Fabrication of patterned amine reactivity templates using 4-chloromethylphenylsiloxane self-assembled monolayer films

Langmuir

Volumn 15, Issue 16, 1999, Pages 5429-5432

  Brandow, S L ^a   Chen, M S ^a   Aggarwal, R ^a   Dulcey, C S ^a   Calvert, J M ^b   Dressick, W J ^b  

^a NAVAL RESEARCH LABORATORY   (United States)

^b SHIPLEY COMPANY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHEMISORPTION; CHLORINE COMPOUNDS; MONOLAYERS; NICKEL; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; SURFACE PROPERTIES; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

CHLOROMETHYLPHENYLSILOXANE; NICKEL FILM; SELF ASSEMBLED MONOLAYER;

METALLIC FILMS;

EID: 0032633145     PISSN: 07437463     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la9902082     Document Type: Article

References (71)

1. Plueddemann, E. P. Silane Coupling Agents; Plenum: New York, 1991; and references therein.
2. (a) DeRosa, L.; Monetta, T.; Mitton, D. B.; Bellucci, F. J. Electrochem. Soc. 1998, 145, 3830.
3. (b) Takei, T.; Yamazaki, A.; Watanabe, T.; Chikazawa, M. J. Colloid Interface Sci. 1997, 188, 409.
4. (a) Grundmeier, G.; Matheisen, E.; Stratmann, M. J. Adhesion Sci. Technol. 1996, 10, 573.
5. (b) Itoh, M.; Nishihara, H.; Aramaki, K. J. Electrochem. Soc. 1995, 142, 1839.
6. Vuillaume, D.; Boulas, C.; Collet, J.; Allan, G.; Delerue, C. Phys. Rev. B: Condensed Matter 1998, 58, 16491 and references therein.
7. (a) Ge, S. R.; Kojio, K.; Takahara, A.; Kajiyama. J. Adhesion Sci. Technol. 1998, 9, 131.
8. (b) Kapur, R.; Rudolph, A. Exp. Cell Res. 1998, 244, 275.
9. Fang, J. Y.; Knobler, C. M.; Gingery, M.; Eiserling, F. A. J. Phys. Chem. B 1997, 101, 8692.
10. Chang, Y. C.; Frank, C. W. Langmuir 1996, 12, 5824.
11. (e) Schaffner, A. E.; Barker, J. L.; Stenger, D. A.; Hickman, J. J. J. Neurosci. Methods 1995, 62, 111.
12. Bereznitski, Y.; Jaroniec, M. J. Chromatogr. A, 1998, 828, 51 and references therein.
13. (a) Shenoy, D.; Grueneberg, K.; Naciri, J.; Shashidhar, R. Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 1998, 37 (11A), L1326,
14. (b) Evans, S. D.; Allinson, H.; Boden, N.; Flynn, T. M.; Henderson, J. R. J. Phys. Chem. B 1997, 101, 2143.
15. Ichimura, K.; Tomita, H.; Kudo, K. Liq. Cryst., 1996, 20, 171.
16. (a) Wu, C. G.; Chen, J. Y. Chem. Mater. 1997, 9, 399.
17. (b) Huang, Z.; Wang, P.-C.; MacDiarmid, A. G.; Xia, Y.; Whitesides, G. Langmuir 1997, 13, 6480.
18. (a) Mao, C. B.; Lí, H. D.; Cui, F. Z.; Feng, Q. G.; Wang, H.; Ma, C. L. J. Mater. Chem. 1998, 8, 2795.
19. (b) Archibald, D. D.; Qadri, S. B.; Gaber, B. P. Langmuir 1996, 12, 538.
20. Heywood, B. R.; Mann, S. Adv. Mater. 1994, 6, 9.
21. (a) Boudreau, L. C.; Kuck, J. A.; Tsapatsis, M. J. Membr. Sci. 1999, 152, 41.
