Opto-electronic properties and light-emitting device application of widegap layered oxychalcogenides: LaCuOCh (Ch = chalcogen) and la 2CdO 2Se 2

Physica Status Solidi (A) Applications and Materials Science

Volumn 203, Issue 11, 2006, Pages 2800-2811

  Hiramatsu, Hidenori ^a   Kamioka, Hayato ^a,e   Ueda, Kazushige ^a,b   Ohta, Hiromichi ^a,c   Kamiya, Toshio ^a,d   Hirano, Masahiro ^a   Hosono, Hideo ^a,d  

^a JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY   (Japan)

^b KYUSHU INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (Japan)

^c NAGOYA UNIVERSITY   (Japan)

^d TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (Japan)

^e UNIVERSITY OF TSUKUBA   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

METALLIC CONDUCTION; OXYCHALCOGENIDES; ROOM TEMPERATURE;

BAND STRUCTURE; CRYSTAL STRUCTURE; CRYSTALLINE MATERIALS; HOLE MOBILITY; LANTHANUM COMPOUNDS; LIGHT EMITTING DIODES;

HETEROJUNCTIONS;

EID: 33749054410     PISSN: 18626300     EISSN: 18626319     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/pssa.200669665     Document Type: Article

References (98)

1. H. Kawazoe, M. Yasukawa, H. Hyodo, M. Kurita, H. Yanagi, and H. Hosono, Nature 389, 939 (1997).
2. A. Kudo, H. Yanagi, H. Hosono, and H. Kawazoe, Appl. Phys. Lett. 73, 220 (1998).
3. R. E. Stauber, J. D. Perkins, P. A. Parilla, and D. S. Ginley, Electrochem. Solid-State Lett. 2, 654 (1999).
4. H. Yanagi, S. Inoue, K. Ueda, H. Kawazoe, H. Hosono, and N. Hamada, J. Appl. Phys. 88, 4159 (2000).
5. D. S. Ginley and C. Bright, MRS Bull. 25, 15 (2000).
6. H. Kawazoe, H. Yanagi, K. Ueda, and H. Hosono, MRS Bull. 25, 28 (2000).
7. N. Duan, A. W. Sleight, M. K. Jayaraj, and J. Tate, Appl. Phys. Lett. 77, 1325 (2000).
8. H. Yanagi, T. Hase, S. Ibuki, K. Ueda, and H. Hosono, Appl. Phys. Lett. 78, 1583 (2001).
9. K. Ueda, T. Hase, H. Yanagi, H. Kawazoe, H. Hosono, H. Ohta, M. Orita, and M. Hirano, J. Appl. Phys. 89, 1790 (2001).
10. R. Nagarajan, A. D. Draeseke, A. W. Sleight, and J. Tate, J. Appl. Phys. 89, 8022 (2001).
11. A. Tsukazaki, H. Saito, K. Tamura, M. Ohtani, H. Koinuma, M. Sumiya, S. Fuke, T. Fukumura, and M. Kawasaki, Appl. Phys. Lett. 81, 235 (2002).
12. H. Mizoguchi, M. Hirano, S. Fujitsu, T. Takeuchi, K. Ueda, and H. Hosono, Appl. Phys. Lett. 80, 1207 (2002).
13. X. Nie, S.-H. Wei, and S. B. Zhang, Phys. Rev. Lett. 88, 066405 (2002).
14. J. Tate, M. K. Jayaraj, A. D. Draeseke, T. Ulbrich, A. W. Sleight, K. A. Vanaja, R. Nagarajan, J. F. Wager, and R. L. Huffman, Thin Solid Films 411, 119 (2002).
15. T. Kamiya, H. Ohta, M. Kamiya, K. Nomura, K. Ueda, M. Hirano, and H. Hosono, J. Mater. Res. 19, 913 (2004).
16. H. Ohta and H. Hosono, Mater. Today 7, 42 (2004).
17. T. Kamiya and H. Hosono, Semicond. Sci. Technol. 20, S92 (2005).
