Structural, optical, and electrical properties of (Zn,Al)O films over a wide range of compositions

Journal of Applied Physics

Volumn 100, Issue 7, 2006, Pages

  Lu, J G ^a   Ye, Z Z ^a   Zeng, Y J ^a   Zhu, L P ^a   Wang, L ^a   Yuan, J ^a   Zhao, B H ^a   Liang, Q L ^b  

^a ZHEJIANG UNIVERSITY   (China)

^b SEMICONDUCTOR MANUFACTURING INTERNATIONAL CORPORATION   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CRYSTAL QUALITY; FILM STABILITY; GROWTH RATE; REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING SYSTEMS;

COMPRESSIVE STRESS; FILM GROWTH; LIGHT TRANSMISSION; MAGNETRON SPUTTERING; ZINC COMPOUNDS;

THIN FILMS;

EID: 33750007618     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2357638     Document Type: Article

References (83)

1. Z. K. Tang, G. K. L. Wong, P. Yu, M. Kawasaki, A. Ohtomo, H. Koinuma, and Y. Segawa, Appl. Phys. Lett. 72, 3270 (1998).
2. D. C. Look, D. C. Reynolds, J. R. Sizelove, R. L. Jones, C. W. Litton, G. Cantwell, and W. C. Harsch, Solid State Commun. 105, 399 (1998).
3. D. M. Bagnall, Y. F. Chen, Z. Zhu, T. Yao, S. Koyama, M. Y. Shen, and T. Goto, Appl. Phys. Lett. 70, 2230 (1997).
4. A. Ohtomo, Appl. Phys. Lett. 72, 2466 (1998).
5. K. Koike, K. Hama, I. Nakashima, G. Takada, K. Ogata, S. Sasa, M. Inoue, and M. Yano, J. Cryst. Growth 278, 288 (2005).
6. T. Makino, Y. Segawa, M. Kawasaki, A. Ohtomo, R. Shiroki, K. Tamura, T. Yasuda, and H. Koinuma, Appl. Phys. Lett. 78, 1237 (2001).
7. Z. Z. Ye, D. W. Ma, J. H. He, J. Y. Huang, B. H. Zhao, X. D. Luo, and Z. Y. Xu, J. Cryst. Growth 256, 78 (2003).
8. G. Xiong, J. Wilkinson, B. Mischuck, S. Tüzemen, K. B. Ucer, and R. T. Williams, Appl. Phys. Lett. 80, 1195 (2002).
9. V. Gupta and A. Mansingh, J. Appl. Phys. 80, 1063 (1996).
10. W. W. Wenas, A. Yamada, K. Takahashi, M. Yoshino, and M. Konagai, J. Appl. Phys. 70, 7119 (1991).
11. B. J. Lokhande, P. S. Patil, and M. D. Uplane, Physica B 302303, 59 (2001).
12. J. Ma, F. Ji, D. H. Zhang, H. L. Ma, and S. Y. Li, Thin Solid Films 357, 98 (1999).
13. K. Ellmer and R. Wendt, Surf. Coat. Technol. 93, 21 (1997).
14. K. Ellmer, F. Kudella, R. Mientus, R. Schieck, and S. Fiechter, Thin Solid Films 247, 15 (1994).
15. Y. Igasaki and H. Saito, J. Appl. Phys. 70, 3613 (1991).
16. K. H. Kim, K. C. Park, and D. Y. Ma, J. Appl. Phys. 81, 7764 (1997).
17. R. Cebulla, R. Wendt, and K. Ellmer, J. Appl. Phys. 83, 1087 (1998).
18. D. J. Cohen, K. C. Ruthe, and S. A. Barnett, J. Appl. Phys. 96, 459 (2004).
19. S. S. Lin, J. L. Huang, and P. Šajgalik, Surf. Coat. Technol. 185, 254 (2004).
20. M. Chen, X. Wang, Y. H. Yu, Z. L. Pei, X. D. Bai, C. Sun, R. F. Huang, and L. S. Wen, Appl. Surf. Sci. 158, 134 (2000).
21. Z. L. Pei, C. Sun, M. H. Tan, J. Q. Xiao, D. H. Guan, R. F. Huang, and L. S. Wen, J. Appl. Phys. 90, 3432 (2001).
22. C. Agashe, O. Kluth, J. Hüpkes, U. Zastrow, B. Rech, and M. Wuttig, J. Appl. Phys. 95, 1911 (2004).
