Proximity x-ray lithography of siloxane and polymer films containing benzyl chloride functional groups

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 17, Issue 4, 1999, Pages 1432-1440

  Dressick, W J ^a   Dulcey, C S ^a   Brandow, S L ^a   Witschi, H ^b   Neeley, P F ^b  

^a NAVAL RESEARCH LABORATORY   (United States)

^b University of Wisconsin ^*  (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000948313     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.581833     Document Type: Article

References (42)

1. A. Ulman, Introduction to Ultrathin Organic Films: From Langmuir-Blodgett to Self-Assembly, edited by A. Ulman (Academic, San Diego, 1991).
2. B. Arkles, in Silicon Compounds: Register and Review, edited by R. Anderson, G. L. Larson, and C. Smith (Huls America, Piscataway, NJ, 1991).
3. C. S. Dulcey, J. H. Georger, V. Krauthamer, D. A. Stenger, T. L. Fare, and J. M. Calvert, Science 252, 551 (1991).
4. W. J. Dressick, C. S. Dulcey, J. H. Georger, G. S. Calabrese, and J. M. Calvert, J. Electrochem. Soc. 141, 210 (1994).
5. J. M. Calvert, W. J. Dressick, G. S. Calabrese, and M. Gulla, US Patent No. 5,389,496 (4 February 1995).
6. J. M. Calvert, P. E. Pehrsson, C. S. Dulcey, and M. C. Peckerar, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 260, 905 (1992).
7. T. G. Vargo, J. A. Gardella, J. M. Calvert, and M.-S. Chen, Science 262, 1711 (1993).
8. W. Schrof, S. Rozouvan, E. VanKeuren, D. Horn, J. Schmitt, and G. Decher, Adv. Mater. 10, 338 (1998).
9. J. Schmitt, G. Decher, W. J. Dressick, S. L. Brandow, R. E. Geer, R. Shashidhar, and J. M. Calvert, Adv. Mater. 9, 61 (1997).
10. S. B. Roscoe, S. Yitzchaik, A. K. Kakkar, T. J. Marks, Z. Xu, T. Zhang, W. Lin, and G. K. Wong, Langmuir 12, 5338 (1996).
11. T. J. Marks and D. Li, US Patent No. 5,156,918 (20 October 1992).
12. S. L. Clark, M. F. Montaque, and P. T. Hammond, Supramol. Sci. 4, 141 (1997).
13. L. A. Chrisey, G. U. Lee, and C. E. O'Farrell, Nucleic Acids Res. 24, 3031 (1996).
14. S. K. Bhatia, J. L. Teixeira, M. Anderson, L. C. Shriver-Lake, J. M. Calvert, J. H. Georger, J. J. Hickman, C. S. Dulcey, P. E. Schoen, and F. S. Ligler, Anal. Biochem. 208, 197 (1993).
15. Y. W. Lee, J. Reed-Mundell, C. N. Sukenik, and J. E. Zull, Langmuir 9, 3009 (1993).
16. D. Vuillaume, C. Boulas, J. Collet, J. V. Davidovits, and F. Rondelez, Appl. Phys. Lett. 69, 1646 (1996).
17. S. L. Brandow, W. J. Dressick, C. S. Dulcey, T. S. Koloski, L. Shirey, and J. M. Calvert, J. Vac. Sci. Technol. B 15, 1818 (1997).
18. J. Sato, D. G. Hasko, and H. Ahmed, J. Vac. Sci. Technol. B 15, 45 (1997).
19. C. S. Dulcey, T. S. Koloski, W. J. Dressick, J. M. Calvert, and B. M. Peek, US Patent No. 5,648,201 (15 July 1997).
20. J. M. Calvert, M. S. Chen, C. S. Dulcey, J. H. Georger, M. C. Peckerar, J. M. Schnur, and P. E. Schoen, J. Electrochem. Soc. 139, 1677 (1992).
21. Streitweiser, Solvolytic Displacement Reactions (McGraw-Hill, New York, 1962).
22. W. J. Dressick and J. M. Calvert, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 32, 5829 (1993).
23. J. M. Calvert, T. S. Koloski, W. J. Dressick, C. S. Dulcey, M. C. Peckerar, F. Cerrina, J. W. Taylor, D. Suh, O. R. Wood II, A. A. MacDowell, and R. D'Souza, Opt. Eng. (Bellingham) 32, 2437 (1993).
24. F. K. Perkins, E. A. Dobisz, C. R. K. Marrian, and S. L. Brandow, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 2841 (1995).
25. D. Suh, J. K. Simons, J. W. Taylor, J. M. Calvert, and T. S. Koloski, J. Vac. Sci. Technol. B 11, 2850 (1993).
26. A. Reiser, Photoreactive Polymers: The Science and Technology of Resists (Wiley, New York, 1989).
27. C. R. K. Marrian, F. K. Perkins, S. L. Brandow, T. S. Koloski, E. A. Dobisz, and J. M. Calvert, Appl. Phys. Lett. 64, 1 (1994).
28. J. P. Silverman, J. Vac. Sci. Technol. B 15, 2117 (1997).
29. H. I. Smith and M. L. Schattenburg, in Semiconductor Materials and Processing Technologies, edited by J. M. Poate (Kluwer, Dordrecht, The Netherlands, 1992).
30. R. F. Borch, M. D. Bernstein, H. Dupont Durst, J. Am. Chem. Soc. 93, 2897 (1971).
31. S. L. Brandow, J. M. Calvert, W. J. Dressick, and C. S. Dulcey, Navy case No. 78658.
32. W. J. Dressick, C. S. Dulcey, J. H. Georger, Jr., G. S. Calabrese, and J. M. Calvert, J. Electrochem. Soc. 141, 210 (1994).
33. W. J. Dressick, L. M. Kondracki, M-S. Chen, S. L. Brandow, E. Matijevic, and J. M. Calvert, Colloids Surf., A 108, 101 (1996).
34. S. L. Brandow, J. M. Calvert, E. S. Snow, and P. M. Campbell, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 1455 (1997).
35. F. K. Perkins, E. A. Dobisz, S. L. Brandow, T. S. Koloski, J. M. Calvert, K. Rhee, J. Kasakowski, and C. R. K. Marrian, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 3725 (1994).
36. C. S. Dulcey, S. L. Brandow, J. M. Calvert, M-S. Chen, W. J. Dressick, S. McElvany, and H. H. Nelson, Symposium on Polymeric Materials for Micro- and Nano-Patterning Science and Technology, ACS Meeting, Las Vegas, Sept 7-12, 1997, extended abstract.
37. R. L. Graham, C. D. Bain, H. A. Biebuyck, P. E. Laibinis, and G. M. Whitesides, J. Phys. Chem. 97, 9456 (1993).
38. D. J. D. Carter, A. Pepin, M. R. Schweizer, H. I. Smith, and L. E. Ocola, J. Vac. Sci. Technol. B 15, 2509 (1997).
39. Polymers in Microlithography: Materials and Processes, ACS Symposium Series 412, edited by E. Reichmanis, S. A. MacDonald, and T. Iwayanagi (American Chemical Society, Washington, DC, 1989).
40. S. L. Brandow, W. J. Dressick, G. M. Chow, C. R. K. Marrian, and J. M. Calvert, J. Electrochem. Soc. 142, 2233 (1995).
41. 2 for the unirradiated EDA surfaces.
42. F. K. Perkins, E. A. Dobisz, S. L. Brandow, J. M. Calvert, J. E. Kosakowski, and C. R. K. Marrian, Appl. Phys. Lett. 68, 550 (1996).