Chemically amplified phenolic fullerene electron beam resist

Journal of Materials Chemistry C

Volumn 2, Issue 8, 2014, Pages 1505-1512

  Yang, D X ^a   Frommhold, A ^a   Xue, X ^b   Palmer, R E ^a   Robinson, A P G ^a  

^a UNIVERSITY OF BIRMINGHAM   (United Kingdom)

^b Nano C Inc   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHEMICALLY AMPLIFIED; E-BEAM RESIST; ELECTRON BEAM RESIST; HALF PITCHES; HAZARDOUS SOLVENTS; LINEWIDTH ROUGHNESS; MOLECULAR RESISTS; NEGATIVE TONES;

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY;

FULLERENES;

EID: 84893485153     PISSN: 20507534     EISSN: 20507526     Source Type: Journal    
DOI: 10.1039/c3tc31896f     Document Type: Article

References (48)

1. G. E. Moore Electronics 1965 38 114
2. G. E. Moore, ISSCC Digest of Technical Papers, 2003, vol. 46, p. 20
3. International Technology Roadmap for Semiconductors, http://www.itrs.net, accessed online 2013
4. O. Nozawa H. Shishido M. Hashimoto Y. Ohkubo H. Mitsui Proc. SPIE 2010 7823 78230K
5. T. Kimura J. Photopolym. Sci. Technol. 2012 25 115
6. C. Lapeyre S. Barnola I. Servin S. Gaugiran V. Salvetat N. Magome A. J. Hazelton M. McCallum Proc. SPIE 2009 7274 72740W
7. M. A. McCord and M. J. Rooks, in Handbook of microlithography, micromachining, and microfabrication, ed., P. Rai-Choudhury, IEE, London, UK, 1997, vol. 1, ch. 2, p. 143
8. M. A. McCord P. Petric U. Ummethala A. Carroll S. Kojima L. Grella S. Shriyan C. T. Rettner C. F. Bevis Proc. SPIE 2012 8323 832311
9. C. Klein H. Loeschner E. Platzgummer J. Micro/Nanolithogr., MEMS, MOEMS 2012 11 031402
10. J. Belledent M. Smayling J. Pradelles P. Pimenta-Barros S. Barnola L. Mage B. Icard C. Lapeyre S. Soulan L. Pain Proc. SPIE 2012 8323 83230F
11. E. Slot M. J. Wieland G. De Boer P. Kruit G. F. Ten Berge A. M. C. Houkes R. Jager T. Van De Peut J. J. M. Peijster S. W. H. K. Steenbrink T. F. Teepen A. H. V. Van Veen B. J. Kampherbeek Proc. SPIE 2008 6921 69211P
12. W. W. Hu K. Sarveswaran M. Lieberman G. H. Bernstein J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Nanometer Struct.-Process., Meas., Phenom. 2004 22 1711
13. S. Yasin D. G. Hasko H. Ahmed Microelectron. Eng. 2002 61 745
14. B. Shokouhi J. Zhang B. Cui Micro Nano Lett. 2011 6 12
15. J. Reinspach M. Lindblom O. von Hofsten M. Bertilson H. M. Hertz A. Holmberg J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Nanometer Struct.-Process., Meas., Phenom. 2009 27 2593
16. J. K. Yang B. Cord H. Duan K. K. Berggren J. Klingfus S. W. Nam K. B. Kim M. J. Rooks J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Nanometer Struct.-Process., Meas., Phenom. 2009 27 6
17. J. Kim W. Chao B. Griedel X. Liang M. Lewis D. Hilken D. L. Olynick J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Nanometer Struct.-Process., Meas., Phenom. 2009 27 2628
18. J. Fujita Y. Ohnishi Y. Ochiai S. Matsui Appl. Phys. Lett. 1996 68 1297
