Characteristics of unannealed ZnMgO/ZnO p-n junctions on bulk (100) ZnO substrates

Applied Physics Letters

Volumn 86, Issue 17, 2005, Pages 1-3

  Yang, Hyucksoo ^a   Li, Y ^a   Norton, D P ^a   Pearton, S J ^a   Jung, Soohwan ^a   Ren, F ^a   Boatner, L A ^b  

^a University of Florida   (United States)

^b OAK RIDGE NATIONAL LABORATORY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

HOLE DENSITY; NONPOLAR SUBSTRATES; SPINTRONICS; UV LIGHT EMITTERS;

ANNEALING; ELECTRIC CONDUCTIVITY; ELECTRIC FIELDS; EVAPORATION; MAGNESIA; OHMIC CONTACTS; OSCILLATORS (ELECTRONIC); POLYCRYSTALLINE MATERIALS; PULSED LASER DEPOSITION; STRENGTH OF MATERIALS; SUBSTRATES; X RAY DIFFRACTION ANALYSIS; ZINC OXIDE;

HETEROJUNCTIONS;

EID: 20844453907     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1906284     Document Type: Article

References (38)

1. A. Tsukazaki, A. Ohtomo, T. Onuma, M. Ohtani, T. Makino, M. Sumiya, K. Ohtani, S. F. Chichibu, S. Fuke, Y. Segawa, H. Ohno, H. Koinuma, and M. Kawasaki, Nat. Mater. 4, 42 (2005).
2. D. C. Look and B. Claflin, Phys. Status Solidi B 241, 624 (2004).
3. Ya. I. Alivov, E. V. Kalinina, A. E. Cherenkov, D. C. Look, B. M. Ataev, A. K. Omaev, M. V. Chukichev, and D. M. Bagnall, Appl. Phys. Lett. 83, 4719 (2003).
4. Ya. I. Alivov, J. E. Van Nostrand, D. C. Look, M. V. Chukichev, and B. M. Ataev, Appl. Phys. Lett. 83, 2943 (2003).
5. A. Osinsky, J. W. Dong, M. Z. Kauser, B. Hertog, A. M. Dabiran, P. P. Chow, S. J. Pearton, O. Lopatiuk, and L. Chernyak, Appl. Phys. Lett. 85, 4272 (2004).
6. R. Konenkamp, R. C. Word, and C. Schlegel, Appl. Phys. Lett. 85, 6004 (2004).
7. O. Lopatiuk, W. Burdett, L. Chernyak, K. P. Ip, Y. W. Heo, D. P. Norton, S. J. Pearton, B. Hertog, P. P. Chow, and A. Osinsky, Appl. Phys. Lett. 86, 012105 (2005).
8. D. C. Look, Mater. Sci. Eng., B 80, 383 (2001).
9. H. Ohta, K. Kawamura, M. Orita, M. Hirano, N. Sarukura, and H. Hosono, Appl. Phys. Lett. 77, 475 (2000).
10. M. Joseph, H. Tabata, and T. Kawai, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 38, L1205 (1999).
11. N. Y. Garces, N. C. Giles, L. E. Halliburton, G. Cantwell, D. B. Eason, D. C. Reynolds, and D. C. Look, Appl. Phys. Lett. 80, 1334 (2002).
12. Y. Yan, S. B. Zhang, and S. T. Pantelides, Phys. Rev. Lett. 86, 5723 (2001).
13. D. C. Look, D. C. Reynolds, C. W. Litton, R. L. Jones, D. B. Eason, and G. Cantwell, Appl. Phys. Lett. 81, 1830 (2002).
14. Kyoung-Kook Kim, Hyun-Sik Kim, Dae-Kue Hwang, Jae-Hong Lim, and Seong-Ju Park, Appl. Phys. Lett. 83, 63 (2003).
15. Y. W. Heo, S. J. Park, K. Ip, S. J. Pearton, and D. P. Norton, Appl. Phys. Lett. 83, 1128 (2003).
