Radical enhanced atomic layer deposition of titanium dioxide

Chemical Vapor Deposition

Volumn 13, Issue 4, 2007, Pages 152-157

  Niskanen, Antti ^a   Arstila, Kai ^a   Leskelä, Markku ^a   Ritala, Mikko ^a  

^a UNIVERSITY OF HELSINKI   (Finland)

Author keywords

Atomic layer deposition; Plasma; Radicals; Titanium dioxide

Indexed keywords

ABS RESINS; AIR PURIFICATION; AMORPHOUS FILMS; ARGON; ATOMIC PHYSICS; ATOMS; DEPOSITION; ELECTRIC DISCHARGES; ELECTRIC FIELDS; FILM GROWTH; HYDROGEN; INERT GASES; METAL REFINING; MICROWAVES; MOLECULAR OXYGEN; NATURAL FIBERS; NATURAL POLYMERS; NONMETALS; OPTICAL PROPERTIES; OXIDES; OXYGEN; PHOTORESISTS; PHYSICAL VAPOR DEPOSITION; PLASMA DEPOSITION; PLASMAS; PLATINUM; POLYMERIC GLASS; PULSED LASER DEPOSITION; REFRACTIVE INDEX; RUTHENIUM COMPOUNDS; SILICON; TITANIUM; TITANIUM DIOXIDE; X RAY ANALYSIS;

AMORPHOUS; ATOMIC LAYERS; CONFORMAL GROWTHS; CYCLE TIMES; DEPOSITION TEMPERATURES; DIELECTRIC CONSTANTS; ELECTRIC-FIELD; FILM DENSITIES; GROWTH RATE SATURATIONS; IMPURITY CONTENTS; MICROWAVE PLASMA DISCHARGES; OXYGEN RADICALS; PURGE GASES; RADICALS; TITANIUM DIOXIDE FILMS; TITANIUM ISOPROPOXIDE; X-RAY DIFFRACTIONS;

ATOMIC LAYER DEPOSITION;

DEPOSITION; DIELECTRIC CONSTANT; ELECTRIC FIELDS; GLASS; GROWTH; IMPURITIES; MONOLAYERS; OXYGEN; PLASMA; PLATINUM; SILICON; TITANIUM DIOXIDE;

EID: 34848817167     PISSN: 09481907     EISSN: 15213862     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cvde.200606546     Document Type: Article

References (56)

