Scanning tunneling microscopy and spectroscopy of gallium oxide deposition and oxidation on GaAs(001)-c(2×8)/(2×4)

Journal of Chemical Physics

Volumn 119, Issue 13, 2003, Pages 6719-6728

  Hale, M J ^a   Yi, S I ^a   Sexton, J Z ^a   Kummel, A C ^a   Passlack, M ^b  

^a UNIVERSITY OF CALIFORNIA   (United States)

^b MOTOROLA INC   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ARSENIC; CHEMISORPTION; ENERGY GAP; FERMI LEVEL; OXIDATION; OXYGEN; SCANNING TUNNELING MICROSCOPY; SURFACE STRUCTURE;

BAND GAPS;

SEMICONDUCTING GALLIUM ARSENIDE;

EID: 0142020894     PISSN: 00219606     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1601596     Document Type: Article

References (66)

1. R. Ludeke and A. Koma, Phys. Rev. Lett. 34, 817 (1975).
2. P. Pianetta, I. Lindau, P. E. Gregory, C. M. Garner, and W. E. Spicer, Surf. Sci. 72, 298 (1978).
3. W. E. Spicer, I. Lindau, P. Skeath, and C. Y. Su, J. Vac. Sci. Technol. 17, 1019 (1980).
4. W. Ranke and K. Jacobi, Prog. Surf. Sci. 10, 1 (1981).
5. G. P. Schwartz, Thin Solid Films 103, 3 (1983).
6. L. G. Meiners, D. L. Lille, and J. F. Wagner, in Physics and Chemistry of III-V Compound Semiconductor Interfaces, edited by C. W. Wilmsen (Plenum, New York, 1985), Chap. 4.
7. N. T. Barrett, G. N. Greaves, S. Pizzini, and K. J. Roberts, Surf. Sci. 227, 337 (1990).
8. M. T. Schmidt, Z. Wu, C. F. Yu and R. M. Osgood, Surf. Sci. 226, 199 (1990).
9. P. Kraus, W. N. Rodriques, and W. Monch, Surf. Sci. 219, 107 (1989).
10. J. Szuber, J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 53, 19 (1990).
11. Z. Lu, M. T. Schmidt, D. V. Podlesnik, C. F. Yu, and R. M. Osgood, J. Chem. Phys. 93, 7951 (1990).
12. R. Richter and H. L. Hartnagel, J. Electroehem. Soc. 137, 2879 (1990).
13. K. Tone, M. Yamada, and Y. Katayama, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 31, L721 (1992).
14. K. Tone, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 32, 5661 (1993).
15. A. Rim and R. Beserman, J. Appl. Phys. 74, 897 (1993).
16. M. C. G. Passeggi, I. Vaquila, and J. Ferron, J. Phys.: Condens. Matter 5, A155 (1993).
17. T. Scimeca, Y. Watanabe, F. Maeda, R. Berrigan, and M. Oshima, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 3090 (1994).
18. L. K. Verheij, M. K. Freitag, and F. Wiegershaus, Surf. Sci. 342, 47 (1995).
19. L. K. Verheij, M. K. Freitag, and F. Wiegershaus, Surf. Sci. 342, 55 (1995).
20. L. K. Verheij, M. K. Freitag, and F. Wiegershaus, Surf. Sci. 334, 105 (1995).
21. L. K. Verheij, Surf. Sci. 387, 160 (1997).
22. S. J. Anz, K. Nafisi, J. S. Allen, A. M. Russell, and R. S. Williams, Surf. Sci. 373, 371 (1997).
23. M. C. G. Passeggi, I. Vaquila, and J. Ferron, Appl. Surf. Sci. 133, 65 (1998).
24. V. L. Berkovits, P. Chiaradia, D. Paget, A. B. Gordeeva, and C. Goletti, Surf. Sci. 441, 26 (1999).
25. P. Kruse, J. McLean, and A. Kummel, J. Chem. Phys. 113, 9224 (2000).
26. R. W. Keyes, Science 195, 1230 (1977).
27. M. Passlack, M. Hong, E. F. Schubert, J. R. Kwo, J. P. Mannaerts, S. N. G. Chu, N. Moriya, and F. A. Thiel, Appl. Phys. Lett. 66, 625 (1995).
28. M. Hong, F. Ren, W. S. Hobson et al., Inst. Phys. Conf. Ser. 156, 319 (1998).
29. J. S. Hwang, W. Y. Chou, G. S. Chang, S. L. Tyan, M. Hong, J. P. Mannaerts, and J. Kwo, Inst. Phys. Conf. Ser. 156, 249 (1998).
30. J. S. Hwang, Y. C. Wang, W. Y. Chou, S. L. Tyan, M. Hong, J. P. Mannaerts, and J. Kwo, J. Appl. Phys. 83, 2857 (1998).