19. H. Duan D. Winston J. K. W. Yang B. M. Cord V. R. Manfrinato K. K. Berggren J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Nanometer Struct.-Process., Meas., Phenom. 2010 28 C6C58
20. S. Ma C. Con M. Yavuz B. Cui Nanoscale Res. Lett. 2011 6 446
21. R. A. Lawson L. M. Tolbert T. R. Younkin C. L. Henderson Proc SPIE 2009 7273 72733E
22. E. Herth E. Algre P. Tilmant M. Francois C. Boyaval B. Legrand IEEE Trans. Nanotechnol. 2012 11 4
23. H. Ito, C. G. Willson and J. M. J. Frechet, Digest of Technical Papers, Symposium on VLSI Technology, 1982, pp. 86-87
24. H. Ito C. G. Willson Polym. Eng. Sci. 1983 23 1012
25. T. H. Fedynyshyn R. B. Goodman J. Roberts Proc. SPIE 2008 6923 692319
26. J. T. Woodward T. H. Fedynyshyn D. K. Astolfi S. C. Cann J. M. Roberts M. J. Leeson Proc. SPIE 2007 6519 651915
27. T. Kadota H. Kageyama F. Wakaya K. Gamo Y. Shirota Chem. Lett. 2004 33 706
28. H. M. Zaid A. P. G. Robinson R. E. Palmer M. Manickam J. A. Preece Adv. Funct. Mater. 2007 17 2522
29. D. Drygiannakis G. P. Patsis N. Tsikrikas G. Kokkoris A. Boudouvis I. Raptis E. Gogolides P. Argitis Microelectron. Eng. 2008 85 949
30. J. Manyam M. Manickam J. A. Preece R. E. Palmer A. P. G. Robinson Proc. SPIE 2009 7273 72733D
31. F. P. Gibbons H. M. Zaid M. Manickam J. A. Preece R. E. Palmer A. P. G. Robinson Small 2007 3 2076
32. J. Manyam M. Manickam J. A. Preece R. E. Palmer A. P. G. Robinson Proc. SPIE 2011 7972 79722N
33. T. Tada T. Kanayama A. P. G. Robinson R. E. Palmer M. T. A. Allen J. A. Preece K. D. M. Harris Microelectron. Eng. 2000 53 425
34. H. Sailer A. Ruderisch D. P. Kern V. Schurig Microelectron. Eng. 2004 73-74 228
35. R. A. Lawson C.-T. Lee L. M. Tolbert T. R. Younkin C. L. Henderson Microelectron. Eng. 2009 86 734
36. H. Oizumi K. Tanaka K. Kawakami T. Itani Jpn. J. Appl. Phys. 2010 49 06GF04
37. J. Manyam A. Frommhold D. X. Yang A. McClelland M. Manickam J. A. Preece R. E. Palmer A. P. G. Robinson Proc. SPIE 2012 8325 83251U
38. A. Frommhold D. X. Yang A. McClelland X. Xiang Y. Ekinci R. E. Palmer A. P. G. Robinson J. Micro/Nanolithogr., MEMS, MOEMS 2013 12 3 033010
39. C. Bingel Chem. Ber. 1993 126 1957
40. X. Camps A. Hirsch J. Chem. Soc., Perkin Trans. 1 1997 1595
41. F. P. Gibbons A. P. G. Robinson R. E. Palmer S. Diegoli M. Manickam J. A. Preece Adv. Funct. Mater. 2008 18 1977
42. T. Karatsu Y. Yoshimura S. Miura S. Yagai A. Kitamura J. Ozaki H. Okamoto J. Photopolym. Sci. Technol. 2011 24 5
43. I. Takemoto Y. Fuji I. Yoshida K. Hashimoto T. Miyagawa S. Yamaguchi K. Takahashi S. Konishi Y. Lee J. Photopolym. Sci. Technol. 2005 18 3
44. H. Yamamoto T. Kozawa S. Tagaway H. B. Cao H. Deng M. J. Leeson Jpn. J. Appl. Phys 2007 46 L142
45. D. L. Olynick P. D. Ashby M. D. Lewis T. Jen H. Lu J. A. Liddle W. Chao J. Polym. Sci., Part B: Polym. Phys. 2009 47 2091
46. D. S. H. Hsu W. H. Hsieh C. Y. Huang W. B. Wu C. L. Shih Proc. SPIE 2012 8325 83251M
47. K. Cho S. Tarutani N. Inoue H. Tsubaki M. Neisser Proc. SPIE 2013 8682 868217
48. T. Kozawa H. Oizumi T. Itani S. Tagawa Jpn. J. Appl. Phys. 2011 50 126501