Effect of electric dipoles on fermi level positioning at the interface between ultrathin Al 2O 3 films and differently reconstructed In 0.53Ga 0.47As(001) surfaces

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 116, Issue 35, 2012, Pages 18746-18751

  Grazianetti, Carlo ^a,b   Molle, Alessandro ^a   Tallarida, Grazia ^a   Spiga, Sabina ^a   Fanciulli, Marco ^a,b  

^a LABORATORIO MDM   (Italy)

^b UNIVERSITY OF MILANO BICOCCA   (Italy)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AS-GROWN; BAND LINE UP; ELECTRIC DIPOLE; IN-SITU; OXIDE DEPOSITION; POSITIVE CHARGES; ULTRA-THIN;

FERMI LEVEL; GALLIUM; PHOTOELECTRONS;

X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

EID: 84866000246     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp3042318     Document Type: Article

References (27)

1. Spicer, W. E.; Lindau, I.; Skeath, P.; Su, C. Y. J. Vac. Sci. Technol. 1980, 17, 1019
2. Del Alamo, J. Nature 2011, 479, 317
3. Shen, J.; Winn, D.; Melitz, W.; Clemens, J.; Kummel, A. C. ECS Trans. 2008, 16, 463
4. Hasegawa, H.; Akazawa, M.; Domanowska, A.; Adamowicz, B. App. Surf. Sci. 2010, 256, 5698
5. Komsa, H. P.; Pasquarello, A. Appl. Phys. Lett. 2010, 97, 191901
6. Hale, M. J.; Yi, S. I.; Sexton, J. Z.; Kummel, A. C.; Passlack, M. J. Chem. Phys. 2003, 119, 6719
7. Clemens, J. B.; Bishop, S. R.; Lee, J. S.; Kummel, A. C.; Droopad, R. J. Chem. Phys. 2010, 132, 244701
8. Shen, J.; Clemens, J. B.; Chagarov, E. A.; Feldwinn, D. L; Melitz, W.; Song, T.; Bishop, S. R.; Kummel, A. C.; Droopad, R. Surf. Sci. 2010, 604, 1757
9. Fleischmann, C.; Schouteden, K.; Merckling, C.; Sioncke, S.; Meuris, M.; Van Haesendonck, C.; Temst, K.; Vantomme, A. J. Phys. Chem. C 2012, 116, 9925
10. Shekhter, P.; Kornblum, L.; Liu, Z.; Cui, S.; Ma, T. P.; Eizenberg, M. Appl. Phys. Lett. 2011, 99, 232103
11. Chu, L. K.; Merkling, C.; Alian, A.; Dekoster, J.; Kwo, J.; Hong, M.; Caymax, M.; Heyns, M. Appl. Phys. Lett. 2011, 99, 042908
12. Spicer, W. E.; Chye, P. W.; Garner, C. M.; Lindau, I.; Pianetta, P. Surf. Sci. 1979, 86, 763
13. Fusi, M.; Lamagna, L.; Spiga, S.; Fanciulli, M.; Brammertz, G.; Merckling, C.; Meuris, M.; Molle, A. Microelectron. Eng. 2011, 88, 435
14. Molle, A.; Lamagna, L.; Grazianetti, C.; Brammertz, G.; Merckling, C.; Caymax, M.; Spiga, S.; Fanciulli, M. Appl. Phys. Lett. 2011, 99, 193505
15. Feenstra, R. M.; Stroscio, J. A.; Fein, A. P. Surf. Sci. 1987, 181, 295
16. Bonnell, D. A. Prog. Surf. Sci. 1998, 57, 187
17. Huang, M. L.; Chang, Y. C.; Chang, C. H.; Lee, Y. J.; Chang, P.; Kwo, J.; Wu, T. B.; Hong, M. Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 252104
18. Kirk, A. P.; Milojevic, M.; Kim, J.; Wallace, R. M. Appl. Phys. Lett. 2010, 96, 202905
19. Hinkle, C. L.; Milojevic, M.; Brennan, B.; Sonnet, A. M.; Aguirre-Tostado, F. S.; Hughes, G. J.; Vogel, E. M.; Wallace, R. M. Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 162101
20. Lamagna, L.; Fusi, M.; Spiga, S.; Fanciulli, M.; Brammertz, G.; Merckling, C.; Meuris, M.; Molle, A. Microelectron. Eng. 2011, 88, 431
21. Brennan, B.; Milojevic, M.; Contreras-Guerrero, R.; Kim, H. C.; Lopez-Lopez, M.; Kim, J.; Wallace, R. M. J. Vac. Sci. Technol. B 2012, 30, 04E104
22. Kraut, E.; Grant, R.; Waldrop, J.; Kowalczyk, S. Phys. Rev. Lett. 1980, 44, 1620
23. Perego, M.; Molle, A.; Fanciulli, M. Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 042106
24. Shin, B.; Weber, J. R.; Long, R. D.; Hurley, P. K.; Van de Walle, C. G.; McIntyre, P. C. Appl. Phys. Lett. 2010, 96, 152908
25. Hu, J.; Nainani, A.; Sun, Y.; Saraswat, K. C.; Wong, H. S. P. Appl. Phys. Lett. 2011, 99, 252104
26. Perego, M.; Seguini, G. J. Appl. Phys. 2011, 110, 053711
27. Shen, J.; Chagarov, E.; Feldwinn, D.; Melitz, W.; Santagata, N. M.; Kummel, A. C.; Droopad, R.; Passlack, M. J. Chem. Phys. 2010, 133, 164704