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Volumn 89, Issue 5, 2001, Pages 2556-2559

Effect of implant temperature on secondary defects created by MeV Sn implantation in silicon

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EID: 0001542994     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1340602     Document Type: Article
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References (26)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.