23. G. Fang, D. Li, and B. Yao, Vacuum 68, 363 (2003).
24. A. Martín, J. P. Espinós, A. Justo, J. P. Holgado, F. Yubero, and A. R. González-Elipe, Surf. Coat. Technol. 151152, 289 (2002).
25. J. Mass, P. Bhattacharya, and R. S. Katiyar, Mater. Sci. Eng., B B103, 9 (2003).
26. H. Kim, Appl. Phys. Lett. 76, 259 (2000).
27. M. Kumar, R. M. Mehra, A. Wakahara, M. Ishida, and A. Yoshida, J. Appl. Phys. 93, 3837 (2003).
28. T. Makino, K. Tamura, C. H. Chia, Y. Segawa, M. Kawasaki, A. Ohtomo, and H. Koinuma, Phys. Status Solidi B 229, 853 (2002).
29. A. E. Jiḿnez-González, J. A. S. Urueta, and R. Suárez-Parra, J. Cryst. Growth 192, 430 (1998).
30. P. Nunes, E. Fortunato, P. Tonello, F. B. Fernandes, P. Vilarinho, and R. Martins, Vacuum 64, 281 (2002).
31. M. N. Islam, T. B. Ghosh, K. L. Chopra, and H. N. Acharya, Thin Solid Films 280, 20 (1996).
32. B. H. Choi, H. B. Im, J. S. Song, and K. H. Yoon, Thin Solid Films 193194, 712 (1990).
33. H. J. Ko, Y. F. Chen, S. K. Hong, H. Wenisch, T. Yao, and D. C. Look, Appl. Phys. Lett. 77, 3761 (2000).
34. T. Makino, Y. Segawa, S. Yoshida, A. Tsukazaki, A. Ohtomo, and M. Kawasaki, Appl. Phys. Lett. 85, 759 (2004).
35. M. Miki-Yoshida, F. Paraguay-Delgado, W. Estrada-López, and E. Andrade, Thin Solid Films 376, 99 (2000).
36. Th. Agne, Z. Guan, X. M. Li, H. Wolf, Th. Wichert, H. Natter, and R. Hempelmann, Appl. Phys. Lett. 83, 1204 (2003).
37. T. Minami, T. Yamamoto, and T. Miyata, Thin Solid Films 366, 63 (2000).
38. T. Minami, H. Sato, H. Nanto, and S. Takata, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 25, L776 (1986).
39. R. P. Wang, L. L. H. King, and A. W. Sleight, J. Mater. Res. 11, 1659 (1996).
40. B. M. Ataev, A. M. Bagamadova, V. V. Mamedov, A. K. Omaev, and M. R. Rabadanov, J. Cryst. Growth 198199, 1222 (1999).
41. H. Y. Xu, Y. C. Liu, R. Mu, C. L. Shao, Y. M. Lu, D. Z. Shen, and X. W. Fan, Appl. Phys. Lett. 86, 123107 (2005).
42. J.-M. Ntep, S. Said Hassani, A. Lusson, A. Tromson-Carli, D. Ballutaud, G. Didier, and R. Triboulet, J. Cryst. Growth 207, 30 (1999).
43. S. Takata, T. Minami, and H. Nanto, Thin Solid Films 135, 183 (1986).
44. D. S. Ginley and C. Bright, MRS Bull. 25, 15 (2000).
45. H. Kim, J. S. Horwitz, G. P. Kushto, Z. H. Kafafi, and D. B. Chrisey, Appl. Phys. Lett. 79, 284 (2001).
46. D. Song, A. G. Aberle, and J. Xia, Appl. Surf. Sci. 195, 291 (2002).
47. D. C. Look and B. Claflin, Phys. Status Solidi B 241, 624 (2004).
48. J. G. Lu, Z. Z. Ye, L. Wang, B. H. Zhao, and J. Y. Huang, Chin. Phys. Lett. 19, 1494 (2002).
49. J. G. Lu, Y. Z. Zhang, Z. Z. Ye, L. Wang, B. H. Zhao, and J. Y. Huang, Mater. Lett. 57, 3311 (2003).
50. J. G. Lu, Z. Z. Ye, F. Zhuge, Y. J. Zeng, B. H. Zhao, and L. P. Zhu, Appl. Phys. Lett. 85, 3134 (2004).
51. Y. R. Ryu, W. J. Kim, and H. W. White, J. Cryst. Growth 219, 419 (2000).
52. F. Zhuge, Appl. Phys. Lett. 87, 092103 (2005).