18. A. Kudo, H. Yanagi, K. Ueda, H. Hosono, H. Kawazoe, and Y. Yano, Appl. Phys. Lett. 75, 2851 (1999).
19. H. Ohta, K. Kawamura, M. Orita, M. Hirano, N. Sarukura, and H. Hosono, Appl. Phys. Lett. 77, 475 (2000).
20. H. Yanagi, K. Ueda, H. Ohta, M. Orita, M. Hirano, and H. Hosono, Solid State Commun. 121, 15 (2002).
21. R. L. Hoffman, J. F. Wager, M. K. Jayaraj, and J. Tate, J. Appl. Phys. 90, 5763 (2001).
22. H. Ohta, H. Mizoguchi, M. Hirano, S. Narushima, T. Kamiya, and H. Hosono, Appl. Phys. Lett. 82, 823 (2003).
23. H. Ohta, M. Hirano, K. Nakahara, H. Maruta, T. Tanabe, M. Kamiya, T. Kamiya, and H. Hosono, Appl. Phys. Lett. 83, 1029 (2003).
24. A. Tsukazaki, A. Ohtomo, T. Onuma, M. Ohtani, T. Makino, M. Sumiya, K. Ohtani, S. F. Chichibu, S. Fuke, Y. Segawa, H. Ohno, H. Koinuma, and M. Kawasaki, Nature Mater. 4, 42 (2005).
25. K. Ueda, S. Inoue, S. Hirose, H. Kawazoe, and H. Hosono, Appl. Phys. Lett. 77, 2701 (2000).
26. K. Ueda and H. Hosono, J. Appl. Phys. 91, 4768 (2002).
27. K. Ueda, K. Takaruji, H. Hiramatsu, H. Ohta, T. Kamiya, M. Hirano, and H. Hosono, Chem. Mater. 15, 3692 (2003).
28. M. Palazzi, C. R. Acad. Sci., Paris, 292, 789 (1981).
29. W. J. Zhu, Y. Z. Huang, C. Dong, and Z. X. Zhao, Mater. Res. Bull. 29, 143 (1994).
30. B. A. Popovkin, A. M. Kusainova, V. A. Dolgikh, and L. G. Aksel'rud, Russ. J. Inorg. Chem. 43, 1471 (1998).
31. D. O. Charkin, A. V. Akopyan, and V. A. Dolgikh, Russ. J. Inorg. Chem. 44, 833 (1999).
32. S. Inoue, K. Ueda, H. Hosono, and N. Hamada, Phys. Rev. B 64, 245211 (2001).
33. H. Sato, H. Negishi, A. Wada, A. Ino, S. Negishi, C. Hirai, H. Namatame, M. Taniguchi, K. Takase, Y. Takahashi, T. Shimizu, Y. Takano, and K. Sekizawa, Phys. Rev. B 68, 035112 (2003).
34. K. Ueda, H. Hiramatsu, H. Ohta, M. Hirano, T. Kamiya, and H. Hosono, Phys. Rev. B 69, 155305 (2004).
35. K. Ueda, H. Hosono, and N. Hamada, J. Phys.: Condens. Matter 16, 5179 (2004).
36. T. Kamiya, K. Ueda, H. Hiramatsu, H. Kamioka, H. Ohta, M. Hirano, and H. Hosono, Thin Solid Films 486, 98 (2005).
37. K. Ueda, H. Hosono, and N. Hamada, J. Appl. Phys. 98, 043506 (2005).
38. M. Guittard, S. Benazeth, J. Dugué, S. Jaulmes, M. Palazzi, P. Lamelle, and J. Flahaut, J. Solid State Chem. 51, 227 (1984).
39. I. Yu. Baranov, V. A. Dolgikh, and B. A. Popovkin, Russ. J. Inorg. Chem. 41, 1819 (1996).
40. H. Hiramatsu, K. Ueda, T. Kamiya, H. Ohta, M. Hirano, and H. Hosono, J. Mater. Chem. 14, 2946 (2004).
41. S. Bénazeth, M. Guittard, and P. Lamelle, Acta Cryst. C 40, 345 (1984).
42. S. Bénazeth, M. Guittard, and P. Lamelle, Acta Cryst. C 41, 649 (1985).
43. K. Ueda, S. Inoue, H. Hosono, N. Sarukura, and M. Hirano, Appl. Phys. Lett. 78, 2333 (2001).
