Towards integrated molecular electronic devices: Characterization of molecular layer integrity during fabrication processes

Advanced Functional Materials

Volumn 21, Issue 12, 2011, Pages 2273-2281

  Mahmoud, Amr M ^a   Bergren, Adam Johan ^b   Pekas, Nikola ^b   McCreery, Richard L ^a  

^a UNIVERSITY OF ALBERTA   (Canada)

^b NATIONAL RESEARCH COUNCIL CANADA   (Canada)

Author keywords

buried interface; modified surfaces; molecular electronics; nanotechnology; spectroscopy

Indexed keywords

AFM; AROMATIC MOLECULES; BURIED INTERFACE; CARBON-CARBON BONDING; DEPOSITED METAL; DIAZONIUM REDUCTION; DIRECT DEPOSITION; DIRECT-EVAPORATION; ETCHING SOLUTIONS; FABRICATION PROCESS; HIGH YIELD; IN-VACUUM; MINIMAL EFFECTS; MODIFIED SURFACES; MOLECULAR ELECTRONIC DEVICE; MOLECULAR ELECTRONIC JUNCTION; MOLECULAR JUNCTION; MOLECULAR LAYER; NITROAZOBENZENE; PARTIAL PENETRATION; PARYLENE-N; PROCESSING VARIABLES; PT DEPOSITION; TOP CONTACT;

ATOMIC SPECTROSCOPY; BEHAVIORAL RESEARCH; ELECTRON DEVICES; GOLD COATINGS; MOLECULAR ELECTRONICS; PHOTOLITHOGRAPHY; PLATINUM; RAMAN SPECTROSCOPY; SELF ASSEMBLY;

GOLD;

EID: 79959501868     PISSN: 1616301X     EISSN: 16163028     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adfm.201002496     Document Type: Article

References (62)