22. (b) Schmitt, J.; Decher, G.; Dressick, W. J.; Brandow, S. L.; Geer, R. G.; Shashídhar, R.; Calvert, J. M. Adv. Mater. 1997, 9, 61.
23. Takahagi, T.; Nagasawa, Y.; Ishitani, A. Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 1996, 35 (6A), 3542.
24. (a) Roscoe, S. B.; Kakkar, A. K.; Marks, T. J.; Malik, A.; Durbin, M. K.; Lin, W. P.; Wong, G. K.; Dutta, P. Langmuir 1996, 12, 4218.
25. (b) Schrof, W.; Rozouvan, S.; Van Keuren, E.; Horn, D.; Schmitt, J.; Decher, G. Adv. Mater. 1998, 10, 338.
26. Jiang, H. W.; Kakkar, A. K.; Lebuis, A. M.; Zhou, H. T.; Wong, G. K. J. Mater. Chem. 1996, 6, 1075.
27. (a) Ravenscroft, M. S.; Bateman, K. E.; Shaffer, K. M.; Schessler, H. M.; Jung, D. R.; Schneider, T. W.; Montgomery, C. B.; Custer, T. L.; Schaffner, A. E.; Liu, Q. Y.; Li, Y. X.; Barker, J. L.; Hickman, J. J. J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 12169.
28. (b) Matsuzawa, M.; Tokumitsu, S.; Knoll, W.; Sasabe, H. Langmuir 1998, 14, 5133.
29. (a) Chrisey, L. A.; O'Ferrall, C. E.; Spargo, B. J.; Dulcey, C. S.; Calvert, J. M. Nucleic Acids Res. 1996, 24, 3040.
30. (b) Yan, M.; Cai, S. X.; Wybourne, M. N.; Keana, J. F. W. J. Am. Chem. Soc. 1993, 115, 814.
31. Bhatia, S.; Teixeira, J. L.; Anderson, M.; Shriver-Lake, L. C.; Calvert, J. M.; Georger, J. H.; Hickman, J. J.; Dulcey, C. S.; Schoen, P. E.; Ligler, F. S. Anal. Biochem. 1992, 208, 197.
32. Rosznyai, L. F.; Benson, D. R.; Fodor, S. P. A.; Schultz, P. G. Angew. Chem., Intl. Ed. Engl. 1992, 31, 759.
33. (e) Fodor, S. P. A.; Read, J. L.; Pirrung, M. C.; Stryer, L.; Lu, A. T.; Solas, D. Science 1991, 251, 767.
34. (a) Sugimura, H.; Nakagiri, N. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 1998, 66, S427.
35. (b) Collins, R. J.; Shin, H.; DeGuire, M. R.; Heuer, A. H.; Sukenik, C. N. Appl. Phys. Lett. 1996, 69, 860.
36. Dressick, W. J.; Dulcey, C. S.; Chen, M.-S.; Calvert, J. M. Thin Solid Films 1996, 284/285, 568.
37. Jennane, J.; Boutros, T.; Giasson, R. Can. J. Chem. 1996, 74, 2509.
38. (e) Potochnik, S. J.; Pehrsson, P. E.; Hsu, D. S. Y.; Calvert, J. M. Langmuir 1995, 11, 1841.
39. (f) Koloski, T. S.; Dulcey, C. S.; Haralson, Q. J.; Calvert, J. M. Langmuir 1994, 10, 3122.
40. (g) Dressick, W. J.; Dulcey, C. S.; Georger, J. H.; Calvert, J. M. Chem. Mater. 1993, 5, 148.
41. (h) Dulcey, C. S.; Koloski, T. S.; Dressick, W. J.; Chen, M.-S.; Georger, J. H.; Calvert, J. M. Proc. Soc. Photo-Opt. Instrum. Eng. 1993, 1925, 657.
42. (a) Wang, D. W.; Thomas, S. G.; Wang, K. L.; Xia, Y. N.; Whitesides, G. M. Appl. Phys. Lett. 1997, 70, 1593.
43. (b) Jeon, N. L.; Finnie, K.; Bradshaw, K.; Nuzzo, R. G. Langmuir 1997, 13, 3382.
44. Mino, N.; Ozaki, S.; Ogawa, K.; Hatada, M. Thin Solid Films 1994, 243, 374.
45. (a) Schenkel, T.; Schneider, M.; Hattass, M.; Newman, M. W.; Barnes, A. V.; Hamza, A. V.; Schneider, D. H.; Cicero, R. L.; Chidsey, C. E. D. J. Vac. Sci. Technol., B 1998, 16, 3298.
