Polysubstituted derivatives of triphenylene as high resolution electron beam resists for nanolithography

Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

Volumn 18, Issue 6, 2000, Pages 2730-2736

  Robinson, A P G ^a   Palmer, R E ^a   Tada, T ^b,c   Kanayama, T ^b,c   Allen, M T ^a   Preece, J A ^a   Harris, K D M ^a  

^a UNIVERSITY OF BIRMINGHAM   (United Kingdom)

^b NATL INST FOR ADV INTERDISC RES   (Japan)

^c ELECTROTECHNICAL LABORATORY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY; ETCHING; IRRADIATION; PHOTOLITHOGRAPHY; SOLUBILITY; SOLVENTS;

TRIPHENYLENES;

NANOTECHNOLOGY;

EID: 0034314732     PISSN: 10711023     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.1322045     Document Type: Article

References (32)

1. E. Di Fabrizio, L. Grella, M. Baciocchi, M. Gentili, C. Ascoli, B. Cappella, C. Frediani, and P. Morales, J. Vac. Sci. Technol. B 15, 2892 (1997).
2. H. Shoji, Y. Nakata, K. Mukai, Y. Sugiyama, M. Sugawara, N. Yokoyama, and H. Ishikawa, Appl. Phys. Lett. 71, 193 (1997).
3. Y. Tang, W.-X. Ni, C. M. Sotomayor Torres, and G. V. Hansson, Electron. Lett. 31, 1385 (1995).
4. R. A. Smith and H. Ahmed, Appl. Phys. Lett. 71, 3838 (1997).
5. H. Ishikuro and T. Hiramoto, Appl. Phys. Lett. 71, 3691 (1997).
6. M. C. Peckerar, F. K. Perkins, E. A. Dobisz, and O. J. Glembocki, in Handbook of Microlithography, Micromachining and Microfabrication, 1st ed., edited by P. Rai-Choudhury (IEE, London, 1997), Vol. I, Chap. 8, p. 686.
7. J. A. Rogers, K. E. Paul, R. J. Jackman, and G. M. Whitesides, Appl. Phys. Lett. 70, 2658 (1997).
8. M. A. McCord and M. J. Rooks, in Handbook of Microlithography, Micromachining and Microfabrication, 1st ed., edited by P. Rai-Choudhury (IEE, London, 1997), Vol. I, Chap. 2, pp. 139-249.
9. H. Namastu, K. Kursihara, M. Nagase, and T. Makino, Appl. Phys. Lett. 70, 619 (1997).
10. M. Yoshiiwa, H. Kageyama, Y. Shirota, F. Wakaya, K. Gamo, and M. Takai, Appl. Phys. Lett. 69, 2605 (1996).
11. T. Yamaguchi, H. Namatsu, M. Nagase, K. Yamazaki, and K. Kurihara, Appl. Phys. Lett. 71, 2388 (1997).
12. H. Namatsu, M. Nagase, T. Yamaguchi, K. Yamazaki, and K. Kurihara, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 3315 (1998).
13. J. Fujita, Y. Ohnishi, Y. Ochiai, and S. Matsui, Appl. Phys. Lett. 68, 1297 (1996).
14. S. Manako, J. Fujita, Y. Ochiai, E. Nomura, and S. Matsui, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 36, 7773 (1997).
15. J. Fujita, H. Watanabe, Y. Ochiai, S. Manako, J. S. Tsai, and S. Matsui, Appl. Phys. Lett. 66, 3064 (1995).
16. T. Tada and T. Kanayama, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 35, L63 (1996).
17. A. P. G. Robinson, R. E. Palmer, T. Tada, T. Kanayama, and J. A. Preece, Appl. Phys. Lett. 72, 1302 (1998).
18. A. P. G. Robinson, R. E. Palmer, T. Tada, T. Kanayama, J. A. Preece, D. Philp, U. Jonas, and F. Deiderich, Chem. Phys. Lett. 289, 586 (1998).
19. M. J. Lercel, H. G. Craighead, A. N. Parikh, K. Seshadri, and D. L. Allara, Appl. Phys. Lett. 68, 1504 (1996).
20. C. S. Whelan, M. J. Lercel, H. G. Craighead, K. Seshadri, and D. L. Allara, Appl. Phys. Lett. 69, 4245 (1996).
21. W. Chen and H. Ahmed, Appl. Phys. Lett. 62, 1499 (1993).
22. W. Chen and H. Ahmed, Appl. Phys. Lett. 63, 1116 (1993).
23. D. R. S. Cumming, S. Thoms, S. P. Beaumont, and J. M. R. Weaver, Appl. Phys. Lett. 68, 322 (1996).
24. A. P. G. Robinson, R. E. Palmer, T. Tada, T. Kanayama, M. T. Allen, J. A. Preece, and K. D. M. Harris, J. Phys. D 32, L75 (1999).
25. N. Boden, R. C. Borner, R. J. Bushby, A. N. Cammidge, and M. V. Jesudason, Liq. Cryst. 15, 851 (1993).
26. M. T. Allen, K. D. M. Harris, B. M. Kariuki, N. Kumari, J. A. Preece, S. Diele, D. Lose, T. Hegmann, and C. Tschierske, Liq. Cryst. 27, 689 (2000).
27. J.-I. Fujita, Y. Ohnishi, S. Manako, Y. Ochai, E. Nomura, T. Sakamoto, and S. Matsui, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 36, 7769 (1997).
28. F. E. Prins, J. Pfeiffer, S. Raible, D. P. Kern, and V. Schurig, Microelectron. Eng. 41/42, 359 (1998).
29. T. Tada and T. Kanayama, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 2801 (1995).
30. E. A. Dobisz and C. R. K. Marrian, J. Vac. Sci. Technol. B 15, 2327 (1997).
31. T. Yoshimura, H. Shiraishi, J. Yamamoto, and S. Okazaki, Appl. Phys. Lett. 63, 764 (1993).
32. S. Manako, J.-I. Fujita, K. Tanigaki, Y. Ochiai, and E. Nomura, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 37, 6785 (1998).