1. Semiconductor Industry Association,. Accessed September, 2010
2. H. B. Akkerman, B. De Boer, J. Phys.: Condensed Matter 2008, 20, 013001.
3. R. L. McCreery, Anal. Chem. 2006, 78, 3490-3497.
4. R. L. McCreery, A. J. Bergren, Adv. Mater. 2009, 21, 4303-4322.
5. H. Haick, D. Cahen, Acc. Chem. Res. 2008, 41, 359-366.
6. A. Salomon, T. Boecking, O. Seitz, T. Markus, F. Amy, C. Chan, W. Zhao, D. Cahen, A. Kahn, Adv. Mater. 2007, 19, 445-450.
7. A. Salomon, D. Cahen, S. Lindsay, J. Tomfohr, V. B. Engelkes, C. D. Frisbie, Adv. Mater. 2003, 15, 1881-1890.
8. B. Ulgut, H. D. Abruna, Chem. Rev. 2008, 108, 2721-2736.
9. R. E. Holmlin, R. Haag, M. L. Chabinyc, R. F. Ismagilov, A. E. Cohen, A. Terfort, M. A. Rampi, G. M. Whitesides, J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 5075-5085.
10. F. Chen, J. Hihath, Z. F. Huang, X. L. Li, N. J. Tao, Ann. Rev. Phys. Chem. 2007, 58, 535-564.
11. P. A. Van Hal, E. C. P. Smits, T. C. T. Geuns, H. B. Akkerman, B. C. De Brito, S. Perissinotto, G. Lanzani, A. J. Kronemeijer, V. Geskin, J. Cornil, P. W. M. Blom, B. De Boer, D. M. De Leeuw, Nature Nanotechnol. 2008, 3, 749-754.
12. A. J. Bergren, K. D. Harris, F. J. Deng, R. L. McCreery, J. Phys.: Condens. Matter 2008, 20, 374117-374127.
13. L. Luo, C. D. Frisbie, J. Am. Chem. Soc. 2010, 132, 8854-8855.
14. E. A. Weiss, R. C. Chiechi, G. K. Kaufman, J. K. Kriebel, Z. F. Li, M. Duati, M. A. Rampi, G. M. Whitesides, J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 4336-4349.
15. F. Anariba, R. L. McCreery, J. Phys. Chem. B 2002, 106, 10355-10362.
16. C. Grave, E. Tran, P. Samori, G. M. Whitesides, M. A. Rampi, Synth. Met. 2004, 147, 11-18.
17. H. B. Akkerman, A. J. Kronemeijer, J. Harkema, P. A. van Hal, E. C. P. Smits, D. M. de Leeuw, P. W. M. Blom, Org. Electron. 2010, 11, 146-149.
18. M. Coll, C. A. Richter, C. A. Hacker, J. Vac. Sci. Technol. B 2009, 27, 2826-2831.
19. H. Haick, D. Cahen, Acc. Chem. Research 2008, 41, 359-366.
20. H. Haick, D. Cahen, Prog. Surface Sci. 2008, 83, 217-261.
21. Z. Zhu, D. L. Allara, N. Winograd, Appl. Surface Sci. 2006, 252, 6686-6688.
22. A. V. Walker, T. B. Tighe, O. M. Cabarcos, M. D. Reinard, B. C. Haynie, S. Uppili, N. Winograd, D. L. Allara, J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 3954-3963.
23. B. C. Haynie, A. V. Walker, T. B. Tighe, D. L. Allara, N. Winograd, Appl. Surface Sci. 2003, 203, 433-436.
24. G. L. Fisher, A. V. Walker, A. E. Hooper, T. B. Tighe, K. B. Bahnck, H. T. Skriba, M. D. Reinard, B. C. Haynie, R. L. Opila, N. Winograd, D. L. Allara, J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 5528-5541.
25. F. Anariba, J. K. Steach, R. L. McCreery, J. Phys. Chem. B 2005, 109, 11163-11172.
26. A. J. Bergren, R. L. McCreery, S. R. Stoyanov, S. Gusarov, A. Kovalenko, J. Phys. Chem. C 2010, 114, 15806-15815.
27. R. McCreery, Chem. Mater. 2004, 16, 4477-4496.
28. R. L. McCreery, ChemPhysChem 2009, 10, 2387-2391.
29. W. R. McGovern, F. Anariba, R. L. McCreery, J. Electrochem. Soc. 2005, 152, E176-E183.
30. F. Anariba, S. H. DuVall, R. L. McCreery, Anal. Chem. 2003, 75, 3837-3844.
31. J. K. Kariuki, M. T. McDermott, Langmuir 1999, 15, 6534-6540.
32. J. K. Kariuki, M. T. McDermott, Langmuir 2001, 17, 5947-5951.
33. R. L. McCreery, U. Viswanathan, R. P. Kalakodimi, A. M. Nowak, Faraday Discuss. 2006, 131, 33-43.
34. J. Ru, B. Szeto, A. Bonifas, R. L. McCreery, ACS Appl. Mater. Interfaces 2010, 2, 3693-3701.
35. A. P. Bonifas, R. L. McCreery, Nat. Nanotechnol. 2010, 5, 612-617.
36. A. M. Nowak, R. L. McCreery, Anal. Chem. 2004, 76, 1089-1097.
37. A. M. Nowak, R. L. McCreery, J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 16621-16631.
38. E. DeIonno, H. R. Tseng, D. D. Harvey, J. F. Stoddart, J. R. Heath, J. Phys. Chem. B 2006, 110, 7609-7612.
39. M. Toupin, D. Belanger, J. Phys. Chem. C 2007, 111, 5394-5401.
40. A. M. Mahmoud, A. J. Bergren, R. L. McCreery, Anal. Chem. 2009, 81, 6972-6980.
41. H. H. Liang, H. Tian, R. L. McCreery, Appl. Spectrosc. 2007, 61, 613-620.
42. T. Itoh, R. L. McCreery, J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 10894-10902.
43. P. S. Chen, A new handbook of chemistry; Chem. Elements Pub., Camarillo, CA 1975.
44. C. H. deVilleneuve, J. Pinson, M. C. Bernard, P. Allongue, J. Phys. Chem. B 1997, 101, 2415-2420.
45. H. L. Skriver, N. M. Rosengaard, Phys. Review B 1992, 46, 7157.
46. R. L. McCreery, J. Wu, R. P. Kalakodimi, Phys. Chem. Chem. Phys. 2006, 8, 2572-2590.
47. J. Ficker, H. von Seggern, H. Rost, W. Fix, W. Clemens, I. McCulloch, Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 1377-1379.
48. M. Manceau, J. Gaume, A. Rivaton, J. L. Gardette, G. Monier, L. Bideux, Thin Solid Films 2010, 518, 7113-7118.
49. T. Caronna, M. Forte, M. Catellani, S. V. Meille, Chem. Mater. 1997, 9, 991-995.
50. P. Kramer, A. K. Sharma, E. E. Hennecke, H. Yasuda, J. Polym. Sci., Part A 1984, 22, 475-491.
51. Y. S. Yeh, W. J. James, H. Yasuda, J. Polym. Sci., Part B 1990, 28, 545-568.
52. J. J. Senkevich, S. B. Desu, Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 258-260.
53. R. M. Metzger, Acc. Chem. Res. 1999, 32, 950.
54. R. M. Metzger, T. Xu, I. R. Peterson, J. Phys. Chem. B 2001, 105, 7280-7290.
55. H. H. Yang, R. L. McCreery, J. ElectroChem. Soc. 2000, 147, 3420-3428.
56. S. H. DuVall, R. L. McCreery, J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 6759-6764.
57. P. Allongue, M. Delamar, B. Desbat, O. Fagebaume, R. Hitmi, J. Pinson, J. M. Saveant, J. Am. Chem. Soc. 1997, 119, 201-207.
58. S. Ranganathan, R. McCreery, S. M. Majji, M. Madou, J. Electrochem. Soc. 2000, 147, 277-282.
59. S. Donner, H. W. Li, E. S. Yeung, M. D. Porter, Anal. Chem. 2006, 78, 2816-2822.
60. H. Tian, A. J. Bergren, R. L. McCreery, Appl. Spectrosc. 2007, 61, 1246-1253.
61. J. D. Ramsey, S. Ranganathan, J. Zhao, R. L. McCreery, Appl. Spectrosc. 2001, 55, 767-773.
62. L. C. T. Shoute, A. J. Bergren, A. M. Mahmoud, K. D. Harris, R. L. McCreery, Appl. Spectrosc. 2009, 63, 133-140.