16. Y. Heo, K. Ip, S. J. Park, S. J. Pearton, and D. P. Norton, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. A78, 53 (2003).
17. M. H. Huang, S. Mao, H. Feick, H. Yan, Y. Wu, H. Kind, E. Weber, R. Russo, and P. Yang, Science 292, 1897 (2001).
18. Y. W. Heo, D. P. Norton, L. C. Tien, Y. Kwon, B. S. Kang, F. Ren, S. J. Pearton, and J. R. LaRoche, Mater. Sci. Eng., R. 47, 1 (2004).
19. S. Kim, B. S. Kang, F. Ren, Y. W. Heo, K. Ip, D. P. Norton, and S. J. Pearton, Appl. Phys. Lett. 84, 1904 (2004).
20. J. M. Bian, X. M. Li, X. D. Gao, W. D. Lu, and L. D. Chen, Appl. Phys. Lett. 84, 541 (2004).
21. J. M. Bian, X. M. Li, C. Y. Zhang, W. D. Yu, and X. D. Gao, Appl. Phys. Lett. 85, 4070 (2004).
22. D. C. Look, G. M. Renlund, R. H. Burgener, and J. R. Sizelove, Appl. Phys. Lett. 85, 5269 (2004).
23. K. K. Kim, H. S. Kim, D. K. Hwang, J. H. Lim, and S. J. Park, Appl. Phys. Lett. 83, 63 (2003).
24. J. Wang, G. Du, B. Zhao, X. Yang, Y. Zhang, Y. Ma, D. Liu, Y. Chang, H. Wang, H. Yang, and S. Yang, J. Phys.: Condens. Matter 255, 293 (2003).
25. J. F. Rommeluere, L. Svob, F. Jomard, J. Mimila-Arroyo, A. Lusson, V. Sallet, and Y. Marfaing, Appl. Phys. Lett. 83, 287 (2003).
26. X. Li, Y. Yan, T. A. Gessert, C. L. Perkins, D. Young, C. DeHart, M. Young, and T. J. Coutts, J. Vac. Sci. Technol. A 21, 1342 (2003).
27. T. Ohshima, T. Ikegami, K. Ebihara, J. Asmussen, and R. K. Thareja, Thin Solid Films 435, 49 (2003).
28. F. J. Lu, Y. Zhang, Z. Ye, L. Wang, B. Zhao, and J. Huang, Mater. Lett. 57, 3311 (2003).
29. J. Huang, Z. Ye, Hanhong Chen, B. Zhao, and L. Wang, J. Mater. Sci. Lett. 22, 249 (2003).
30. T. Aoki, Y. Hatanaka, and D. C. Look, Appl. Phys. Lett. 76, 3257 (2000).
31. Y. R. Ryu, T. S. Lee, J. H. Leem, and H. W. White, Appl. Phys. Lett. 83, 4032 (2003).
32. C. H. Park, S. B. Zhang, and S.-H. Wei, Phys. Rev. B 66, 073202 (2002).
33. T. Yamamoto and H. Katayama-Yoshida, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 38, L166 (1999).
34. Y. W. Heo, Y. W. Kwon, Y. Li, S. J. Pearton, and D. P. Norton, Appl. Phys. Lett. 84, 3474 (2004).
35. T. Makino, C. H. Chia, N. T. Tuan, H. D. Sun, Y. Segawa, M. Kawasaki, A. Ohmoto, K. Tamura, and H. Koinuma, Appl. Phys. Lett. 77, 975 (2000).
36. K. Ip, Y. W. Heo, D. P. Norton, S. J. Pearton, J. R. LaRoche, and F. Ren, Appl. Phys. Lett. 85, 1169 (2004).
37. P. Waltereit, O. Brandt, A. Trampert, H. T. Grahn, J. Menniger, M. Ramsteiner, M. Reiche, and K. H. Ploog, Nature (London) 406, 865 (2000).
38. A. Chakraborty, S. Keller, C. Meier, B. A. Haskell, S. Keller, P. Waltereit, S. P. DenBaars, S. Nakamura, J. S. Speck, and U. K. Mishra, Appl. Phys. Lett. 86, 031901 (2005).