Cyclic atomic layer deposition of hafnium aluminate thin films using tetrakis(diethylamido)hafnium, trimethyl aluminum, and water

Chemical Vapor Deposition

Volumn 12, Issue 2-3, 2006, Pages 125-129

  Kim, Suk Hoon ^a   Rhee, Shi Woo ^a  

^a Pohang University of Science and Technology (POSTECH)   (South Korea)

Author keywords

Al2O3; ALD; HfO2; High k dielectrics; Laminates

Indexed keywords

COMPOSITION; CRYSTALLIZATION; DEPOSITION; HAFNIUM COMPOUNDS; PERMITTIVITY; RAPID THERMAL ANNEALING;

ALD; ATOMIC LAYER DEPOSITION; HIGH K DIELECTRICS;

THIN FILMS;

EID: 33645579821     PISSN: 09481907     EISSN: 15213862     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cvde.200506371     Document Type: Article

References (32)

1. W. Vandervorst, B. Brijs, H. Bender, O. T. Conard, J. Petry, O. Richard, S. V. Elshocht, A. Delabie, M. Caymax, S. D. Gendt, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 2003, 745, N2.2.
2. S. Sayan, S. Aravamudhan, B. W. Schulte, F. Cosandey, G. D. Wilk, T. Gustafsson, E. Garfunkel, J. Vac. Sci. Technol., A 2002, 20, 507.
3. H. Ikeda, S. Goto, K. Honda, M. Sakashita, A. Sakai, S. Zaima, Y. Yasuda, Jpn. J. Appl. Phys., Pan 1 2002, 41, 2476.
4. G. D. Wilk, R. M. Wallace, J. M. Anthony, J. Appl. Phys. 2000, 87, 484.
5. A. Kumar, D. Rajdev, D. L. Douglass, J. Am. Chem. Soc. 1972, 55, 439.
6. G. D. Wilk, R. M. Wallace, J. M. Anthony, J. Appl. Phys. 2001, 89, 5243.
7. M. Copel, M. Gribelyuk, E. Gusev, Appl. Phys. Lett. 2000, 76,436.
8. G. B. Rayner, Jr. D. Kang, Y. Zhang, G. Lucovsky, J. Vac. Sci. Technol., B 2002, 20, 1748.
9. M. H. Cho, Y. S. Roh, C. N. Whang, K. Jeong, H. J. Choi, S. W. Nam, D. H. Ko, J. H. Lee, N. I. Lee, K. Fujihara, Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 1071.
10. M. K. Song, S. W. Kang, S. W. Rhee, ;. Electrochem. Soc. 2005, 152, C108.
11. P. A. Marshall, R. J. Potter, A. C. Jones, P. R. Chalker, S. Taylor, G. W. Critchlow, S. A. Rushworth, Chem. Vap. Deposition 2004, 10, 275.
12. H. Y Yu, N. Wu, M. F. Li, C. Zhu, B. J. Cho, D. L. Kwong, C. H. lung, J. S. Pan. J. W. Chai, W. D. Wang, D. Z. Chi, C. H. Ang, J. Z. Zheng, S. Ramanathan, Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 3618.
13. H. Y. Yu. M. F. Li, B. J. Cho, C. C. Yeo, M. S. Joo, D. L. Kwong, J. S. Pan, C. H. Ang, J. Z. Zheng, S. Ramanathan, Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 376.
14. M. Y. Ho, H. Gong, G. D. Wilk, B. W. Busch, M. L. Green, W. H. Lin, A. See, S. K. Lahiri, M. E. Loomans, P. I. Raisanen. T. Gustafsson, Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 4218.
15. C. Wiemer, M. Fanciulli, B. Crivelli, G. Pavia. M. Alessandri, Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 5271.
16. H. S. Chang, H. Hwang, M. H. Cho, H. K. Kim, D. W. Moon. J. Vac. Sci. Technol., A 2004, 22, 165.
17. M. Kundu, N. Miyata, M. Ichikawa. J. Appl. Phys. 2002, 92, 1914.
18. M. D. Groner, F. H. Fabreguette, J. W. Elam, S. M. George, Chem. Mater. 2004, 16, 639.
19. R. S. Johnson, J. G. Hong, C. Hinkle, G. Lucovsky. J. Vac. Sci. Technol., B 2002, 20, 1126.
20. C. Zhao, O. Richard, E. Young, H. Bender, G. Roebben, S. Haukka, S. D. Gendt, M. Houssa, R. Carter, W. Tsai, O. V. D. Biest, M. Heyns, J Non-Cryst. Solids 2002, 303, 144.
21. M. K. Ritala, K. Kukli, A. Rahtu, P. I. Raisanen, M. Leskela, T. Saja-vaara, J. Keinonen, Science 2000.288, 319.
22. R. G. Gordon, J. Becker, D. Hausmann, S. Suh, Chem. Mater. 2001.13, 2463.
23. W. K. Kim, S. W. Rhee, N. I. Lee, J. H. Lee, H. K. Kang. J. Vac. Sci. Technol., A 2004, 22, 1285.
24. W. H. Nam, S. W. Rhee, Electrachem. Solid-State Lett. 2004, 7, C55.
25. J. W. Elam, Z. A. Sechrist, S. M. George, Thin Solid Films 2002, 414, 43.
26. W. F. A. Besling, E. Young. T. Conard, C. Zhao. R. Carter, W. Vandervorst, M. Caymax, S. D. Gendt, M. Heyns, J. Maes, M. Tuominen. S. Haukka, J. Non-Cryst. Solids 2002, 303, 123.
27. M. N. Rocklein, F. H. Fabregutte. S. M. George, presented at the AVS 3rd Int. Conf. on Atomic Layer Deposition, San Jose, CA, August 2003.
28. S. V. Elshocht, M. Caymax, S. D. Gendt, T. Conard, J. Petry, M. Claes, T. Witters, C. Zhao, B. Brijs, O. Richard, H. Bender, W. Vandervorst. R. Carter, J. Kluth, L. Date, D. Pique. M. M. Heyns. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 2003, 745, N5.15.
29. M. Caymax, H. Bender, B. Brijs, T. Conard, S. D. Gendt, A. Delabic. M. Heyns, B. Onsia, L. Ragnarsson, O. Richard. W. Vandervorst, S. V. Elshocht, C. Zhao, J. W. Maes, L. Date, D. Pique, E. Young, W. Tsai, Y. Shimamoto, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 2003, 765, D2.6.
30. D. M. Hausmann, R. G. Gordon, J. Cryst. Growth 2003, 249, 251.
31. M. D. Groner, J. W. Elam, F. H. Fabreguette, S. M. George, Thin Solid Films 2002, 413, 186.
32. K. Kukli, M. Ritala, T. Sajavaara, J. Keinonen, M. Leskela, Chem. Vap. Deposition 2002, 8, 199.