46. (b) Younkin, R.; Berggren, K. K.; Johnson, K. S.; Prentiss, M.; Ralph, D. C.; Whitesides, G. M. Appl. Phys. Lett. 1997, 71, 1261.
47. Ada, E. T.; Hanley, L.; Etchin, S.; Melngailis, J., Dressick, W. J.; Chen, M.-S.; Calvert, J. M. J. Vac. Sci. Technol., B 1995, 12, 2189.
48. (a) Brandow, S. L.; Calvert, J. M.; Snow, E. S.; Campbell, P. M. J. Vac. Sci. Technol., 8 1997, 15, 1455.
49. (b) Sugimura, H.; Nakagiri, N. J. Am. Chem. Soc. 1997, 119, 9226.
50. Sugimura, H.; Okiguchi, K.; Nakagiri, N. Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 1996, 35 (6B), 3749.
51. Marrian, C. R. K.; Perkins, F. K.; Brandow, S. L.; Koloski, T. S.; Dobisz, E. A.; Calvert, J. M. Appl. Phys. Lett. 1994, 64, 390.
52. (e) Perkins, F. K.; Dobisz, E. A.; Brandow, S. L.; Koloski, T. S.; Calvert, J. M.; Rhee, K. W.; Kosakowski, J. E.; Marrian, C. R. K. J. Vac. Sci. Technol., B 1994, 12, 3725.
53. Dressick, W. J.; Calvert, J. M. Jpn. J. Appl. Phys. 1993, 32, 5829.
54. Calvert, J. M.; Koloski, T. S.; Dressick, W. J.; Dulcey, C. S.; Peckerar, M. C.; Cerrina, F.; Taylor, J. W.; Suh, D.; Wood, O. R., II; MacDowell, A. A.; D'Souza, R. Opt. Eng. 1993, 32, 2437.
55. (a) Dressick, W. J.; Kondracki, L. M.; Chen, M.-S.; Brandow, S. L.; Matijević, E.; Calvert, J. M. Colloids Surf., A 1996, 108, 101.
56. (b) Dressick, W. J.; Dulcey, C. S.; Georger, J. H.; Calabrese, G. S.; Calvert, J. M. J. Electrochem. Soc. 1994, 141, 210.
57. 21b
58. 2 (3σ) were obtained for each method.
59. (a) Doppelt, P. Coord. Chem. Rev. 1998, 178-180, 1785.
60. (b) Doppelt, P.; Stelzle, M. Microelectron. Eng. 1997, 33, 15.
61. Dulcey, C. S.; Rabolt, J. Unpublished results.
62. Wagner, C. D.; Riggs, W. M.; Davis, L. E.; Moulder, J. F. In Handbook of X-ray Photoelectron Spectroscopy; Muilenberg, G. E., Ed.; Perkin-Elmer Corp.: Eden Prairie, MN, 1979; and references therein.
63. Vogel, A. I. In Textbook of Practical Organic Chemistry, 5th ed.; Furniss, B. S., Hannaford, A. J., Smith, P. W. G., Tatchell, A. R., Eds.; John Wiley: New York, 1989; p 1257.
64. (a) Patel, N.; Davies, M. C.; Hartshorne, M.; Heaton, R. J.; Roberts, C. J.; Tendier, S. J. B.; Williams, P. M. Langmuir 1997, 13, 6485.
65. (b) Zhou, Y.; Bruening, D. E.; Bergbreiter, D. E.; Crooks, R. M.; Wells, M. J. Am. Chem. Soc. 1996, 118, 3773.
66. 29b
67. (b) Dulcey, C. S. Langmuir, manuscript in preparation.
68. Sugimura, H.; Nakagiri, N. J. Vac. Sci. Technol., B 1997, 15, 1394.
69. Borsch, R. F.; Bernstein, M. D.; Durst, H. D. J. Am. Chem. Soc. 1971, 93, 2897.
70. Hartmeier, W. Immobilized Enzymes; Springer-Verlag: Berlin, 1986; and references therein.
71. Dressick, W. J.; Dulcey, C. S.; Brandow, S. L.; Witschi, H.; Nealey, P. F. J. Vac. Sci. Technol., B submitted.