Chemical modification of self-assembled monolayers by exposure to soft x-rays in air

Journal of Physical Chemistry B

Volumn 104, Issue 31, 2000, Pages 7403-7410

  Kim, Tae K ^a   Yang, Xiao M ^a   Peters, Richard D ^a   Sohn, B H ^a   Nealey, Paul F ^a  

^a University of Wisconsin ^*  (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AIR; ALDEHYDES; CHEMICAL MODIFICATION; CONTACT ANGLE; CROSSLINKING; ELLIPSOMETRY; MONOLAYERS; OXIDATION; SILICA; SILICON; WATER; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

ALKYLSILOXANES; SELF-ASSEMBLED MONOLAYERS (SAM);

SURFACE PHENOMENA;

EID: 0034245764     PISSN: 15206106     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp000145s     Document Type: Article

References (26)

1. Wasserman, S. R.; Whitesides, G. M.; Tidswell, I. M.; Ocko, B. M.; Pershan, P. S.; Axe, J. D. J. Am. Chem. Soc. 1989, 111, 5852.
2. Laibinis, P. E.; Graham, R. L.; Biebuyck, H. A.; Whitesides, G. M. Science 1991, 254, 981.
3. Graham, R. L.; Bain, C. D.; Biebuyck, H. A.; Laibinis, P. E.; Whitesides, G. M. J. Phys. Chem. 1993, 97, 9456.
4. Frydman, E.; Cohen, H.; Maoz, R.; Sagiv, J. Langmuir 1997, 13, 5089.
5. Moon, J. H.; Kim, K. J.; Kang, T. H.; Kim, B.; Kang, H.; Park, J. W. Langmuir 1998, 14, 5673.
6. Suh, D.; Simons, J. K.; Taylor, J. W.; Koloski, T. S.; Calvert, J. M. J. Vac. Sci. Technol, B 1993, 11, 2850.
7. Dressick, W. J.; Dulcey, C. S.; Brandow, S. L.; Witschi, H.; Nealey, P. F. J. Vac. Sci. Technol., A 1999, 17, 1432.
8. Seshadri, K.; Froyd, K.; Parikh, A. N.; Allara, D. L.; Lercel, M. J.; Craighead, H. G. J. Phys. Chem. 1996, 100, 15900.
9. Olsen, C.; Rowntree, P.A. J.Chem. Phys. 1998, 108, 3750.
10. Muller, H. U.; Zharnikov, M.; Volkel, B.; Schertel, A.; Harder, P.; Grunze, M. J. Phys. Chem., B 1998, 702, 7949.
11. Zharnikov, M.; Geyer, W.; Golzhauser, A.; Frey, S.; Grunze, M. Phys. Chem. Chem. Phys. 1999, 1, 3163.
12. Hild, R.; David, C.; Muller, H. U.; Volkel, B.; Kayser, D. R.; Grunze, M. Langmuir 1998, 14, 342.
13. Geyer, W.; Stadier, V.; Eck, W.; Zharnikov, M.; Golzhauser, A.; Grunze, M. Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 2401.
14. Wasserman, S. R.; Tao, Y. T.; Whitesides, G. M. Langmuir 1989, 5, 1074.
15. Clark, G. L. Applied X-rays, 4th ed.; McGraw-Hill: New York, 1955; 161.
16. Bain, C. D.; Troughton, E. B.; Tao, Y. T.; Evall, J.; Whitesides, G. M.; Nuzzo, R. G. J. Am. Chem. Soc. 1989, 111, 321.
17. Bain, C. D.; Whitesides, G. M. Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1989, 28, 506.
18. Heid, S.; Effenberger, F.; Bierbaum, K.; Grunze, M. Langmuir 1996, 72, 2118.
19. Ito, T.; Namba, M.; Buhlmann, P.; Umezawa, Y. Langmuir 1997, 13, 4323.
20. Kumar, A.; Biebuyck, H. A.; Whitesides, G. M. Langmuir 1994, 10, 1498.
21. Tidswell, I. M.; Rabedeau, T. A.; Pershan, P. S.; Kosowsky, S. D.; Folkers, J. P.; Whitesides, G. M. J. Chem. Phys. 1991, 95, 2854.
22. Fenter, P.; Eisenberger, P.; Li, J.; Camillone, N.; Bernasek, S.; Scoles, G.; Ramanarayanan, T. A.; Liang, K. S. Langmuir 1991, 7, 2013.
23. Fenter, P.; Eisenberger, P.; Liang, K. S. Phys. Rev. Lett. 1993, 70, 2447.
24. Israelachvili, J. N.; Gee, M. L. Langmuir 1989, 5, 288.
25. 2 (see ref 1).
26. Dulcey, C. S.; Georger, J. H.; Krauthamer, V.; Stenger, D. A.; Fare, T. L.; Calvert, J. M. Science 1991, 252, 551.