A molecular dynamics investigation of fluorocarbon based layer-by-layer etching of silicon and Si O2

Journal of Applied Physics

Volumn 101, Issue 3, 2007, Pages

  Rauf, S ^a   Sparks, T ^a   Ventzek, P L G ^a   Smirnov, V V ^b   Stengach, A V ^b   Gaynullin, K G ^b   Pavlovsky, V A ^b  

^a FREESCALE SEMICONDUCTOR INC   (United States)

^b Sarov Laboratories   (Russian Federation)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

COMPUTER SIMULATION; ETCHING; FLUOROCARBONS; ION BOMBARDMENT; MOLECULAR DYNAMICS; PASSIVATION;

ATOMIC LAYERS; FLUOROCARBON PASSIVATION; ION ENERGY;

SILICA;

EID: 33847129197     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2464192     Document Type: Article

References (41)

1. M.-H. Cho, Appl. Phys. Lett. 81, 472 (2002).
2. S. M. Rossnagel, A. Sherman, and F. Turner, J. Vac. Sci. Technol. B 18, 2016 (2000).
3. H. Kim, J. Vac. Sci. Technol. B 21, 2231 (2003).
4. S. D. Athavale and D. J. Economou, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 966 (1995).
5. T. Matsuura, J. Murota, Y. Sawada, and T. Ohmi, Appl. Phys. Lett. 63, 2803 (1993).
6. T. Meguro, M. Ishii, T. Sugano, K. Gamo, and Y. Aoyagi, Appl. Surf. Sci. 82-83, 193 (1994).
7. K. Ikeda, S. Imai, and M. Matsumara, Appl. Surf. Sci. 112, 87 (1997).
8. W. T. Tsang, T. H. Chiu, and R. M. Kapre, Appl. Phys. Lett. 63, 3500 (1993).
9. T. Matsuura, Y. Honda, and J. Murota, Appl. Phys. Lett. 74, 3573 (1999).
10. T. Sugiyama, T. Matsuura, and J. Murota, Appl. Surf. Sci. 187, 187 (1997).
11. N. Otsuka, J. Nishizawa, Y. Oyama, H. Kikuchi, and K. Suto, J. Electrochem. Soc. 146, 547 (1999).
12. S. D. Park, D. H. Lee, and G. Y. Geom, Electrochem. Solid-State Lett. 8, C106 (2005).
13. S. Matsui, M. Baba, and A. Satoh, Nanotechnology 3, 156 (1992).
14. H. Sakaue, S. Iseda, K. Asami, J. Yamamoto, M. Hirose, and Y. Horiike, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 29, 2648 (1990).
15. S. D. Park, K.-S. Min, B.-Y. Yoon, D.-H. Lee, and G.-Y. Geom, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 44, 389 (2005).
16. Y. Horiike, J. Vac. Sci. Technol. A 8, 1844 (1990).
17. Y. Horiike, J. Vac. Sci. Technol. A 8, 1844 (1990).
18. S. D. Athavale and D. J. Economou, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 3702 (1996).
19. T. Matsuura, T. Sugiyama, and J. Murota, Surf. Sci. 402, 202 (1998).
20. J. Yamamoto, T. Kawasaki, H. Sakaue, S. Shingubara, and Y. Horiike, Thin Solid Films 225, 124 (1993).
21. M. Matsui, T. Tatsumi, and M. Sekine, J. Vac. Sci. Technol. A 19, 1282 (2001).
22. M. Matsui, T. Tatsumi, and M. Sekine, J. Vac. Sci. Technol. A 19, 2089 (2001).
23. M. Schaepkens, G. S. Oehrlein, C. Hedlund, L. B. Jonsson, and H. Blom, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 3281 (1998).
24. M. Schaepkens, T. E. F. M. Standaert, N. R. Rueger, P. G. M. Sebel, G. S. Oehrlein, and J. M. Cook, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 26 (1999).
25. N. R. Rueger, M. F. Doemling, M. Schaepkens, J. J. Beulens, T. E. F. M. Standaert, and G. S. Oehrlein, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 2492 (1999).
26. X. Li, X. Hua, L. Ling, G. S. Oehrlein, M. Barela, and H. M. Anderson, J. Vac. Sci. Technol. A 20, 2052 (2002).
27. M. Inayoshi, M. Ito, M. Hori, T. Goto, and M. Hiramatsu, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 233 (1998).
28. K. Takahashi, M. Hori, and T. Goto, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 2011 (1996).
29. M. Chander, Y. Z. Li, J. C. Patrin, and J. H. Weaver, Phys. Rev. B 47, 13035 (1993).
30. C. M. Aldao and J. H. Weaver, Prog. Surf. Sci. 68, 189 (2001).
31. M. Chander, D. A. Goetsch, C. M. Aldao, and J. H. Weaver, Phys. Rev. Lett. 74, 2014 (1995).
32. C. F. Abrams and D. B. Graves, J. Appl. Phys. 86, 5938 (1999).
33. C. F. Abrams and D. B. Graves, J. Vac. Sci. Technol. A 18, 411 (2000).
34. C. F. Abrams and D. B. Graves, J. Appl. Phys. 88, 3734 (2000).
35. C. F. Abrams and D. B. Graves, J. Vac. Sci. Technol. A 19, 175 (2001).
36. H. Ohta and S. Hamaguchi, J. Vac. Sci. Technol. A 19, 2373 (2001).
37. V. V. Smirnov, A. V. Stengach, K. G. Gaynullin, V. A. Pavlovsky, S. Rauf, P. J. Stout, and P. L. G. Ventzek, J. Appl. Phys. 97, 093302 (2005).
38. V. V. Smirnov, A. V. Stengach, K. G. Gaynullin, V. A. Pavlovsky, S. Rauf, P. J. Stout, and P. L. G. Ventzek, J. Appl. Phys. 97, 093303 (2005).
39. M. J. Frisch, GAUSSIAN98, Revision A.9, Gaussian, Inc., Pittsburgh, PA, 1998.
40. M. P. Allen and D. J. Tildesley, Computer Simulation of Liquids (Clarendon, Oxford, 1994).
41. H. J. C. Berendsen, J. P. M. Postma, W. F. van Gunsteren, A. DiNola, and J. R. Yaak, J. Chem. Phys. 81, 3684 (1984).