Low-dose patterning of platinum nanoclusters on carbon nanotubes by focused-electron-beaminduced deposition as studied by TEM

Beilstein Journal of Nanotechnology

Volumn 4, Issue 1, 2013, Pages 77-86

  Ke, Xiaoxing ^a   Bittencourt, Carla ^b   Bals, Sara ^a   Van Tendeloo, Gustaaf ^a  

^a UNIVERSITY OF ANTWERP   (Belgium)

^b UNIVERSITY OF MONS   (Belgium)

Author keywords

Carbon nanotubes; FEBID; Nanocluster; Patterning; Platinum; Radiation induced nanostructures; TEM

Indexed keywords

ELECTRON-BEAM PARAMETERS; FEBID; HIGH-RESOLUTION TEM; LOW ENERGY ELECTRON IRRADIATION; PATTERNING; PLATINUM NANO-CLUSTER; RADIATION-INDUCED NANOSTRUCTURES; TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY (TEM); DEPOSITION METHODS;

CARBON NANOTUBES; DEPOSITS; ELECTRONS; PLATINUM; TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY; TWO DIMENSIONAL; DEPOSITION;

NANOCLUSTERS;

EID: 84876128554     PISSN: None     EISSN: 21904286     Source Type: Journal    
DOI: 10.3762/bjnano.4.9     Document Type: Article

References (46)