44. J. M. Mayer, L. F. Schneemeyer, T. Siegrist, J. V. Waszczak, and B. V. Dover, Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 31, 1645 (1992).
45. W. J. Zhu and P. H. Hor, Inorg. Chem. 36, 3576 (1997).
46. W. J. Zhu and P. H. Hor, J. Solid State Chem. 130, 319 (1997).
47. O. M. Aliev, and V. S. Tanryverdiev, Russ. J. Inorg. Chem. 42, 1761 (1997).
48. D. O. Charkin, P. S. Berdonosov, V. A. Dolgikh, and P. Lightfoot, Russ. J. Inorg. Chem. 45, 182 (2000).
49. W. J. Zhu and P. H. Hor, J. Solid State Chem. 153, 26 (2000).
50. F. Q. Huang, P. Brazis, C. R. Kannewurf, and J. A. Ibers, J. Solid State Chem. 155, 366 (2000).
51. C. Boyer-Candalen, J. Derouet, P. Porcher, Y. Moëlo, and A. Meerschaut, J. Solid State Chem. 165, 228 (2002).
52. I. Ijjaali, K. Mitchell, C. L. Haynes, A. D. McFarland, R. P. Van Duyne, and J. A. Ibers, J. Solid State Chem. 176, 170 (2003).
53. I. Ijjaali, C. L. Haynes, A. D. McFarland, R. P. Van Duyne, and J. A. Ibers, J. Solid State Chem. 172, 257 (2003).
54. V. Meignen, L. Cario, A. Lafond, Y. Moëlo, C. Guillot-Deudon, and A. Meerschaut, J. Solid State Chem. 177, 2810 (2004).
55. J. Llanos, and O. Peña, J. Solid State Chem. 178, 957 (2005).
56. K. Ishikawa, S. Kinoshita, Y. Suzuki, S Matsuura, T. Nakanishi, M. Aizawa, and Y. Suzuki, J. Electrochem. Soc. 138, 1166 (1991).
57. T. Ohtani, M. Hirose, T. Sato, K. Nagaoka, and M. Iwabe, Jpn. J. Appl. Phys. 32 (Suppl. 32-3), 316 (1993).
58. Y. Takano, K. Yahagi, and K. Sekizawa, Physica B 206/207, 764 (1995).
59. T. Ohtani, Y. Tachibana, and Y. Fujii, J. Alloys Compd. 262/263, 175 (1997).
60. K. Ueda, S. Hirose, H. Kawazoe, and H. Hosono, Chem. Mater. 13, 1880 (2001).
61. S. Hirose, K. Ueda, H. Kawazoe, and H. Hosono, Chem. Mater. 14, 1037 (2002).
62. K. Takase, M. Koyano, T. Shimizu, K. Makihara, Y. Takahashi, Y. Takano, and K. Sekizawa, Solid State Commun. 123, 531 (2002).
63. H. Hiramatsu, M. Orita, M. Hirano, K. Ueda, and H. Hosono, J. Appl. Phys. 91, 9177 (2002).
64. K. Ueda, K. Takafuji, and H. Hosono, J. Solid State Chem. 170, 182 (2003).
65. H. Yanagi, J. Tate, S. Park, C.-H. Park, and D. A. Keszler, Appl. Phys. Lett. 82, 2814 (2003).
66. C.-H. Park, D. A. Keszler, H. Yanagi, and J. Tate, Thin Solid Films 445, 288 (2003).
67. M. Yasukawa, K. Ueda, and H. Hosono, J. Appl. Phys. 95, 3594 (2004).
68. M. Wintenberger, J. Dugue, M. Guittard, N. H. Dung, and V. V. Tien, J. Solid State Chem. 70, 295 (1987).
69. Y. Takano, K. Takase, G. Kitamura, C. Itoi, and K. Sekizawa, J. Appl. Phys. 85, 6103 (1999).
70. K. Takase, O. Shoji, T. Shimizu, Y. Takahashi, Y. Takano, and K. Sekizawa, J. Magn. Magn. Mater. 272-276, e1535 (2004).
71. H. Yanagi, S. Ohno, T. Kamiya, H. Hiramatsu, M. Hirano, and H. Hosono, J. Appl. Phys. 100, 033717 (2006).