1. J. M. Bennett, E. Pelletier, G. Albrand, J. Borgogno, B. Lazarides, C. Carniglia, R. Schmell, T. Allen, T. Tuttle-Hart, K. Guenther, A. Saxer, Appl. Opt 1989, 28, 3303.
2. J. Aarik, A. Aidla, H. Mändar, T. Uustare, M. Schuisky, A. Hårsta, J. Cryst. Growth 2002, 242, 189.
3. G. D. Wilk, R. M. Wallace, J. M. Anthony, J. Appl. Phys. 2001, 89, 5243.
4. C. Rohde, B. J. Choi, D. S. Jeong, S. Choi, J. Zhao, C. S. Hwang, Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 262 907.
5. B. J. Choi, D. S. Jeong, S. K. Kim, C. Rohde, S. Choi, J. H. Oh, H. J. Kim, C. S. Hwang, K. Szot, R. Waser, B. Reichenberg, S. Tiedke, J. Appl. Phys. 2005, 98, 033 715.
6. B. J. Choi, S. Choi, K. M. Kim, Y. C. Shin, C. S. Hwang, S. Hwang, S. Cho, S. Park, S. Hong, Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 012 906.
7. B. O'Regan, M. Graetzel, Nature 1991, 353, 737.
8. Y. Yeh, T. Y. Tseng, D. Chang, J. Am. Ceram. Soc. 1990, 73, 1992.
9. G. K. Mor, O. K. Varghese, M. Paulose, K. G. Ong, C. A. Grimes, Thin Solid Films 2006, 496, 42.
10. J. Wu, S. Hayakawa, K. Tsuru, A. Osaka, Thin Solid Films 2002, 414, 275.
11. M. Anpo, S. Dohshi, M. Kitano, Y. Hu, M. Takeuchi, M. Matsuoka, Annu. Rev. Mater. Res. 2005, 35, 1.
12. V. Pore, A. Rahm, M. Leskelä, M. Ritala, T. Sajavaara, J. Keinonen, Chem. Vap. Deposition 2004, 10, 143.
13. M. Vehkamäki, T. Hänninen, M. Ritala, M. Leskelä, T. Sajavaara, E. Rauhala, J. Keinonen, Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 75.
14. T. M. Shaw, S. Trolier-McKinstry, P. C. McIntyre, Annu. Rev. Mater. Sci. 2000, 30, 263.
15. O. Carp, C. L. Huisman, A. Reller, Prog. Solid State Chem. 2004, 32, 33.
16. M. Ritala, M. Leskelä in Handbook of Thin Films Materials, (Ed: H. S. Nalwa), Academic, San Diego, CA 2002, p. 103.
17. R. L. Puurunen, J. Appl. Phys. 2005, 97, 121 301.
18. M. Ritala, M. Leskelä, E. Nykänen, P. Soininen, L. Niinistö, Thin Solid Films 1993, 225, 288.
19. M. Ritala, M. Leskelä, L. Johansson, L. Niinistö, Thin Solid Films 1993, 228, 32.
20. J. Aarik, A. Aidla, T. Uustare, V. Sammelselg, J. Cryst. Growth 1995, 148, 268.
21. J. Aarik, A. Aidla, T. Uustare, A. Kiisler, V. Sammelselg, Thin Solid Films 1997, 305, 270.
22. B. J. Ninness, D. W. Bousfield, C. P. Tripp, Colloids Surf., A 2003, 214, 195.
23. J. D. Ferguson, A. R. Yoder, A. W. Weimer, S. M. George, Appl. Surf. Sci. 2004, 226, 393.
24. S. Haukka, E. Lakomaa, O. Jylhä, J. Vilhunen, S. Hornytzkyj, Langmuir 1993, 9, 3497.
25. S. Haukka, E. Lakomaa, A. Root, J. Phys. Chem. 1993, 97, 5085.
26. R. Matero, A. Rahtu, M. Ritala, Chem. Mater. 2001, 13, 4506.
27. W. Gu, C. P. Tripp, Langmuir 2005, 21, 211.
28. J. S. King, E. Graugnard, C. J. Summers, Adv. Mater. 2005, 17, 1010.
29. M. S. Sander, M. I. Côté, W. Gu, B. M. Kile, C. P. Tripp, Adv. Mater. 2004, 16, 2052.
30. J. Aarik, A. Aidla, T. Uustare, K. Kukli, V. Sammelselg, M. Ritala, M. Leskelä, Appl. Surf. Sci. 2002, 193, 277.
31. K. Kukli, M. Ritala, M. Schuisky, M. Leskelä, T. Sajavaara, J. Keinonen, T. Uustare, A. Hårsta, Chem. Vap. Deposition 2000, 6, 303.
32. M. Schuisky, A. Hårsta, A. Aidla, K. Kukli, A. Kiisler, J. Aarik, J. Electrochem. Soc. 2000, 147, 3319.
33. M. Schuisky, J. Aarik, K. Kukli, A. Aidla, A. Hårsta, Langmuir 2001, 17, 5508.
34. M. Schuisky, K. Kukli, J. Aarik, J. Lu, A. Hårsta, J. Cryst. Growth 2002, 235, 293.
35. M. Ritala, M. Leskelä, L. Niinistö, P. Haussalo, Chem. Mater. 1993, 5, 1174.
36. A. Rahtu, M. Ritala, Chem. Vap. Deposition 2002, 8, 21.
37. J. Aarik, A. Aidla, T. Uustare, M. Ritala, M. Leskelä, Appl. Surf. Sci. 2000, 161, 385.
38. S. K. Kim, W. Kim, K. Kim, C. S. Hwang, J. Jeong, Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 4112.
39. J. W. Lim, S. J. Yun, J. Lee, Electrochem. Solid-State Lett. 2004, 7, F73.
40. M. Ritala, M. Leskelä, E. Rauhala, Chem. Mater. 1994, 6, 556.
41. J. Aarik, J. Karlis, H. Mändar, T. Uustare, V. Sammelselg, Appl. Surf. Sci. 2001, 181, 339.
42. I. Kim, H. L. Tuller, H. Kim, J. Park, Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 4705.
43. A. Rahtu, K. Kukli, M. Ritala, Chem. Mater. 2001, 13, 817.
44. M. Ritala, A. Rahtu, R. Matero, presented at AVS Topical Conference on Atomic Layer Deposition, Monterey, CA, May 2001.
45. J. Kim, W. Lee, J. Kim, S. Yoon, Metals and Materials International 2005, 11, 285.
46. D. Kil, J. Lee, J. Roh, Chem. Vap. Deposition 2002, 8, 195.
47. A. Niskanen, A. Rahtu, T. Sajavaara, K. Arstila, M. Ritala, M. Leskelä, J. Electrochem. Soc. 2005, 152, G25.
48. A. Niskanen, K. Arstila, M. Ritala, M. Leskelä, J. Electrochem. Soc. 2005, 152, F90.
49. S. Ha, E. Choi, S. Kim, J. Sung Roh, Thin Solid Films 2005, 476, 252.
50. M. D. Groner, J. W. Elam, F. H. Fabreguette, S. M. George, Thin Solid Films 2002, 413, 186.
51. T. Busani, R. A. B. Devine, Semicond. Sci. Technol. 2005, 20, 870.
52. G. Scarel, C. J. Hirschmugl, V. V. Yakovlev, R. S. Sorbello, C. R. Aita, H. Tanaka, K. Hisano, J. Appl. Phys. 2002, 91, 1118.
53. Ritala Mikko, Ph. D. Thesis, University of Helsinki 1994.
54. C. R. Ottermann, K. Bange, W. Wagner, M. Laube, F. Rauch, Surf. Interface Anal. 1992, 19, 435.
55. M. Ylilammi, T. Ranta-aho, Thin Solid Films 1993, 232, 56.
56. J. Jokinen, J. Keinonen, P. Tikkanen, A. Kuronen, T. Ahlgren, K. Nordlund, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res., Sect. B 1996, 119, 533.