1. Terrones, M. Annu. Rev. Mater. Res. 2003, 33, 419-501. doi:10.1146/annurev.matsci.33.012802.100255
2. Bittencourt, C.; Hecq, M.; Felten, A.; Pireaux, J. J.; Ghijsen, J.; Felicissimo, M. P.; Rudolf, P.; Drube, W.; Ke, X.; Van Tendeloo, G. Chem. Phys. Lett. 2008, 462, 260-264. doi:10.1016/j.cplett.2008.07.082
3. Suarez-Martinez, I.; Bittencourt, C.; Ke, X.; Felten, A.; Pireaux, J. J.; Ghijsen, J.; Drube, W.; Van Tendeloo, G.; Ewels, C. P. Carbon 2009, 47, 1549-1554. doi:10.1016/j.carbon.2009.02.002
4. Felten, A.; Suarez-Martinez, I.; Ke, X.; Van Tendeloo, G.; Ghijsen, J.; Pireaux, J.-J.; Drube, W.; Bittencourt, C.; Ewels, C. P. ChemPhysChem 2009, 10, 1799-1804. doi:10.1002/cphc.200900193
5. Bittencourt, C.; Ke, X.; Van Tendeloo, G.; Thiess, S.; Drube, W.; Ghijsen, J.; Ewels, C. P. Chem. Phys. Lett. 2012, 535, 80-83. doi:10.1016/j.cplett.2012.03.045
6. Suarez-Martinez, I.; Ewels, C. P.; Ke, X.; Van Tendeloo, G.; Thiess, S.; Drube, W.; Felten, A.; Pireaux, J.-J.; Ghijsen, J.; Bittencourt, C. ACS Nano 2010, 4, 1680-1686. doi:10.1021/nn9015955
7. Quintana, M.; Ke, X.; Van Tendeloo, G.; Meneghetti, M.; Bittencourt, C.; Prato, M. ACS Nano 2010, 4, 6105-6113. doi:10.1021/nn101183y
8. Muoth, M.; Helbling, T.; Durrer, L.; Lee, S. W.; Roman, C.; Hierold, C. Nat. Nanotechnol. 2010, 5, 589-592. doi:10.1038/nnano.2010.129
9. Raghuveer, M. S.; Kumar, A.; Frederick, M. J.; Louie, G. P.; Ganesan, P. G.; Ramanath, G. Adv. Mater. 2006, 18, 547-552. doi:10.1002/adma.200500181
10. Randolph, S. J.; Fowlkes, J. D.; Rack, P. D. Crit. Rev. Solid State Mater. Sci. 2006, 31, 55-89. doi:10.1080/10408430600930438
11. Huth, M.; Porrati, F.; Schwalb, C.; Winhold, M.; Sachser, R.; Dukic, M.; Adams, J.; Fantner, G. Beilstein J. Nanotechnol. 2012, 3, 597-619. doi:10.3762/bjnano.3.70
12. Van Dorp, W. F.; Hagen, C. W. J. Appl. Phys. 2008, 104, 081301. doi:10.1063/1.2977587
13. Utke, I.; Hoffmann, P.; Melngailis, J. J. Vac. Sci. Technol., B 2008, 26, 1197-1276. doi:10.1116/1.2955728
14. Utke, I.; Gölzhäuser, A. Angew. Chem., Int. Ed. 2010, 49, 9328-9330. doi:10.1002/anie.201002677
15. Wnuk, J. D.; Rosenberg, S. G.; Gorham, J. M.; Van Dorp, W. F.; Hagen, C. W.; Fairbrother, D. H. Surf. Sci. 2010, 605, 257-266. doi:10.1016/j.susc.2010.10.035
16. Botman, A.; Hesselberth, M.; Mulders, J. J. L. Microelectron. Eng. 2008, 85, 1139-1142. doi:10.1016/j.mee.2007.12.036
17. De Teresa, J. M.; Córdoba, R.; Fernández-Pacheco, A.; Montero, O.; Strichovanec, P.; Ibarra, M. R. J. Nanomater. 2009, 936863. doi:10.1155/2009/936863
18. Kämpken, B.; Wulf, V.; Auner, N.; Winhold, M.; Huth, M.; Rhinow, D.; Terfort, A. Beilstein J. Nanotechnol. 2012, 3, 535-545. doi:10.3762/bjnano.3.62
19. Huth, M.; Klingenberger, D.; Grimm, C.; Porrati, F.; Sachser, R. New J. Phys. 2009, 11, 033032. doi:10.1088/1367-2630/11/3/033032
20. Porrati, F.; Sachser, R.; Strauss, M.; Andrusenko, I.; Gorelik, T.; Kolb, U.; Bayarjargal, L.; Winkler, B.; Huth, M. Nanotechnology 2010, 21, 375302. doi:10.1088/0957-4484/21/37/375302
21. Muthukumar, K.; Jeschke, H. O.; Valenti, R.; Begun, E.; Schwenk, J.; Porrati, F.; Huth, M. Beilstein J. Nanotechnol. 2012, 3, 546-555. doi:10.3762/bjnano.3.63
22. Bernau, L.; Gabureac, M.; Erni, R.; Utke, I. Angew. Chem., Int. Ed. 2010, 49, 8880-8884. doi:10.1002/anie.201004220
