Organic-inorganic hybrid nano-laminates fabricated by ozone-assisted molecular-atomic layer deposition

Chemical Vapor Deposition

Volumn 19, Issue 4-6, 2013, Pages 142-148

  Huang, Jie ^a   Lee, Mingun ^a,b   Lucero, Antonio ^a   Kim, Jiyoung ^a,c  

^a The University of Texas at Dallas   (United States)

^b Dongjin Semichem Co Ltd   (South Korea)

^c Kookmin University   (South Korea)

Author keywords

Hybrids; Laminates; MALD; Ozone; Thin films

Indexed keywords

ALUMINA; ALUMINUM OXIDE; ATOMS; FABRICATION; FILM PREPARATION; FOURIER TRANSFORM INFRARED SPECTROSCOPY; FUNCTIONAL MATERIALS; HIGH RESOLUTION TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY; II-VI SEMICONDUCTORS; LAMINATES; MOLECULES; MULTILAYERS; ORGANIC-INORGANIC MATERIALS; OZONE; OZONE LAYER; THIN FILMS; TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY; VAPOR DEPOSITION; ZINC OXIDE;

CROSS-SECTIONAL TEM; HYBRIDS; LAYER BY LAYER DEPOSITION; MALD; ORGANIC-INORGANIC HYBRID; POLYMERIC THIN-FILMS; TRIMETHYL ALUMINUMS; WATER CONTACT ANGLE MEASUREMENT;

ATOMIC LAYER DEPOSITION;

EID: 84879202996     PISSN: 09481907     EISSN: 15213862     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cvde.201207041     Document Type: Article

References (42)

1. J. Chen, M. A. Reed, A. M. Rawlett, J. M. Tour, Science 1999, 286, 1550.
2. J. Veres, S. Ogier, G. Lloyd, Chem. Mater. 2004, 16, 4543.
3. S. A. DiBenedetto, A. Facchetti, M. A. Ratner, T. J. Marks, Adv. Mater. 2009, 21, 1407.
4. M. M. Ling, Z. Bao, Chem. Mater. 2004, 16, 4824.
5. J. Wen, G. L. Wilkes, Chem. Mater. 1996, 8, 1667.
6. S. W. Pyo, D. H. Lee, J. R. Koo, J. H. Kim, J. H. Shin, Y. K. Kim, Jpn. J. Appl. Phys. 2005, 44, 652.
7. W. E. Tenhaeff, K. K. Gleason, Adv. Funct. Mater. 2008, 18, 979.
8. N. A. Azarova, J. W. Owen, C. A. McLellan, M. A. Grimminger, E. K. Chapman, J. E. Anthony, O. D. Jurchescu, Org. Elect. 2010, 11, 1960.
9. Y. Song, R. P. Nair, M. Zou, Y. A. Wang, Thin Solid Films 2010, 518, 3801.
10. S. M. George, B. Yoon, A. A. Dameron, Acc. Chem. Res. 2009, 42, 498.
11. J. Huang, M. Lee, J. Kim, J. Vac. Sci. Technol. 2012, 30, 01A128.
12. Y. La, H. J. Kim, I. S. Maeng, Y. J. Jung, J. W. Park, K. Kim, T. Kang, B. Kim, Langmuir 2002, 18, 2430.
13. Z. Shi, A. V. Walker, Langmuir 2011, 27, 6932.
14. O. Seitz, M. Dai, F. S. Aguirre-Tostado, R. M. Wallace, Y. J. Chabal, J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 18159.
15. T. M. McIntire, O. Ryder, B. J. Finlayson-Pitts, J. Phys. Chem. C 2009, 113, 11060.
16. B. Yoon, J. L. O'Patchen, D. Seghete, A. S. Cavanagh, S. M. George, Chem. Vap. Depos. 2009, 15, 112.
17. P. W. Loscutoff, H. Lee, S. F. Bent, Chem. Mater. 2010, 22, 5563.
18. H. Zhou, S. F. Bent, ACS Appl. Mater. Interfaces 2011, 3, 505.
19. Q. Peng, B. Cong, R. M. VanGundy, G. N. Parsons, Chem. Mater. 2009, 21, 820.
20. S. Cho, G. Han, K. Kim, M. M. Sung, Angew. Chem. Int. Ed. 2011, 50, 2742.
21. K. H. Yoon, K. S. Han, M. M. Sung, Nanoscale Res. Lett. 2012, 7, 71.
22. B. H. Lee, M. K. Ryu, S. Choi, K. Lee, S. Im, M. M. Sung, J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 16034.
23. C. R. Kagan, D. B. Mitzi, C. D. Dimitrakopoulos, Science 1999, 286, 945.
24. B. Fluegel, Y. Zhang, A. Mascarenhas, X. Huang, J. Li, Phys. Rev. B 2004, 70, 205308.
25. Y. Zhang, G. M. Dalpian, B. Fluegel, S. H. Wei, A. Mascarenhas, X. Y. Huang, J. Li, L. W. Wang, Phys. Rev. Lett. 2006, 96, 026405.
26. Y. Wang, M. Lieberman, Langmuir 2003, 19, 1159.
27. S. A. Kulkarni, S. A. Mirji, A. B. Mandale, R. P. Gupta, K. P. Vijayamohanan, Mater. Lett. 2005, 59, 3890.
28. Y. Dubowski, J. Vieceli, D. J. Tobias, A. Gomez, A. Lin, S. A. Nizkorodov, T. M. McIntire, B. J. Finlayson-Pitts, J. Phys. Chem. A 2004, 108, 10471.
29. S. Lee, T. Ishizaki, N. Saito, O. Takai, Jpn. J. Appl. Phys. 2008, 47, 6442.
30. S. G. Moussa, B. J. Finlayson-Pitts, Phys. Chem. Chem. Phys. 2010, 12, 9419.
31. L. R. Fiegland, M. M. S. Fleur, J. R. Morris, Langmuir 2005, 21, 2660.
32. J. Matijasevic, N. Hassler, G. Reiter, U. P. Fringeli, Langmuir 2008, 24, 2588.
33. N. Saito, K. Hayashi, H. Sugimura, O. Takai, J. Mater. Chem. 2002, 12, 2684.
34. A. Hozumi, H. Taoda, T. Saito, N. Shirahata, Surf. Interface Anal. 2008, 40, 408.
35. S. A. Mirji, Surf. Interface Anal. 2006, 38, 158.
36. N. M. Adamczyk, A. A. Dameron, S. M. George, Langmuir 2008, 24, 2081.
37. D. A. Styrkas, J. L. Keddie, J. R. Lu, T. J. Su, P. A. Zhdan, J. Appl. Phys. 1999, 85, 868.
38. Y. Kim, S. M. Lee, C. S. Park, S. I. Lee, M. Y. Lee, Appl. Phys. Lett. 1997, 71, 3604.
39. A. A. Dameron, D. Seghete, B. B. Burton, S. D. Davidson, A. S. Cavanagh, J. A. Bertrand, S. M. George, Chem. Mater. 2008, 20, 3315.
40. P. W. Loscutoff, H. Zhou, S. B. Clendenning, S. F. Bent, ACS Nano 2010, 4, 331.
41. B. Gong, Q. Peng, G. N. Parson, J. Phys. Chem. B 2011, 115, 5930.
42. Y. Kim, K. Lee, H. Sano, J. Han, T. Ichii, K. Murase, H. Sugimura, Jpn. J. Appl. Phys. 2008, 47, 307.