Surface processes during growth of hydrogenated amorphous silicon

Materials Research Society Symposium Proceedings

Volumn 808, Issue , 2004, Pages 199-207

  Aydil, Eray S ^a   Agarwal, Sumit ^a   Valipa, Mayur ^a,b   Sriraman, Saravanapriyan ^a   Maroudas, Dimitrios ^b  

^a University of California   (United States)

^b University of Massachusetts   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHEMICAL BONDS; COMPUTER SIMULATION; ELLIPSOMETRY; FILM GROWTH; FOURIER TRANSFORM INFRARED SPECTROSCOPY; INFRARED SPECTROSCOPY; PHOTOVOLTAIC CELLS; PLASMA DIAGNOSTICS; THIN FILM TRANSISTORS; THIN FILMS;

FILM SURFACES; ISOTOPE LABELING; LASER ANNEALING; PLASMA DEPOSITION;

AMORPHOUS SILICON;

EID: 12744265222     PISSN: 02729172     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: 10.1557/proc-808-a5.5     Document Type: Conference Paper

References (55)

1. A. Shah, P. Torres, R. Tscharner, N. Wyrsch, and H. Keppner, Science 285, 692 (1999).
2. J. R. Abelson, Appl. Phys. A 56, 493 (1993).
3. G. Ganguly and A. Matsuda, Phys. Rev. B 47, 3661 (1993).
4. R. Robertson, D. Hils, H. Chatham, and A. Gallagher, Appl. Phys. Lett. 43, 544 (1983).
5. R. Robertson and A. Gallagher, J. Appl. Phys. 59, 3402 (1986).
6. H. Fujiwara, Y. Toyoshima, M. Kondo, and A. Matsuda, Phys. Rev. B 60, 13598 (1999).
7. H. Fujiwara, Y. Toyoshima, M. Kondo, and A. Matsuda, Solar Energy Materials and Solar Cells 66, 209 (2001).
8. W. M. M. Kessels, A. H. M. Smets, D. C. Marra, E. S. Aydil, D. C. Schram, and M. C. M. van de Sanden, Thin Solid Films 383, 154 (2001).
9. W. M. M. Kessels, D. C. Marra, M. C. M. van de Sanden, and E. S. Aydil, J. Vac. Sci. Technol. A 20, 781 (2002).
10. D. C. Marra, E. A. Edelberg, R. L. Naone, and E. S. Aydil, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 3199 (1998).
11. D. C. Marra, E. A. Edelberg, R. L. Naone, and E. S. Aydil, Appl. Surf. Sci. 133, 148 (1998).
12. D. C. Marra, W. M. M. Kessels, M. C. M. van de Sanden, K. Kashefizadeh, and E. S. Aydil, Surf. Sci. 530, 1 (2003).
13. Y. Toyoshima, K. Arai, A. Matsuda, and K. Tanaka, Appl. Phys. Lett. 57, 1028 (1990).
14. Y. Toyoshima, K. Arai, A. Matsuda, and K. Tanaka, Appl. Phys. Lett. 56, 1540 (1990).
15. Y. Toyoshima, K. Arai, A. Matsuda, and K. Tanaka, J. Non-Cryst. Solids 137, 765 (1991).
16. Y. Toyoshima, A. Matsuda, and K. Arai, J. Non-Cryst. Solids 166, 103 (1993).
17. M. Katiyar, G. F. Feng, Y. H. Yang, N. Maley, and J. R. Abelson, J. Non-Cryst. Solids 166, 111 (1993).
18. M. Katiyar, G. F. Feng, Y. H. Yang, J. R. Abelson, and N. Maley, Appl. Phys. Lett. 63, 461 (1993).
19. M. Katiyar, Y. H. Yang, and J. R. Abelson, J. Appl. Phys. 77, 6247 (1995).
20. A. von Keudell and J. R. Abelson, Appl. Phys. Lett. 71, 3832 (1997).
21. A. von Keudell and J. R. Abelson, J. Appl. Phys. 84, 489 (1998).
22. A. von Keudell and J. R. Abelson, Phys. Rev. B 59, 5791 (1999).
23. I. M. P. Aarts, B. Hoex, A. H. M. Smets, R. Engeln, W. M. M. Kessels, and M. C. M. van de Sanden, Appl. Phys. Lett. 84, 3079 (2004).
