Proximity X-ray lithography using self-assembled alkylsiloxane films: Resolution and pattern transfer

Langmuir

Volumn 17, Issue 1, 2001, Pages 228-233

  Yang, Xiao M ^a   Peters, Richard D ^a   Kim, Tae K ^a   Nealey, Paul F ^a   Brandow, Susan L ^b   Chen, Mu San ^b   Shirey, Loretta M ^b   Dressick, Walter J ^b  

^a University of Wisconsin ^*  (United States)

^b NAVAL RESEARCH LABORATORY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANNEALING; ATOMIC FORCE MICROSCOPY; BLOCK COPOLYMERS; DEPOSITION; MASKS; METALLIC FILMS; NICKEL; REACTIVE ION ETCHING; SILICA; SILICON; SILICONES; X RAY LITHOGRAPHY;

OCTADECYLTRICHLOROSILANES;

PLASTIC FILMS;

EID: 0035121326     PISSN: 07437463     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la001176h     Document Type: Article

References (46)

1. Thompson, L. F.; Willson, G. G.; Bowden, M. J. Introduction to Microlithography, 2nd ed.; American Chemical Society: Washington, DC, 1994.
2. Ulman, A. Introduction to Ultrathin Organic Films from Langmuir-Blogett to Self-assembly, 2nd ed.; Academic Press: New York, 1991.
3. Dulcey, C. S.; Georger, J. H.; Krauthamer, V.; Stenger, D. A.; Fare, T. L.; Calvert, J. M. Science 1991, 252, 551.
4. Dressick, W. J.; Calvert, J. M. Jpn. J. Appl. Phys. 1993, 32, 5829.
5. Carr, D. W.; Lercel, M. J.; Whelan, C. S.; Craighead, H. G.; Seshadri, K.; Allara, D. L. J. Vac. Sci. Technol., A 1997, 15, 1446.
6. Lercel, M. J.; Whelan, C. S.; Craighead, H. G.; Seshadri, K.; Allara, D. L. J. Vac. Sci. Technol., B 1996, 14, 4085.
7. Lercel, M. J.; Craighead, H. G.; Parikh, A. N.; Seshadri, K.; Allara, D. L. Appl. Phys. Lett. 1996, 68, 1504.
8. Seshadri, K.; Froyd, K.; Parikh, A. N.; Allara, D. L.; Lercel, M. J.; Craighead, H. G. J. Phys. Chem. A 1996, 100, 15900.
9. Whelan, C. S.; Lercel, M. J.; Craighead, H. G.; Seshadri, K.; Allara, D. L. Appl. Phys. Lett. 1996, 69, 4245.
10. Ada, E. T.; Hanley, L.; Etchin, S.; Melngailis, J.; Dressick, W. J.; Chen, M. S.; Calvert, J. M. J. Vac. Sci. Technol., B 1995, 13, 2189.
11. Calvert, J. M.; Koloski, T. S.; Dressick, W. J.; Dulcey, C. S.; Peckerar, M. C.; Cerrina, F.; Taylor, J. W.; Suh, D. W.; Wood, O. R.; Macdowell, A. A.; Dsouza, R. Opt. Eng. 1993, 32, 2437.
12. Suh, D.; Simons, J. K.; Taylor, J. W.; Koloski, T. S.; Calvert, J. M. J. Vac. Sci. Technol., B 1993, 11, 2850.
13. Hild, R.; David, C.; Muller, H. U.; Volkel, B.; Kayser, D. R.; Grunze, M. Langmuir 1998, 14, 342.
14. Brandow, S. L.; Calvert, J. M.; Snow, E. S.; Campbell, P. M. J. Vac. Sci. Technol., A 1997, 15, 1455.
15. Perkins, F. K.; Dobisz, E. A.; Brandow, S. L.; Calvert, J. M.; Kosakowski, J. E.; Marrian, C. R. K. Appl. Phys. Lett. 1996, 68, 550.
16. Lercel, M. J.; Rooks, M.; Tiberio, R. C.; Craighead, H. G.; Sheen, C. W.; Parikh, A. N.; Allara, D. L. J. Vac. Sci. Technol., B 1995, 13, 1139.
17. Delamarche, E.; Hoole, A. C. F.; Michel, B.; Wilkes, S.; Despont, M.; Welland, M. E.; Biebuyck, H. J. Phys. Chem. B 1997, 101, 9263.
18. Dressick, W. J.; Dulcey, C. S.; Brandow, S. L.; Witschi, H.; Nealey, P. F. J. Vac. Sci. Technol., A 1999, 17, 1432.
19. Dressick, W. J.; Chen, M. S.; Brandow, S. L. J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 982.
