Vibrational spectroscopy study of Ar + -ion irradiated Si-rich oxide films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition

Journal of Applied Physics

Volumn 97, Issue 11, 2005, Pages

  Mariotto, G ^a   Das, G ^a   Quaranta, A ^a   Della Mea, G ^a   Corni, F ^b   Tonini, R ^b  

^a UNIVERSITY OF TRENTO   (Italy)

^b UNIVERSITY OF MODENA AND REGGIO EMILIA   (Italy)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DIFFUSION BARRIER; FILM MICROSTRUCTURES; SI-RICHED OXIDE FILMS; VIBRATIONAL SPECTROSCOPY;

ANNEALING; CRYSTALLIZATION; MICROSTRUCTURE; MOLECULAR VIBRATIONS; PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; POSITIVE IONS; SILICON; SPECTROSCOPIC ANALYSIS; THERMAL EFFECTS; THIN FILMS;

ARGON;

EID: 20744446620     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1900284     Document Type: Article

References (37)

1. H. H. S. Javadi, W. R. McGrath, B. Bumble, and H. G. LeDuc, Appl. Phys. Lett. 61, 2172 (1992).
2. K. W. Wecht, Appl. Opt. 30, 4133 (1990).
3. C. T. Lee, C. T. Huang, and J. Y. Chen, J. Appl. Phys. 84, 1204 (1998).
4. A. G. Erlat, B. C. Wang, R. J. Spontak, Y. Tropsha, K. D. Mar, D. B. Montgomery, and E. A. Vogler, J. Mater. Res. 15, 704 (2000).
5. F. Iacona, G. Franzò, and C. Spinella, J. Appl. Phys. 87, 1295 (2000).
6. D. Nesheva, C. Raptis, A. Perakis, I. Bineva, Z. Aneva, Z. Levi, S. Alexandrova, and H. Hofmeister, J. Appl. Phys. 92, 4678 (2002).
7. T. Ehara and S. Machida, Thin Solid Films 346, 275 (1999).
8. B. J. Hinds, F. Wang, D. M. Wolfe, C. L. Hinkle, and G. Lucovsky, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 2171 (1998).
9. B. H. Augustine, E. A. Irene, Y. J. He, K. J. Price, L. E. McNeil, K. N. Christensen, and D. M. Maher, J. Appl. Phys. 78, 4020 (1995).
10. B. Garrido, J. Samitier, S. Bota, J. A. Moreno, J. Montserrat, and J. R. Morante, J. Appl. Phys. 81, 126 (1997).
11. A. Perez-Rodriguez, J. Appl. Phys. 94, 254 (2003).
12. M. Klanjšek Gunde and M. Maček, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 74, 181 (2002).
13. A. del Prado, J. Appl. Phys. 93, 8930 (2003).
14. A. Sassella, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 377 (1997).
15. R. S. Brusa, W. Deng, G. P. Karwasz, A. Zecca, G. Mariotto, P. Folegati, R. Ferragut, and A. Dupasquier, Appl. Surf. Sci. 194, 106 (2002).
16. R. S. Brusa, J. Appl. Phys. 94, 7483 (2003).
17. J. H. Parker, Jr., D. W. Feldman, and M. Ashkin, Phys. Rev. 155, 712 (1967).
18. A. Borghesi, A. Sassella, B. Pivac, and L. Zanotti, Solid State Commun. 100, 657 (1996).
19. C. T. Kirk, Phys. Rev. B 38, 1255 (1988).
20. D. Nesheva, I. Bineva, Z. Levi, Z. Aneva, Ts. Merdzhanova, and J. C. Pivin, Vacuum 68, 1 (2003).
21. D. V. Tsu, G. Lucovsky, and M. J. Mantini, Phys. Rev. B 33, 7069 (1986).
22. P. G. Pai, S. S. Chao, Y. Takagi, and G. Lucowski, J. Vac. Sci. Technol. A 4, 689 (1986).
23. M. I. Alayo, I. Pereyra, W. L. Scopel, and M. C. A. Fantini, Thin Solid Films 402, 154 (2002).
24. G. Winterling, Phys. Rev. B 12, 2432 (1975).
25. W. L. Scopel, M. C. A. Fantini, M. I. Alayo, and I. Pereyra, Thin Solid Films 425, 275 (2003).
26. F. L. Martinez, Phys. Rev. B 63, 245320 (2001).
27. D. V. Tsu, G. Lucovsky, M. J. Mantini, and S. S. Chao, J. Vac. Sci. Technol. A 5, 1998 (1987).
28. H. Rinnert, M. Vergnat, and G. Marchal, Mater. Sci. Eng., B 69-70, 484 (2000).
29. E. San Andŕs, A. del Prado, I. Mártil, G. González-Diaz, D. Bravo, and F. J. López, J. Appl. Phys. 92, 1906 (2002).
30. S. Hayashi and K. Yamamoto, J. Lumin. 70, 352 (1996).
31. Y. Kanzawa, S. Hayashi, and K. Yamamoto, J. Phys.: Condens. Matter 8, 4823 (1996).
32. D. Nesheva, I. Bineva, Z. Levi, Z. Aneva, T. Merdzhanova, and J. C. Pivin, Vacuum 68, 1 (2002).
33. J. Wong-Leung, C. Jagadish, M. J. Conway, and J. D. Fitz Gerald, J. Appl. Phys. 89, 2556 (2001).
34. R. H́liou, J. L. Brebner, and S. Roorda, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 175-177, 268 (2001).
35. S. Hayashi, T. Nagareda, Y. Kanzawa, and K. Yamamoto, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 32, 3840 (1993).
36. G. Mariotto, F. L. Freire, Jr., and F. Ziglio, J. Non-Cryst. Solids 192-193, 253 (1995).
37. L. Tsybeskow, K. D. Hirschman, S. P. Duttagupta, M. Zacharias, P. M. Fauchet, J. P. McCaffrey, and J. D. Lockwood, Appl. Phys. Lett. 72, 43 (1998).