31. N. C. Oldham, C. J. Hill, C. M. Garland, and T. C. McGill, J. Vac Sci. Technol. A 20, 809 (2002).
32. M. Passlack, M. Hong, and J. P. Mannaerts, Appl. Phys. Lett. 68, 1099 (1995).
33. M. Hong, M. Passlack, J. P. Mannaerts, J. Kwo, S. N. G. Chu, N. Moriya, S. Y. Hou, and V. J. Fratello, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 2297 (1996).
34. M. Passlack, M. Hong, J. P. Mannaerts, R. L. Opila, S. N. G. Chu, N. Moriya, F. Ren, and J. R. Kwo, IEEE Trans. Electron Devices 44, 214 (1997).
35. M. Passlack, M. Hong, J. P. Mannaerts, J. R. Kwo, and L. W. Tu, Appl. Phys. Lett. 68, 3605 (1996).
36. R. P. Burns, J. Chem. Phys. 44, 3307 (1965).
37. J. R. Carruthers, M. Kokta, R. L. Barns, and M. Grasso, J. Cryst. Growth 19, 204 (1973).
38. W. Piekarczyk and A. Pahaczkowska, J. Cryst, Growth 46, 483 (1979).
39. W. E. Spicer and A. M. Green, J. Vac. Sci. Technol. B 11, 1347 (1993).
40. W. G. Schmidt and F. Bechstedt, Phys. Rev. B 54, 16742 (1996).
41. N. Moll, A. Kley, E. Pehlke, and M. Scheffler, Phys. Rev. B 54, 8844 (1996).
42. J. E. Northrup and S. Froyen, Phys. Rev. B 50, 2015 (1994).
43. T. Hashizume, Q. K. Xue, J. Zhou, A. Ichimiya, and T. Sakurai, Phys. Rev. Lett. 73, 2208 (1994).
44. J. Behrend, M. Wassermeirer, L. Daeweritz; and K. H. Ploog, Surf. Sci. 342, 63 (1995).
45. Q. K. Xue, T. Hashizmue, and T. Sakurai, Appl. Surf. Sci. 141, 244 (1998).
46. I. Chizov, G. Lee, R. F. Willis, D. Lubyshev, and D. L. Miller, Surf. Sci. 419, 1 (1998).
47. V. P. LaBella, H. Yang, D. W. Bullock, and P. M. Thibado, Phys. Rev. Lett. 83, 2989 (1999).
48. C. Ratsch, W. Barvosa-Carter, F. Grosse, J. H. G. Owen, and J. J. Zinck, Phys. Rev. B 62, R7719 (2000).
49. W. G. Schmidt, S. Mirbt, and F. Bechstedt, Phys. Rev. B 62, 8087 (2000).
50. J. A. Stroscio, R. M. Feenstra, and A. P. Fein, Phys. Rev. B 36, 7718 (1987).
51. J. A. Stroscio and R. M. Feenstra, J. Vac. Sci. Technol. A 6, 577 (1988).
52. M. G. Lagally and J. A. Martin, Rev. Sci. Instrum. 54, 1273 (1983).
53. G. Ertl and J. Küppers, Low Energy Electrons and Surface Chemistry (VCH, Deerfield Beach, FL, 1985).
54. L. J. Clarke, Surface Crystallography: An Introduction to Low Energy Elctron Diffraction (Wiley, Chichester, 1985).
55. M. Hale, D. Winn, S. I. Yi, J. Sexton, and A. Kummel, J. Chem. Phys. (to be submitted).
56. R. M. Feenstra and J. A. Stroscio, J. Vac. Sci. Teehnol. B 5, 923 (1987).
57. P. Mårtensson and R. M. Feenstra, Phys. Rev. B 39, 7744 (1989).
58. R. M. Feenstra, Phys. Rev. B 50, 4561 (1994).
59. J. A. Stroscio and R. M. Feenstra, Phys. Rev. Lett. 57, 2579 (1986).
60. M. Wassermeier, V. Bressler-Hill, R. Maboudian, K. Pond, X. S. Wang, W. H. Weinberg, and P. M. Petroff, Surf. Sci. 178, L147 (1992).
61. V. Bressler-Hill, M. Wassermeier, K. Pond, R. Maboudian, G. A. D. Briggs, P. M. Petroff, and W. H. Weinberg, J. Vac. Sci. Technol. B 10, 1881 (1992).
62. G. Kresse and J. Hafner, Phys. Rev. B 47, 558 (1993).
63. G. Kresse and J. Furthmuller, Phys. Rev. B 54, 11169 (1996).
64. J. Tersoff and H. D. R. Hamman, Phys. Rev. B 31, 805 (1985).
65. W. E. Spicer, P. W. Chye, P. R. Skeath, C. Y. Su, and I. Lindau, J. Vac. Sci. Technol. 15, 1422 (1979).
66. W. E. Spicer, Z. Liliental-Weber, E. Weber, N. Newman, T. Kendelewicz, R. Cao, C. McCants, P. Mahowald, K. Miyano, and I. Lindau, J. Vac. Sci. Technol. B 6, 1245 (1988).