Effects of thermal annealing on the structural, mechanical, and tribological properties of hard fluorinated carbon films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 22, Issue 6, 2004, Pages 2321-2328

  Da Costa, M E H M ^a   Baumvol, I J R ^b   Radke, C ^a,b   Jacobsohn, L G ^c   Zamora, R R M ^a   Freire Jr , F L ^a  

^a PONTIFICAL CATHOLIC UNIVERSITY OF RIO DE JANEIRO   (Brazil)

^b FEDERAL UNIVERSITY OF RIO GRANDE DO SUL   (Brazil)

^c LOS ALAMOS NATIONAL LABORATORY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANNEALING TEMPERATURES; CARBON FILMS; FRICTION COEFFICIENTS; THERMAL ANNEALING;

ANNEALING; CROSSLINKING; DEMODULATION; HARDNESS; HEAT TREATMENT; PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; RAMAN SPECTROSCOPY; RUTHERFORD BACKSCATTERING SPECTROSCOPY; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

CARBON;

EID: 10244222790     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.1795833     Document Type: Article

References (46)

1. J. Robertson, Prog. Solid State Chem. 21, 199 (1991).
2. L. G. Jacobsohn, D. F. Franceschini, M. E. H. Maia da Costa, and F. L. Freire, Jr., J. Vac. Sci. Technol. A 18, 2230 (2000).
3. R. E. Sah, B. Dischler, A. Bubenzer, and P. Koidl, Appl. Phys. Lett. 46, 739 (1985).
4. A. Grill and V. Patel, Diamond Films Technol. 6, 13 (1996).
5. R. Prioli, L. G. Jacobsohn, M. E. H. Maia da Costa, and F. L. Freire, Jr., Tribol. Lett. 15, 177 (2003).
6. M. Grischke, K. Benilogua, K. Trojan, and H. Dimigen, Surf. Coat. Technol. 74-75, 739 (1995).
7. C. Donnet, J. Fontaine, A. Grill, V. Patel, C. Janhes, and M. Belin, Surf. Coat. Technol. 94-95, 531 (1997).
8. R. S. Butter, D. R. Waterman, A. H. Lettington, R. T. Ramos, and E. J. Fordham, Thin Solid Films 311, 107 (1997).
9. M. Hakovirta, D. H. Lee, X. M. He, and M. Nastasi, J. Vac. Sci. Technol. A 19, 782 (2001).
10. R. Gilmore and R. Hauert, Thin Solid Films 398-399, 199 (2001).
11. H. Ji, A. Côté, D. Koshel, B. Terreault, G. Abel, P. Ducharme, G. Ross, S. Savoie, and M. Gagné, Thin Solid Films 405, 104 (2002).
12. J. A. Theil, J. Vac. Sci. Technol. B 17, 2397 (1999).
13. K. Endo and T. Tatsumi, J. Appl. Phys. 78, 1370 (1995).
14. K. Endo and T. Tatsumi, Appl. Phys. Lett. 68, 2864 (1996).
15. A. Grill, V. Patel, and C. Jahnes, J. Electrochem. Soc. 145, 1649 (1998).
16. H. Yokomichi, T. Hayashi, and A. Masuda, Appl. Phys. Lett. 72, 2704 (1998).
17. J. P. Chang, H. W. Krautter, W. Zhu, R. L. Opila, and C. S. Pai, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 2969 (1999).
18. N. Biswas, H. R. Harris, X. Wang, G. Celebi, H. Temkin, and S. Gango-padhyay, J. Appl. Phys. 89, 4417 (2001).
19. A. Grill, Diamond Relat. Mater. 10, 234 (2001).