72. H. Hiramatsu, K. Ueda, H. Ohta, M. Orita, M. Hirano, and H. Hosono, Appl. Phys. Lett. 81, 598 (2002).
73. H. Hiramatsu, H. Ohta, T. Suzuki, C. Honjo, Y. Ikuhara, K. Ueda, T. Kamiya, M. Hirano, and H. Hosono, Cryst. Growth Des. 4, 301 (2004).
74. H. Hiramatsu, K. Ueda, K. Takafuji, H. Ohta, M. Hirano, T. Kamiya, and H. Hosono, J. Mater. Res. 19, 2137 (2004).
75. H. Hiramatsu, K. Ueda, T. Kamiya, H. Ohta, M. Hirano, and H. Hosono, J. Phys. Chem. B 108, 17344 (2004).
76. H. Ohta, K. Nomura, M. Orita, M. Hirano, K. Ueda, T. Suzuki, Y. Ikuhara, and H. Hosono, Adv. Funct. Mater. 13, 139 (2003).
77. K. Nomura, H. Ohta, K. Ueda, T. Kamiya, M. Hirano, and H. Hosono, Science 300, 1269 (2003).
78. K. Nomura, H. Ohta, K. Ueda, T. Kamiya, M. Orita, M. Hirano, T. Suzuki, C. Honjyo, Y. Ikuhara, and H. Hosono, J. Appl. Phys. 95, 5532 (2004).
79. H. Ohta, S.-W. Kim, S. Ohta, K. Koumoto, M. Hirano, and H. Hosono, Cryst. Growth Des. 5, 25 (2005).
80. Y. Ogo, K. Nomura, H. Yanagi, H. Ohta, T. Kamiya, M. Hirano, and H. Hosono, Thin Solid Films 496, 64 (2006).
81. K. Sugiura, H. Ohta, K. Nomura, H. Yanagi, M. Hirano, H. Hosono, and K. Koumoto, Inorg. Chem. 45, 1894 (2006).
82. H. Hiramatsu, K. Ueda, H. Ohta, M. Hirano, T. Kamiya, and H. Hosono, Appl. Phys. Lett. 82, 1048 (2003).
83. H. Hiramatsu, K. Ueda, K. Takafuji, H. Ohta, M. Hirano, T. Kamiya, and H. Hosono, Appl. Phys. A 79, 1521 (2004).
84. H. Hiramatsu, K. Ueda, K. Takafuji, H. Ohta, M. Hirano, T. Kamiya, and H. Hosono, J. Appl. Phys. 94, 5805 (2003).
85. H. Kamioka, H. Hiramatsu, H. Ohta, M. Hirano, K. Ueda, T. Kamiya, and H. Hosono, Appl. Phys. Lett. 84, 879 (2004).
86. H. Kamioka, H. Hiramatsu, M. Hirano, K. Ueda, T. Kamiya, and H. Hosono, Opt. Lett. 29, 1659 (2004).
87. H. Hiramatsu, H. Kamioka, K. Ueda, M. Hirano, and H. Hosono, J. Ceram. Soc. Jpn. 113, 10 (2005).
88. H. Hiramatsu, K. Ueda, H. Ohta, T. Kamiya, M. Hirano, and H. Hosono, Appl. Phys. Lett. 87, 211107 (2005).
89. S. Park, D. A. Keszler, M. M. Valencia, R. L. Hoffman, J. P. Bender, and J. F. Wager, Appl. Phys. Lett. 80, 4393 (2002).
90. H. Amano, N. Sawaki, I. Akasaki, and Y. Toyoda, Appl. Phys. Lett. 48, 353 (1986).
91. S. Nakamura, T. Mukai, M. Senoh, and N. Iwasa, Jpn. J. Appl. Phys. 31, L139 (1992).
92. I. Akasaki and H. Amano, Jpn. J. Appl. Phys. 36, 5393 (1997).
93. R. M. Park, M. B. Troffer, E. Yablonovitch, and T. J. Gmitter, Appl. Phys. Lett. 59, 1896 (1991).
94. E. Tournié, P. Brunet, and J.-P. Faurie, Appl. Phys. Lett. 74, 2200 (1999).
95. Y. Li, M. Takata, and A. Nakamura, Phys. Rev. B 57, 9193 (1998).
96. K. Hümmer, phys. status sol. (b) 56, 249 (1973).
97. H. Shinojima, J. Yumoto, and N. Uesugi, Appl. Phys. Lett. 60, 298 (1992).
98. K. Ueda, H. Hiramatsu, M. Hirano, T. Kamiya, and H. Hosono, Thin Solid Films 496, 8 (2006).