53. J. G. Lu, L. P. Zhu, Z. Z. Ye, F. Zhuge, B. H. Zhao, L. Wang, J. Y. Huang, and J. Yuan, J. Cryst. Growth 283, 413 (2005).
54. H. K. Kim, K. K. Kim, S. J. Park, T. Y. Seong, and I. Adesida, J. Appl. Phys. 94, 4225 (2003).
55. H. K. Kim, T. Y. Seong, K. K. Kim, S. J. Park, Y. S. Yoon, and I. Adesida, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 43, 976 (2004).
56. G. D. Yuan, Z. Z. Ye, L. P. Zhu, J. Y. Huang, Q. Qian, and B. H. Zhao, J. Cryst. Growth 268, 169 (2004).
57. W. S. Hong, L. C. De Jonghe, X. Yang, and M. N. Rahaman, J. Am. Ceram. Soc. 78, 3217 (1995).
58. S. K. Sampath and J. F. Cordaro, J. Am. Ceram. Soc. 81, 649 (1998).
59. C. R. Gorla, W. E. Mayo, S. Liang, and Y. Lu, J. Appl. Phys. 87, 3736 (2000).
60. M. H. Yoon, S. H. Lee, H. L. Park, H. K. Kim, and M. S. Jang, J. Mater. Sci. Lett. 21, 1703 (2002).
61. S. Maniv, W. D. Westwood, and E. Colombini, J. Vac. Sci. Technol. 20, 162 (1982).
62. J. G. Lu, Z. Z. Ye, J. Y. Huang, B. H. Zhao, and L. Wang, Chin. J. Semicond. 24, 729 (2003).
63. T. Hanabusa, H. Hosoda, K. Kusaka, and K. Tominaga, Thin Solid Films 343344, 164 (1999).
64. P. Nunes, A. Malika, B. Fernandesa, E. Fortunato, P. Vilarinho, and R. Martins, Vacuum 52, 45 (1999).
65. S. A. Studenikin, N. Golego, and M. Cocivera, J. Appl. Phys. 87, 2413 (2000).
66. M. Copel, M. C. Reuter, E. Kaxiras, and R. M. Tromp, Phys. Rev. Lett. 63, 632 (1989).
67. N. Grandjean, J. Massies, and V. H. Etgens, Phys. Rev. Lett. 69, 796 (1992).
68. M. Copel, M. C. Reuter, M. H. von Hoegen, and R. M. Tromp, Phys. Rev. B 42, 11682 (1990).
69. D. J. Eaglesham, F. C. Unterwald, and D. C. Jacobson, Phys. Rev. Lett. 70, 966 (1993).
70. D. L. Young, T. J. Coutts, V. I. Kaydanov, A. S. Gilmore, and W. P. Mulligan, J. Vac. Sci. Technol. A 18, 2978 (2000).
71. M. Chen, Z. L. Pei, X. Wang, Y. H. Yu, X. H. Liu, C. Sun, and L. S. Wen, J. Phys. D 33, 2538 (2000).
72. T. Minami, H. Nanto, S. Shooji, and S. Takata, Thin Solid Films 111, 167 (1984).
73. S. Ghosh, A. Sarkar, S. Chaudhuri, and A. K. Pal, Thin Solid Films 205, 64 (1991).
74. I. Takeuchi, W. Yang, K. S. Chang, M. A. Aronova, T. Venkatesan, R. D. Vispute, and L. A. Bendersky, J. Appl. Phys. 94, 7336 (2003).
75. J. I. Pankove, Optical Processes in Semiconductors (Prentice-Hall, Englewood Clifts, NJ, 1971).
76. E. Burstein, Phys. Rev. 93, 632 (1954).
77. A. P. Roth, J. B. Webb, and D. F. Williams, Phys. Rev. B 25, 7826 (1982).
78. B. E. Selnelius, K. F. Berggren, Z. C. Zin, I. Hamberg, and C. G. Granqvist, Phys. Rev. B 37, 10244 (1998).
79. A. P. Roth, J. B. Webb, and D. F. Williams, Solid State Commun. 39, 1269 (1981).
80. P. A. Wolff, Phys. Rev. 126, 405 (1962).
81. K. F. Berggren and B. E. Sernelius, Phys. Rev. B 24, 1971 (1981).
82. 1996 JCPDS-International Centre for Diffraction Data No. 36-1451.
83. 1996 JCPDS-International Centre for Diffraction Data No. 11-0661.