20. Ulman, A. Introduction to Ultrathin Organic Films from Langmuir-Blogett to Self-assembly, 2nd ed.; Academic Press: New York, 1991; pp 143.
21. Kim, T. K.; Yang, X. M.; Peters, R. D.; Sohn, B. H.; Nealey, P. F. J. Phys. Chem. B 2000, 104, 7403.
22. Wilbur, J. L.; Biebuyck, H. A.; Macdonald, J. C.; Whitesides, G. M. Langmuir 1995, 11, 825.
23. Bar, G.; Rubin, S.; Parikh, A. N.; Swanson, B. I.; Zawodzinski, T. A.; Whangbo, M. H. Langmuir 1997, 13, 373.
24. Zhou, Y. Q.; Fan, H. Y.; Fong, T.; Lopez, G. P. Langmuir 1998, 14, 660.
25. Lee, B. W.; Clark, N. A. Langmuir 1998, 14, 5495.
26. Sugimura, H.; Nakagiri, N. Appl. Phys. A 1998, 66, S427.
27. Anastasiadis, S. H.; Russell, T. P.; Satija, S. K.; F., M. C. Phys. Rev. Lett. 1989, 62, 1852.
28. Coulon, G.; Russell, T. P.; Deline, V. R.; Green, P. F. Macromolecules 1989, 22, 2581.
29. Russell, T. P.; Coulon, G.; Deline, V. R.; Miller, D. C. Macromolecules 1989, 22, 4600.
30. Ulman, A. Introduction to Ultrathin Organic Films from Langmuir-Blogett to Self-assembly, 2nd ed.; Academic Press: New York, 1991; pp 108.
31. Gentili, M.; Giovannella, C.; Selci, S. Nanolithography: a borderland between STM, EB, IB, and X-ray lithographies; Gentili, M., Giovannella, C., Selci, S., Eds.; Kluwer Academic Publishers: Norwell, MA, 1994; p 103.
32. Brandow, S. L.; Chen, M. S.; Aggarwal, R.; Dulcey, C. S.; Calvert, J. M.; Dressick, W. J. Langmuir 1999, 15, 5429.
33. Brandow, S. L.; Dressick, W. J.; Marrian, C. R. K.; Chow, G. M.; Calvert, J. M. J. Electrochem. Soc. 1995, 142, 2233.
34. Dressick, W. J.; Kondracki, L. M.; Chen, M. S.; Brandow, S. L.; Matijevic, E.; Calvert, J. M. Colloids Surf., A 1996, 108, 101.
35. Chen, M. S.; Brandow, S. L.; Dulcey, C. S.; Dressick, W. J.; Taylor, G. N.; Bohland, J. F.; Georger, J. H. G.; Pavelchek, E. K.; Calvert, J. M. J. Electrochem. Soc. 1999, 146, 1421.
36. Laibinis, P. E.; Graham, R. L.; Biebuyck, H. A.; Whitesides, G. M. Science 1991, 254, 981.
37. Graham, R. L.; Bain, C. D.; Biebuyck, H. A.; Laibinis, P. E.; Whitesides, G. M. J. Phys. Chem. 1993, 97, 9456.
38. Muller, H. U.; Zharnikov, M.; Volkel, B.; Schertel, A.; Harder, P.; Grunze, M. J. Phys. Chem. B 1998, 102, 7949.
39. Olsen, C.; Rowntree, P. A. J. Chem. Phys. 1998, 108, 3750.
40. Thompson, L. F.; Willson, G. G.; Bowden, M. J. Introduction to Microlithography, 2nd ed.; American Chemical Society: Washington, DC, 1994; pp 24.
41. Thompson, L. F.; Willson, G. G.; Bowden, M. J. Introduction to Microlithography, 2nd ed.; American Chemical Society: Washington, DC, 1994; pp 178.
42. Peters, R. D.; Yang, X. M.; Kim, T. K.; Sohn, B. H.; Nealey, P. F. Langmuir 2000, 16, 4625.
43. Yang, X. M.; Peters, R. D.; Kim, T. K.; Nealey, P. F. J. Vac. Sci. Technol., B 1999, 17, 3203.
44. Jeon, N. L.; Nuzzo, R. G.; Xia, Y. N.; Mrksich, M.; Whitesides, G. M. Langmuir 1995, 11, 3024.
45. Xia, Y. N.; Mrksich, M.; Kim, E.; Whitesides, G. M. J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 9576.
46. Brandow, S. L.; Chen, M. S.; Wang, T.; Dulcey, C. S.; Calvert, J. M.; Bohland, J. F.; Calabrese, G. S.; Dressick, W. J. J. Electrochem. Soc. 1997, 144, 3425.