20. J. M. Shieh, K. C. Tsai, S. C. Suen, and B. T. Dai, J. Vac. Sci. Technol. B 20, 1388 (2002).
21. K. Takahashi, T. Mitamura, K. Ono, Y. Setsuhara, A. Itoh, and K. Tachibana, Appl. Phys. Lett. 82, 2476 (2003).
22. R. d'Agostino, R. Lamendola, P. Favia, and A Giquel, J. Vac. Sci. Technol. A 12, 308 (1994).
23. F. L. Freire, Jr., J. Non-Cryst. Solids 304, 251 (2002).
24. L. Valentini, M. C. Bellachioma, S. I. -U. Ahmed, G. Bregliozzi, Y. Gerbi, H. Haefke, L. Lozzi, S. Santucci, and J. M. Kenny, J. Vac. Sci. Technol. A 21, 1964 (2003).
25. Y. Ma, H. Yang, J. Guo, C. Sathe, A. Agui, and J. Nordgren, Appl. Phys. Lett. 72, 3353 (1998).
26. U. Müller, R. Hauert, B. Oral, and M. Tobler, Surf. Coat. Technol. 76-77, 367 (1995).
27. H. Yong, D. J. Tweet, Y. Ma, and T. Nguyen, Appl. Phys. Lett. 73, 1514 (1998).
28. L. G. Jacobsohn, S. S. Camargo, Jr., and F. L. Freire, Jr., Diamond Relat. Mater. 11, 1831 (2002).
29. L. G. Jacobsohn, M. E. H. Maia da Costa, V. J. Trava-Airoldi, and F. L. Freire, Jr., Diamond Relat. Mater. 12, 2037 (2003).
30. J. M. Neumeister and W. A. Ducker, Rev. Sci. Instrum. 65, 2527 (1994).
31. E. Liu, B. Blanpain, J. P. Celis, and J. R. Roos, J. Appl. Phys. 84, 4859 (1998).
32. R. G. Cain, M. G. Reitsma, S. Biggs, and N. W. Page, Rev. Sci. Instrum. 72 3304 (2001).
33. M. M. Lacerda, F. L. Freire, Jr., R. Prioli, C. M. Lepinski, and G. Mariotto, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 2811 (1999).
34. W. C. Oliver and G. M. Pharr, J. Mater. Res. 7, 1564 (1992).
35. F. L. Freire, Jr., C. A. Achete, G. Mariotto, and R. Canteri, J. Vac. Sci. Technol. A 12, 3048 (1994).
36. L. Valentini, E. Braca, J. M. Kenny, G. Fedosenko, J. Engemann, L. Lozzi, and S. Santucci, Diamond Relat. Mater. 11, 1100 (2002).
37. S. Agraharam, D. H. Hess, P. A. Kohl, and S. Bistrup Allen, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 3265 (1999).
38. F. Tuinstra and J. L. Koenig, J. Chem. Phys. 53, 1126 (1970).
39. R. O. Dillon, J. A. Woollam, and V. Katkanant, Phys. Rev. B 29, 3482 (1984).
40. G. Mariotto, F. L. Freire, Jr., and C. A. Achete, Thin Solid Films 241, 255 (1994).
41. L. G. Jacobsohn, R. Prioli, F. L. Freire, Jr., G. Mariotto, M. M. Lacerda, and Y. W. Chung, Diamond Relat. Mater. 9, 680 (2000).
42. A. W. Adamson and A. P. Gast, Physical Chemistry of Surfaces, 6th ed. (Wiley, New York, 1997).
43. R. D. van de Grampel, W. Ming, A. Gildenpfennig, J. Laven, H. H. Brongersma, G. de With, and R van der Linde, Langmuir 20, 145 (2004).
44. Y. Lifshitz, G. D. Lempert, and E. Grossman, Phys. Rev. Lett. 72, 2753 (1994).
45. E. Riedo, F. Lévy, and H. Brune, Phys. Rev. Lett. 88, 185505 (2002).
46. A. Opitz, S. I.-U. Ahmed, J. A. Schaefer, and M. Scherge, Surf. Sci. 504, 199 (2002).