Thin films of high-k oxides and ZnO for transparent electronic devices

Chemical Vapor Deposition

Volumn 19, Issue 4-6, 2013, Pages 213-220

  Gieraltowska, Sylwia ^a   Wachnicki, Lukasz ^a   Witkowski, Bartlomiej S ^a   Guziewicz, Elzbieta ^a   Godlewski, Marek ^a,b  

^a INSTITUTE OF PHYSICS   (Poland)

^b CARDINAL STEFAN WYSZY SKI UNIVERSITY   (Poland)

Author keywords

ALD; High k oxides; TFC; TFT; Zinc oxide

Indexed keywords

ALD; COMPOSITE DIELECTRICS; HIGH-K OXIDES; PROPERTIES OF COMPOSITES; TFC; TFT; THIN-FILM TRANSISTOR (TFTS); TRANSPARENT ELECTRONICS;

CAPACITORS; DEPOSITS; FUNCTIONAL MATERIALS; GATE DIELECTRICS; HAFNIUM OXIDES; SENSORS; SUBSTRATES; THIN FILM CIRCUITS; THIN FILM DEVICES; THIN FILM TRANSISTORS; TITANIUM DIOXIDE; ZINC OXIDE; ZIRCONIUM ALLOYS;

ATOMIC LAYER DEPOSITION;

EID: 84879217650     PISSN: 09481907     EISSN: 15213862     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cvde.201207029     Document Type: Article

References (34)

1. H. Morkoç, U. Özgür, Zinc Oxide: Fundamentals, Materials and Device Technology, Wiley -VCH, Weinheim 2009.
2. J. F. Wager, Science 2003, 300, 1245.
3. J. F. Wager, D. A. Keszler, R. E. Presley, Transparent Electronics, Springer, New York 2008.
4. S. Masuda, K. Kitamura, Y. Okumura, S. Miyatake, H. Tabata, T. Kawai, J. Appl. Phys. 2003, 93, 1624.
5. R. L. Hoffman, B. J. Norris, J. F. Wager, Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 733.
6. P. F. Carcia, R. S. McLean, M. H. Reilly, G. Nunes, Jr, Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 1117.
7. G. Eranna, B. C. Joshi, D. P. Runthala, R. P. Gupta, Crit. Rev. Solid State Mater. Sci. 2004, 29, 111.
8. J. Robertson, Eur. Phys. J. Appl. Phys. 2004, 28, 265.
9. J. A. van Delft, D. Garcia-Alonso, W. M. M. Kessels, Semicond. Sci. Technol. 2012, 27, 074002.
10. G. E. Moore, Electronics 1965, 38, 114.
11. K. Ishimaru, Solid-State Electron. 2008, 52, 1266.
12. E. Guziewicz, I. A. Kowalik, M. Godlewski, K. Kopalko, V. Osinniy, A. Wõjcik, S. Yatsunenko, E. Łusakowska, W. Paszkowicz, M. Guziewicz, J. Appl. Phys. 2008, 103, 033515.
13. E. Guziewicz, M. Godlewski, T. Krajewski, Ł. Wachnicki, A. Szczepanik, K. Kopalko, A. Wõjcik-Głodowska, E. Przeździecka, W. Paszkowicz, E. Łusakowska, P. Kruszewski, N. Huby, G. Tallarida, S. Ferrari, J. Appl. Phys. 2009, 105, 122413.
14. C. Klingshirn, Phys. Status Solidi B 2007, 244, 3027.
15. M. Godlewski, E. Guziewicz, G. Łuka, T. Krajewski, M. Łukasiewicz, Ł. Wachnicki, A. Wachnicka, K. Kopalko, A. Sarem, B. Dalati, Thin Solid Films 2009, 518, 1145.
16. S.-H. K. Park, C.-S. Hwang, H. Y. Jeong, H. Y. Chu, K. I. Cho, Electrochem. Solid-State Lett. 2008, 11, H10.
17. E. Fortunato, P. Barquinha, A. Pimentel, A. Goncalves, A. Marques, L. Pereria, R. Martins, Adv. Mater. 2005, 17, 590.
18. M. Godlewski, E. Guziewicz, K. Kopalko, G. Łuka, M. I. Łukasiewicz, T. Krajewski, B. S. Witkowski, S. Gierałtowska, Low Temp. Phys. 2011, 37, 235.
19. N. Huby, S. Ferrari, E. Guziewicz, M. Godlewski, V. Osinniy, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 023502.
20. T. Suntola, J. Antson, US Patent 4 058 430, 1977.
21. V. Miikkulainen, M. Leskelä, M. Ritala, R. L. Puurunen, J. Appl. Phys. 2013, 113, 021301.
22. N. Nikolaou, P. Dimitrakis, P. Normand, V. Ioannou-Sougleridis, K. Giannakopoulos, K. Mergia, K. Kukli, J. Niinistö, M. Ritala, M. Leskelä, Solid-State Electron. 2012, 68, 38.
23. V. Sammelselg, R. Rammula, J. Aarik, A. Kikas, K. Kooser, T. Käämbre, J. Electron. Spectrosc. Relat. Phenom. 2007, 156, 150.
24. R. Rammula, J. Aarik, H. Mändar, P. Ritslaid, V. Sammelselg, Appl. Surf. Sci. 2010, 257, 1043.
25. J. Yang, J. K. Park, S. Kim, W. Choi, S. Lee, H. Kim, Phys. Status Solidi A 2012, 209, 2087.
26. E. Guziewicz, M. Godlewski, L. Wachnicki, T. A. Krajewski, G. Luka, S. Gieraltowska, R. Jakiela, A. Stonert, W. Lisowski, M. Krawczyk, J. W. Sobczak, A. Jablonski, Semicond. Sci. Technol. 2012, 27, 074011.
27. S. Gierałtowska, D. Sztenkiel, E. Guziewicz, M. Godlewski, G. Łuka, B. S. Witkowski, Ł. Wachnicki, E. Łusakowska, T. Dietl, M. Sawicki, Acta Phys. Pol. A 2011, 119, 692.
28. S. Gieraltowska, L. Wachnicki, B. S. Witkowski, M. Godlewski, E. Guziewicz, Opt. Appl. 2013, 43, 1.
29. S. Gieraltowska, L. Wachnicki, B. S. Witkowski, M. Godlewski, E. Guziewicz, Thin Solid Films 2011, 520, 4694.
30. G. Wilk, R. M. Wallace, J. M. Anthony, J. Appl. Phys. 2001, 89, 5243.
31. J. Robertson, B. Falabretti, J. Appl. Phys. 2006, 100, 014111.
32. D. C. Look, G. C. Farlow, P. Reunchan, S. Limpijumnong, S. B. Zhang, K. Nordlund, Phys. Rev. Lett. 2005, 95, 225502.
33. S. J. Lim, S. Kwon, H. Kim, J. S. Park, Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 183517.
34. K. J. Albert, N. S. Lewis, C. L. Schauer, G. A. Sotzing, S. E. Stitzel, T. P. Vaid, D. R. Walt, Chem. Rev. 2000, 100, 2595.