Atomic layer chemical vapor deposition of TiO2 low temperature epitaxy of rutile and anatase

Journal of the Electrochemical Society

Volumn 147, Issue 9, 2000, Pages 3319-3325

  Schuisky, Mikael ^a   Hårsta, Anders ^a   Aidla, Aleks ^b   Kukli, Kaupo ^b   Kiisler, Alma Asta ^b   Aarik, Jaan ^b  

^a UPPSALA UNIVERSITY   (Sweden)

^b UNIVERSITY OF TARTU   (Estonia)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

FILM GROWTH; SUBSTRATES; THIN FILMS; TITANIUM DIOXIDE; VAPOR PHASE EPITAXY; X RAY DIFFRACTION ANALYSIS;

ANATASE-RUTILE PHASE BOUNDARIES; ATOMIC LAYER CHEMICAL VAPOR DEPOSITION;

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION;

EID: 0034272551     PISSN: 00134651     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/1.1393901     Document Type: Article

References (38)

1. L. Niinistö, M. Ritala, and M. Leskelä, Mater. Sci. Eng., B, 41, 23 (1996).
2. V. B. Aleskovskii, J. Appl. Chem. USSR, 47, 2207 (1975).
3. E.-L. Lakomaa, S. Haukka, and T. Suntola, Appl. Surf. Sci., 60-61, 742 (1992).
4. S. B. Desu, Mater. Sci. Eng. B, 13, 299 (1992).
5. H. Kumagai, M. Matsumoto, K. Toyoda, M. Obara, and M. Suzuki, Thin Solid Films, 263, 47 (1995).
6. J. Aarik, A. Aidla, T. Uustare, and V. Sammelselg, J. Cryst. Growth, 148, 268 (1995).
7. M. Ritala, M. Leskelä, E. Nykänen, P. Soininen, and L. Niinistö, Thin Solid Films, 225, 288 (1993).
8. M. Ritala, M. Leskelä, L. Niinistö, and P. Haussalo, Chem. Mater., 5, 1174 (1993).
9. M. Ritala, M. Leskelä, and E. Rauhala, Chem. Mater., 6, 556 (1994).
10. J. Aarik, A. Aidla, V. Sammelselg, H. Siimon, and T. Uustare, J. Cryst. Growth, 169, 496 (1996).
11. J. L. Murray, Phase Diagrams of Binary Titanium Alloys, p. 211, ASM International, Metals Park, OH (1987).
12. M. Ritala, M. Leskelä, J.-P. Dekker, C. Mutsaers, P. J. Soininen, and J. Skarp, Chem. Vap. Deposition, 5, 7 (1999).
13. M. Leskelä and M. Ritala, J. Phys. IV, France, 9, Pr8-837 (1999).
14. M. Ritala, M. Leskelä, E. Rauhala, and J. Jokinen, J. Electrochem. Soc., 145, 2914 (1998).
15. C. Faltermeier, C. Goldberg, M. Jones, A. Upham, D. Manger, G. Peterson, J. Lau, and A. E. Kaloyeros, J. Electrochem. Soc., 144, 1002 (1997).
16. M. Schuisky and A. Hårsta, Chem. Vap. Deposition, 4, 213 (1998).
17. M. Schuisky and A. Hårsta, J. Phys. IV, France, 9, Pr8-381 (1999).
18. S. Chen, M. G. Mason, H. J. Gysling, G. R. Paz-pujalt, T. N. Blanton, T. Castro, K. M. Chen, C. P. Fictorie, W. L. Gladfeller, A. Franciosi, P. I. Cohen, and J. F. Evans, J. Vac. Sci. Technol., A, 11, 2419 (1993).
19. A. Goossens, E.-L. Maloney, and J. Schoonman, Chem. Vap. Deposition, 4, 109 (1998).
20. H. L. M. Chang, H. You, J. Guo, and D. J. Lam, Appl. Surf. Sci., 48/49, 12 (1991).
21. Y. Gao, K. L. Merke, H. L. M. Chang, T. J. Zhang, and D. J. Lam, J. Mater. Res., 6, 2417 (1911).
22. P. A. Morris Hotsenpiller, A. Roshko, J. B. Lowenkamp, and G. S. Roher, J. Cryst. Growth, 174, 424 (1997).
23. K. Fukushima, G. H. Takaoka, and I. Yamada, Jpn. J. Appl. Phys., 32, 3561 (1993).
24. F. Imai, K. Kunimori, T. Manabe, T. Kumagai, and H. Nozoye, Thin Solid Films, 310, 184 (1997).
25. S. Watanabe, K. Katsura, and H. Nozoye, Jpn. J. Appl. Phys., 38, L62 (1999).
26. M. Ylilammi and T. Ranta-aho, Thin Solid Films, 232, 56 (1993).
27. N. V. Dolgushev, A. A. Malygin, S. A. Suvorov, A. V. Shchukarev, A. V. Beljaev, and V. A. Bykov, Thin Solid Films, 293, 91 (1997).
28. A. Szczerbakow, E. Dynowska, M. Godlewski, and K. Swiatek, J. Cryst. Growth, 183, 708 (1998).
29. C. H. Liu, M. Yokoyama, and Y. K. Su, Jpn. J. Appl. Phys., 35, 5416 (1996).
30. C.-T. Hsu, Thin Solid Films, 335, 284 (1998).
31. C.-T. Hsu, Jpn. J. Appl. Phys., 35, 4476 (1996).
32. M. Han, Y. Lou, J. E. Moryl, R. M. Osgood, Jr., and J. G. Chen, Surf. Sci., 415, 251 (1998).
33. F. G. McIntosh, E. L. Piner, J. C. Roberts, M. K. Behbehani, M. E. Aumer, N. A. El-Masry, and S. M. Bedair, Appl. Surf. Sci., 112, 98 (1997).
34. S. P. DenBaars and P. D. Dapkus, J. Cryst. Growth, 98, 195 (1989).
35. M. Ozeki, K. Kodama, Y. Kodama, N. Ohtsuka, and T. Takanohashi, J. Vac. Sci. Technol., B8, 741 (1990).
36. B. T. McDermott, K. G. Reid, N. A. El-Masry, S. Bedair, W. M. Duncan, X. Yin, and F. H. Pollak, Appl. Phys. Lett., 56, 1172 (1990).
37. G.-I. Oya and Y. Sawada, J. Cryst. Growth, 99, 572 (1990).
38. J. Aarik, A. Jaek, A.-A. Kiisler, and V. Sammelselg, Tartu Riikliku Ulik. Toim., 964, 12 (1993).