Resolution enhancement for beyond-22-nm node using extreme ultraviolet exposure tool

Japanese Journal of Applied Physics

Volumn 49, Issue 6 PART 2, 2010, Pages

  Tawarayama, Kazuo ^a   Aoyama, Hajime ^a   Matsunaga, Kentaro ^a   Magoshi, Shunko ^a   Arisawa, Yukiyasu ^a   Uno, Taiga ^a  

^a SEMICONDUCTOR LEADING EDGE TECHNOLOGIES INC   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CRITICAL DIMENSION UNIFORMITIES; DEVICE FABRICATIONS; DIPOLE ILLUMINATION; EXPOSURE TOOL; EXTREME ULTRAVIOLET; EXTREME ULTRAVIOLETS; FULL-FIELD; LINE-AND-SPACE; NUMERICAL APERTURE; RESOLUTION ENHANCEMENT; RESOLUTION LIMITS; TEST SITE;

NANOTECHNOLOGY;

EXPOSURE METERS;

EID: 77955339650     PISSN: 00214922     EISSN: 13474065     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/JJAP.49.06GD01     Document Type: Article

References (20)

1. J. Finders, M. Dusa, B. Vleeming, H. Megens, B. Hepp, M. Maenhoudt, S. Cheng, and T. Vandeweyer: Proc. SPIE 6924 (2008) 692408.
2. H. Sewell, A. Chen, J. Finders, and M. Dusa: Jpn. J. Appl. Phys. 48 (2009) 06FA01.
3. S. Mimotogi, M. Satake, K. Kitamura, K. Takahata, K. Kodera, H. Fujise, T. Ema, K. Sho, K. Ishigo, T. Kono, M. Asano, K. Yoshida, H. Kanai, S. Kyoh, H. Harakawa, A. Nomachi, T. Ishida, K. Miyashita, and S. Inoue: Proc. SPIE 6924 (2008) 692421.
4. H. Mukai, E. Shiobara, S. Takahashi, and K. Hashimoto: Proc. SPIE 6924 (2008) 692406.
5. I. Mori, O. Suga, H. Tanaka, I. Nishiyama, T. Terasawa, H. Shigemura, T. Taguchi, T. Tanaka, and T. Itani: Proc. SPIE 6921 (2008) 692102.
6. S. Uzawa, H. Kubo, Y. Miwa, T. Tsuji, and H. Morishima: Proc. SPIE 6517 (2007) 651708.
7. N. Nishimura, G. Takahashi, T. Tsuji, H. Morishima, K. Kajiyama, and S. Uzawa: Proc. SPIE 6921 (2008) 69211C.
8. K. Tawarayama, S. Magoshi, H. Aoyama, Y. Tanaka, S. Shirai, and H. Tanaka: Proc. SPIE 6921 (2008) 69212V.
9. K. Tawarayama, S. Magoshi, Y. Tanaka, S. Shirai, and H. Tanaka: Jpn. J. Appl. Phys. 47 (2008) 4866.
10. Y. Tanaka, H. Aoyama, K. Tawarayama, S. Magoshi, S. Shirai, and H. Tanaka: Proc. SPIE 6921 (2008) 69211D.
11. H. Aoyama, Y. Tanaka, T. Kamo, N. Iriki, Y. Arisawa, and T. Tanaka: Proc. SPIE 6921 (2008) 69213H.
12. K. Tawarayama, H. Aoyama, T. Kamo, S. Magoshi, Y. Tanaka, S. Shirai, and H. Tanaka: Jpn. J. Appl. Phys. 48 (2009) 06FA02.
13. K. Tawarayama, H. Aoyama, S. Magoshi, Y. Tanaka, S. Shirai, and H. Tanaka: J. Micro/Nanolithogr. MEMS MOEMS 8 (2009) 041510.
14. T. Miura, K. Murakami, H. Kawai, Y. Kohama, K. Morita, K. Hada, and Y. Ohkubo: Proc. SPIE 7271 (2009) 72711X.
15. K. Murakami, T. Oshino, H. Kondo, H. Chiba, H. Komatsuda, K. Nomura, and H. Iwata: Proc. SPIE 6921 (2008) 69210Q.
16. M. Yoshioka, D. Bolshukhin, G. Hergenhan, J. Kleinschmidt, V. Korobochko, G, Schriever, M. C. Schurmann, C. D. Tran, and C. Ziener: Proc. SPIE 6921 (2008) 69210U.
17. D. Kawamura, K. Kaneyama, S. Kobayashi, J. J. S. Santillan, and T. Itani: Proc. SPIE 6923 (2008) 692313.
18. D. Kawamura, Y. Tanaka, T. Itani, E. Soda, and N. Oda: Proc. SPIE 7273 (2009) 72731O.
19. H. Aoyama, K. Tawarayama, Y. Tanaka, D. Kawamura, Y. Arisawa, T. Uno, T. Kamo, T. Tanaka, T. Itani, H. Tanaka, Y. Nakajima, R. Inanami, K. Takai, K. Murano, T. Koshiba K. Hashimoto, and I. Mori: Proc. SPIE 7271 (2009) 727120.
20. H. Aoyama, K. Tawarayama, Y. Tanaka, D. Kawamura, Y. Arisawa, T. Uno, T. Kamo, T. Tanaka, T. Itani, H. Tanaka, Y. Nakajima, R. Inanami, K. Takai, K. Murano, K. Takeshi, K. Hashimoto, and I. Mori: J. Micro/Nanolithogr. MEMS MOEMS 8 (2009) 041508.