23. Winhold, M.; Schwalb, C. H.; Porrati, F.; Sachser, R.; Frangakis, A. S.; Kämpken, B.; Terfort, A.; Auner, N.; Huth, M. ACS Nano 2011, 5, 9675-9681. doi:10.1021/nn203134a
24. Bond, G. C. Surf. Sci. 1985, 156, Part 2, 966-981. doi:10.1016/0039-6028(85)90273-0
25. Frelink, T.; Visscher, W.; van Veen, J. A. R. J. Electroanal. Chem. 1995, 382, 65-72. doi:10.1016/0022-0728(94)03648-M
26. Yano, H.; Inukai, J.; Uchida, H.; Watanabe, M.; Babu, P. K.; Kobayashi, T.; Chung, J. H.; Oldfield, E.; Wieckowski, A. Phys. Chem. Chem. Phys. 2006, 8, 4932-4939. doi:10.1039/b610573d
27. Li, L.; Zhang, Z.; Croy, J. R.; Mostafa, S.; Cuenya, B. R.; Frenkel, A. I.; Yang, J. C. Microsc. Microanal. 2010, 16 (Suppl. S2), 1192-1193. doi:10.1017/S1431927610062562
28. Hagen, C. W.; Van Dorp, W. F.; Crozier, P. A. J. Phys.: Conf. Ser. 2008, 126, 012025. doi:10.1088/1742-6596/126/1/012025
29. Silvis-Cividjian, N.; Hagen, C. W.; Kruit, P. J. Appl. Phys. 2005, 98, 084905. doi:10.1063/1.2085307
30. Serrano-Ramón, L.; Córdoba, R.; Rodríguez, L. A.; Magén, C.; Snoeck, E.; Gatel, C.; Serrano, I.; Ibarra, M. R.; De Teresa, J. M. ACS Nano 2011, 5, 7781-7787. doi:10.1021/nn201517r
31. Nikulina, E.; Idigoras, O.; Vavassori, P.; Chuvilin, A.; Berger, A. Appl. Phys. Lett. 2012, 100, 142401. doi:10.1063/1.3701153
32. Frabboni, S.; Gazzadi, G. C.; Felisari, L.; Spessot, A. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 213116. doi:10.1063/1.2206996
33. Botman, A.; Mulders, J. J. L.; Hagen, C. W. Nanotechnology 2009, 20, 372001. doi:10.1088/0957-4484/20/37/372001
34. Walz, M. M.; Vollnhals, F.; Rietzler, F.; Schirmer, M.; Kunzmann, A.; Steinrück, H. P.; Marbach, H. J. Phys. D: Appl. Phys. 2012, 45, 225306. doi:10.1088/0022-3727/45/22/225306
35. Plank, H.; Smith, D. A.; Haber, T.; Rack, P. D.; Hofer, F. ACS Nano 2012, 6, 286-294. doi:10.1021/nn204237h
36. Plank, H.; Gspan, C.; Dienstleder, M.; Kothleitner, G.; Hofer, F. Nanotechnology 2008, 19, 485302. doi:10.1088/0957-4484/19/48/485302
37. Yin, J.; Yagüe, J. L.; Eggenspieler, D.; Gleason, K. K.; Boyce, M. C. Adv. Mater. 2012, 24, 5441-5446. doi:10.1002/adma.201201937
38. Donev, E. U.; Schardein, G.; Wright, J. C.; Hastings, J. T. Nanoscale 2011, 3, 2709-2717. doi:10.1039/c1nr10026b
39. Kohlmann-von Platen, K. T.; Buchmann, L.-M.; Petzold, H.-C.; Brünger, W. H. J. Vac. Sci. Technol., B 1992, 10, 2690-2694. doi:10.1116/1.586027
40. Li, P. G.; Jin, A. Z.; Tang, W. H. Phys. Status Solidi A 2006, 203, 282-286. doi:10.1002/pssa.200521292
41. Botman, A.; Mulders, J. J. L.; Weemaes, R.; Mentink, S. Nanotechnology 2006, 17, 3779-3785. doi:10.1088/0957-4484/17/15/028
42. Botman, A.; Hagen, C. W.; Li, J.; Thiel, B. L.; Dunn, K. A.; Mulders, J. J. L.; Randolph, S.; Toth, M. J. Vac. Sci. Technol., B 2009, 27, 2759-2763. doi:10.1116/1.3253551
43. Porrati, F.; Sachser, R.; Schwalb, C. H.; Frangakis, A. S.; Huth, M. J. Appl. Phys. 2011, 109, 063715. doi:10.1063/1.3559773
44. Porrati, F.; Begun, E.; Winhold, M.; Schwalb, C. H.; Sachser, R.; Frangakis, A. S.; Huth, M. Nanotechnology 2012, 23, 185702. doi:10.1088/0957-4484/23/18/185702
45. Plank, H.; Kothleitner, G.; Hofer, F.; Michelitsch, S. G.; Gspan, C.; Hohenau, A.; Krenn, J. J. Vac. Sci. Technol., B 2010, 29, 051801. doi:10.1116/1.3622314
46. Yang, C.; Hazeghi, A.; Takei, K.; Hong-Yu, C.; Chan, P. C. H.; Javey, A.; Wong, H. S. P. IEEE Trans. Electron Devices 2012, 59, 12-19. doi:10.1109/TED.2011.2170216