24. W. M. M. Kessels, J. P. M. Hoefnagels, P. J. van den Oever, Y. Barrell, and M. C. M. van de Sanden, Surf. Sci. 547, L865 (2003).
25. S. Agarwal, A. Takano, M. C. M. van de Sanden, D. Maroudas, and E. S. Aydil, J. Chem. Phys. 117, 10805 (2002).
26. S. Agarwal, S. Sriraman, A. Takano, M. C. M. van de Sanden, E. S. Aydil, and D. Maroudas, Surf. Sci. 515, L469 (2002).
27. D. Maroudas, Adv. Chem. Eng. 28, 251 (2001).
28. S. Ramalingam, D. Maroudas, E. S. Aydil, and S. P. Walch, Surf. Sci. 418, L8 (1998).
29. S. Ramalingam, D. Maraudas, and E. S. Aydil, J. Appl. Phys. 84, 3895 (1998).
30. S. Ramalingam, D. Maraudas, and E. S. Aydil, Appl. Phys. Lett. 72, 578 (1998).
31. S. Ramalingam, D. Maraudas, and E. S. Aydil, J. Appl. Phys. 86, 2872 (1999).
32. S. Ramalingam, P. Mahalingam, E. S. Aydil, and D. Maroudas, J. Appl. Phys. 86, 5497 (1999).
33. S. Ramalingam, D. Maroudas, and E. S. Aydil, IEEE Trans. on Plasma Sci. 27, 104 (1999).
34. S. Ramalingam, E. S. Aydil, and D. Maroudas, J. Vac. Sci. Technol. B 19, 634 (2001).
35. S. Ramalingam, S. Sriraman, E. S. Aydil, and D. Maroudas, Appl. Phys. Lett. 78, 2685 (2001).
36. S. Sriraman, S. Ramalingam, E. S. Aydil, and D. Maroudas, Surf. Sci. 459, L475 (2000).
37. S. Sriraman, E. S. Aydil, and D. Maroudas, J. Appl. Phys. 92, 842 (2002).
38. S. Sriraman, S. Agarwal, E. S. Aydil, and D. Maroudas, Nature 418, 62 (2002).
39. S. Sriraman, E. S. Aydil, and D. Maroudas, IEEE Trans. on Plasma Sci. 30, 112 (2002).
40. S. Sriraman, P. Mahalingam, E. S. Aydil, and D. Maroudas, Surf. Sci. 540, L623 (2003).
41. S. Sriraman, E. S. Aydil, and D. Maroudas, J. Appl. Phys. 95, 1792 (2004).
42. S. P. Walch, S. Ramalingam, E. S. Aydil, and D. Maroudas, Chem. Phys. Lett. 329, 304 (2000).
43. S. P. Walch, S. Ramalingam, S. Sriraman, E. S. Aydil, and D. Maroudas, Chem. Phys. Lett. 344, 249 (2001).
44. E. S. Aydil, D. Maroudas, D. C. Marra, W. M.M. Kessels, S. Agarwal, S. Ramalingam, S. Sriraman, M. C. M. Van de Sanden, and A. Takano, Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 664, A.1.1.1 (2001).
45. J. Tersoff, Phys. Rev. Lett. 56, 632 (1986).
46. J. Tersoff, Phys. Rev. B 37, 6991 (1988).
47. J. Tersoff, Phys. Rev. B 39, 5566 (1989).
48. T. Ohira, T. Inamura, and T. Adachi, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 336, 177 (1994).
49. T. Ohira, O. Ukai, T. Adachi, Y. Takeuchi, and M. Murata, Phys. Rev. B 52, 8283 (1995).
50. T. Ohira, O. Ukai, M. Noda, Y. Takeuchi, and M. Murata, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 408, 445 (1996).
51. M. S. Valipa, E. S. Aydil, and D. Maroudas, Surf. Sci. Lett., submitted (2004).
52. T. Bakos, M. S. Valipa, E. S. Aydil, and D. Maroudas, unpublished, (2004).
53. S. Agarwal, B. Hoex, M. C. M. van de Sanden, D. Maroudas, and E. S. Aydil, Surf. Sci. Lett., submitted, (2004).
54. D. A. Doughty, J. R. Doyle, G. H. Lin, and A. Gallagher, J. Appl. Phys. 67, 6220 (1990).
55. M. S. Valipa, S. Sriraman, E. S. Aydil, and D. Maroudas, Surf. Sci., submitted (2004).