Single-crystalline films of the homologous series InGaO3(ZnO)m grown by reactive solid-phase epitaxy

Advanced Functional Materials

Volumn 13, Issue 2, 2003, Pages 139-144

  Ohta, Hiromichi ^a   Nomura, Kenji ^b   Orita, Masahiro ^a   Hirano, Masahiro ^a   Ueda, Kazushige ^b   Suzuki, Toshiyuki ^c   Ikuhara, Yuichi ^d   Hosono, Hideo ^b  

^a JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY   (Japan)

^b TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (Japan)

^c JAPAN FINE CERAMICS CENTER   (Japan)

^d UNIVERSITY OF TOKYO   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANNEALING; COMPOSITION; CRYSTAL GROWTH; CRYSTAL ORIENTATION; HIGH TEMPERATURE OPERATIONS; INITIATORS (CHEMICAL); SINGLE CRYSTALS; THIN FILMS; ZINC OXIDE; ZIRCONIA;

HIGH TEMPERATURE ANNEALING; REACTIVE SOLID PHASE EPITAXY; SINGLE CRYSTALLINE THIN FILMS; YTTRIA-STABILIZED ZIRCONIA;

OXIDE SUPERCONDUCTORS;

EID: 0037293893     PISSN: 1616301X     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adfm.200390020     Document Type: Article

References (36)

1. J. G. Bednortz, K. A. Muller, Z. Phys. B: Condens. Matter 1986, 64, 189.
2. M. K. Wu, J. R. Ashburn, C. J. Torng, P. H. Hor, R. L. Meng, L. Gao, Z. J. Huang, Y. Q. Wang, C. W. Chu, Phys. Rev. Lett. 1987, 58, 908.
3. a) S. A. Sunshine, T. Siegrist, L. F. Schneemeyer, D. W. Murphy, R. J. Cava, B. Batlogg, R. B. van Dover, R. M. Fleming, S. H. Glarum, S. Nakahara, R. Farrow, J. J. Krajewski, S. M. Zahurak, J. V. Waszczak, J. H. Marshall, P. Marsh, L. W. Rupp, Jr., W. F. Peck, Phys. Rev. 1988, B38, 893.
4. b) Y. Gao, P. Lee, P. Coppens, M. A. Subramanian, A. W. Sleight, Science 1988, 241, 954.
5. H. Kasper, Z. Anorg. Allg. Chem. 1967, 349, 113.
6. N. Kimizuka, E. Takayama, J. Solid State Chem. 1981, 40, 109.
7. P. J. Cannard, R. J. D. Tilley, J. Solid State Chem. 1988, 73, 418.
8. N. Kimizuka, T. Mohri, M. Nakamura, J. Solid State Chem. 1989, 81, 70.
9. N. Kimizuka, M. Isobe, M. Nakamura, T. Mohri, J. Solid State Chem. 1993, 103, 394.
10. M. Isobe, N. Kimizuka, M. Nakamura, T. Mohri, Acta Crystallogr. 1994, C50, 332.
11. C. Li, Y. Bando, M. Nakamura, M. Onoda, N. Kimizuka, J. Solid State Chem. 1998, 139, 347.
12. W. Pitschke, K. Koumoto, Powder Diffr. 1999, 14, 213.
13. J. W. Phillips, R. J. Cava, G. A. Thomas, S. A. Cater, J. Kwo, T. Siegrist, J. J. Krajewski, J. H. Marchall, W. F. Peak, Jr., D. H. Papkine, Appl. Phys. Lett. 1995, 67, 2246.
14. H. Hiramatsu, W. S. Seo, K. Koumoto, Chem. Mater. 1998, 10, 3033.
15. N. Naghavi, A. Rougier, C. Marcet, C. Guery, J. B. Leriche, J. M. Trascon, Thin Solid Films 2000, 360, 233.
16. H. Ohta, W. S. Seo, K. Koumoto, J. Am. Ceram. Soc. 1996, 79, 2193.
17. J. L. Vossen, W. Kern, Thin Film Processes, Academic Press, New York 1978.
18. R. F. Bunshah, Deposition Technologies for Films and Coatings, Developments and Applications, Noyes Publications, Park Ridge, NJ 1982.
19. T. Suntola, M. Simpson, Atomic Layer Epitaxy, Chapman and Hall, New York 1990.
20. D. B. Chrisey, G. K. Hubler, Pulsed Laser Deposition of Thin Films, Wiley, New York 1994.
21. T. Kitamura, M. Yoshida, Y. Yamada, Y. Shiohara, I. Hirabayashi, S. Tanaka, Appl. Phys. Lett. 1995, 66, 1421.
22. T. Yamaguchi, F. Ueda, M. Imamura, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 1993, 32, 1634.
23. R. S. Wagner, W. C. Ellis, Appl. Phys. Lett. 1964, 4, 89.
24. J. D. Filby, S. Nielson, Microelectron. Reliab. 1996, 5, 11.
25. A. M. Morales, C. M. Lieber, Science 1998, 279, 208.
26. N. Chandrasekhar, D. G. Schlom, Physica C 1994, 235-240, 697.
27. K. S. Yun, B. D. Choi, Y. Matsumoto, J. H. Song, N. Kanda, T. Itoh, M. Kawasaki, T. Chikyow, P. Ahmet, H. Koinuma, Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 61.
28. H. Ohta, H. Tanji, M. Orita, H. Hosono, H. Kawazoe, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1999, 570, 309.
29. M. Orita, H. Ohta, M. Hirano, S. Narushima, H. Hosono, Philos. Mag. B 2001, 81, 501.
30. N. Ohashi, I. Sakaguchi, S. Hishita, Y. Adachi, H. Haneda, T. Ogino, J. Appl. Phys. 2002, 92, 2378.
31. K. Nomura, H. Ohta, K. Ueda, M. Orita, M. Hirano, H. Hosono, Thin Solid Films 2002, 411, 147.
32. H. Hiramatsu, K. Ueda, H. Ohta, M. Orita, M. Hirano, H. Hosono, Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 598.
33. H. Ohta, K. Kawamura, M. Orita, M. Hirano, N. Sarukura, H. Hosono, Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 475.
34. H. Ohta, M. Orita, M. Hirano, H. Hosono, J. Appl. Phys. 2002, 91, 3547.
35. M. Orita, H. Ohta, H. Hiramatsu, M. Hirano, S. Den, M. Sasaki, T. Katagiri, H. Mimura, H. Hosono, Rev. Sci. Instrum. 2001, 72, 3340.
36. H. Kiessig, Ann. Phys. (Leipzig) 1931, 10, 771.