kozawa. A. Saeki and S. Tagawa, J. Vac. Sci. Technol. B22, p. 3489, 2004.
25. A. Saeki, T. Kozawa, Y. Yoshida and S. Tagawa, Jpn. J. Appl. Phys. 41, p. 4213, 2002.
26. K. Okamoto, A. Saeki, T. Kozawa, Y. Yoshida and S. Tagawa, Chem. Lett. 32, p. 834, 2003.
27. S. Tsuji, T. Kozawa, Y. Yamamoto and S. Tagawa, J. Photopolym. Sci. Technol. 13, p. 733, 2000.
28. T. Kozawa and S. Tagawa, Proc. SPIE 5753, p. 361, 2005.
29. T. Kozawa and S. Tagawa, J. Appl. Phys. 2006, in press.
30. G. C. Abel and K. Funabashi, J. Chem. Phys. 58, p. 1079, 1973.
31. T. Goulet, I. Mattel, and J. P. Jay-Gerin, Can. J. Phys. 68, p. 912, 1990.
32. V. A. Rassolov and A. Mozumder, J. Phys. Chem. B105, p. 1430, 2001.
33. L. Onsager, Phys. Rev. 54, p. 554, 1938.
34. T. Kozawa, A. Saeki, Y. Yoshida and S. Tagawa, Jpn. J. Appl. Phys. 41, p. 4208, 2002.
35. T. Kozawa, H. Yamamoto, A. Nakano, A. Saeki, K. Okamoto and S. Tagawa, J. Photopolym. Sci. Technol. 17, p. 449, 2004.
36. T. Kozawa, H. Yamamoto, A. Saeki and S. Tagawa, J. Vac. Sci. Tehnol. B23, p. 2716, 2005.
37. T. Kozawa, S. Nagahara, Y. Yoshida and S. Tagawa, J. Vac. Sci. Technol. B15, p. 2582, 1997.
38. H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Nakano, K. Okamoto, Y. Yamamoto, T. Ando, M. Sato, H. Komano and S. Tagawa, Jpn. J. Appl. Phys. 43, p. L848, 2004.
39. A. Nakano, K. Okamoto, T. Kozawa and S. Tagawa, Jpn. J. Appl. Phys. 43, p. 4363, 2004.