Fabrication of 15 nm wide trenches in Si by vacuum scanning tunneling microscope lithography of an organosilane self-assembled film and reactive ion etching

Applied Physics Letters

Volumn 68, Issue 4, 1996, Pages 550-552

  Perkins, F Keith ^a   Dobisz, Elizabeth A ^a   Brandow, Susan L ^a   Calvert, Jeffrey M ^a   Kosakowski, John E ^b   Marrian, Christie R K ^a  

^a NAVAL RESEARCH LABORATORY   (United States)

^b SFA INC   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001629322     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.116396     Document Type: Article

References (19)

1. The Technology of Proximal Probe Lithography, edited by C. R. K. Marrian (SPIE, Bellingham, WA, 1993).
2. G. E. McGuire, M. A. Ray, S. J. Simko, F. K. Perkins, S. L. Brandow, E. A. Dobisz, R. J. Nemanich, A. R. Chourasia, and D. R. Chopra, Anal. Chem. INS 1993, 311R (1993).
3. D. M. Eigler and E. K. Schweizer, Nature INS 344, 502 (1990).
4. C. T. Salling and M. G. Lagally, Science INS 265, 502 (1994).
5. E. A. Dobisz and C. R. K. Marrian, Appl. Phys. Lett. AIP 58, 2526 (1991).
6. J. W. Lyding, T.-C. Shen, J. S. Hubacek, J. R. Tucker, and G. C. Abeln, Appl. Phys. Lett. AIP 64, 2010 (1994).
7. E. S. Snow and P. M. Campbell, Appl. Phys. Lett. AIP 64, 1932 (1994).
8. M. J. Lercel, R. C. Tiberio, P. F. Chapman, H. G. Craighead, C. W. Sheen, A. N. Parikh, and D. L. Allara, J. Vac. Sci. Technol. B AIP 11, 2823 (1993).
9. W. J. Dressick, C. S. Dulcey, J. H. Georger, G. S. Calabrese, and J. M. Calvert, J. Electrochem. Soc. INS 141, 210 (1994).
10. C. R. K. Marrian, F. K. Perkins, S. L. Brandow, T. S. Koloski, E. A. Dobisz, and J. M. Calvert, Appl. Phys. Lett. AIP 64, 390 (1994).
11. C. R. K. Marrian, F. K. Perkins, S. L. Brandow, T. S. Koloski, E. A. Dobisz, and J. M. Calvert, in Nanolithography: A Borderland between STM, EB, IB, and X-ray Lithographies, edited by M. Gentili (Kluwer Academic, Dordrecht, Netherlands, 1993), p. 139.
12. F. K. Perkins, E. A. Dobisz, S. L. Brandow, T. S. Koloski, J. M. Calvert, K. W. Rhee, J. E. Kosakowski, and C. R. K. Marrian, J. Vac. Sci. Technol. B AIP 12, 3725 (1994).
13. P. E. Thompson, M. E. Twigg, D. J. Godbey, K. D. Hobart, and D. S. Simons, J. Vac. Sci. Technol. B AIP 11, 1077 (1993).
14. United Chemical Technology, Co., Bristol, PA.
15. C. N. Durfor, D. C. Turner, J. H. Georger, B. M. Peek, and D. A. Stenger, Langmuir 10, 148 (1994).
16. S. L. Brandow, W. J. Dressick, G. M. Chow, C. R. K. Marrian, and J. M. Calvert, J. Electrochem. Soc. INS 142, 2233 (1995).
17. J. M. Calvert, G. S. Calabrese, J. F. Bohland, M.-S. Chen, W. J. Dressick, C. S. Dulcey, J. H. Georger, Jr., J. Kosakowski, E. K. Pavelcheck, K. W. Rhee, and L. M. Shirey, J. Vac. Sci. Technol. B AIP 12, 3884 (1994).
18. Tencor Alphastep 250 Profilometer.
19. Nanoscope III, Digital Instruments Corp., Santa Barbara, CA.