Importance of oxides in carbon/molecule/metal molecular junctions with titanium and copper top contacts

Journal of the Electrochemical Society

Volumn 152, Issue 5, 2005, Pages

  McGovern, William R ^a   Anariba, Franklin ^a   McCreery, Richard L ^a  

^a OHIO STATE UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

COPPER; ELECTRIC RESISTANCE; ELECTRODEPOSITION; ELECTRONIC STRUCTURE; HYSTERESIS; METAL ANALYSIS; MONOLAYERS; OXIDES; PRESSURE EFFECTS; REDOX REACTIONS; SEMICONDUCTOR JUNCTIONS; TITANIUM;

CHEMICAL BARRIERS; COVALENT BONDING; MOLECULAR JUNCTIONS; MOLECULAR LAYERS;

MOLECULAR DYNAMICS;

EID: 20444399494     PISSN: 00134651     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/1.1888369     Document Type: Article

References (36)

1. G. L. Fisher, A. E. Hooper, R. L. Opila, D. R. Jung, D. L. Allara, and N. Winograd, J. Phys. Chem. B, 104, 3267 (2000).
2. G. L. Fisher, A. Hooper, R. L. Opila, D. R. Jung, D. L. Allara, and N. Winograd, J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom., 98-99, 139 (1999).
3. G. L. Fisher, A. V. Walker, A. E. Hooper, T. B. Tighe, K. B. Bahnck, H. T. Skriba, M. D. Reinard, B. C. Haynie, R. L. Opila, N. Winograd, and D. L. Allara, J. Am. Chem. Soc., 124, 5528 (2002).
4. A. Hooper, G. L. Fisher, K. Konstadinidis, D. Jung, H. Nguyen, R. Opila, R. W. Collins, N. Winograd, and D. L. Allara, J. Am. Chem. Soc., 121, 8052 (1999).
5. K. Konstadinidis, P. Zhang, R. L. Opila, and D. L. Allara, Surf. Sci., 338, 300 (1995).
6. C. Zhou, M. R. Deshpande, M. A. Reed, L. Jones, and J. M. Tour, Appl. Phys. Lett., 71, 611 (1997).
7. S.-C. Chang, Z. Li, C. N. Lau, B. Larade, and R. S. Williams, Appl Phys. Lett., 83, 3198 (2003).
8. D. R. Stewart, D. A. A. Ohlberg, P. A. Beck, Y. Chen, R. S. Williams, J. O. Jeppesen, K. A. Nielsen, and I. F. Stoddart, Nano Lett., 4, 133 (2004).
9. Y. Chen, D. A. A. Ohlberg, X. Li, D. R. Stewart, R. S. Williams, I. O. Jeppesen, K. A. Nielsen, I. F. Stoddart, D. L. Olynick, and E. Anderson, Appl. Phys. Lett., 82, 1610 (2003).
10. Y. Chen, G.-Y. Jung, D. A. A. Ohlberg, X. Li, D. R. Stewart, J. O. Jeppesen, K. A. Nielsen, J. F. Stoddart, and R. S. Williams, Nanotechnology, 14, 462 (2003).
11. B. C. Haynie, A. V. Walker, T. B. Tighe, D. L. Allara, and N. Winograd, Appl. Surf. Sci., 203-204, 433 (2003).
12. B. d. Boer, M. M. Frank, Y. J. Chabal, W. Jiang, E. Oarfunkel, and Z. Bao, Langmuir, 20, 1539 (2004).
13. R. L. McCreery, J. Dieringer, A. O. Solak, B. Snyder, A. Nowak, W. R. McGovern, and S. DuVall, J. Am. Chem. Soc., 125, 10748 (2003).
14. A. M. Nowak and R. L. McCreery, Anal. Chem., 76, 1089 (2004).
15. R. McCreery, J. Dieringer, A. O. Solak, B. Snyder, A. M. Nowak, W. R. McGovern, and S. DuVall, J. Am. Chem. Soc., 126, 6200 (2004).
16. S. Ranganathan, R. L. McCreery, S. M. Majji, and M. Madou, J. Electrochem. Soc., 147, 277 (2000).
17. S. Ranganathan and R. L. McCreery, Anal. Chem., 73, 893 (2001).
18. J. H. Moore, C. C. Davis, and M. A. Coplan, Building Scientific Apparatus: A Practical Guide to Design and Construction, Allan M. Wylde, 1989.
19. F. Anariba, S. H. DuVall, and R. L. McCreery, Anal. Chem., 75, 3837 (2003).
20. D. Simon, C. Perrin, and J. Bardolle, J. Microsc. Spectrosc. Electron., 1, 175 (1976).
21. A. R. Gonzalez-Elipe, G. Munvera, J. P. Espinos, and J. M. Sanz, Surf. Sci., 220, 368 (1989).
22. F. Werfel and O. Brummer, Phys. Scr., 28, 92 (1983).
23. J. F. Moulder, W. F. Stickle, W. F. Sobol, and K. D. Bomben, Handbook of X-Ray Photoelectron Spectroscopy, Perkin-Elmer Corp., Eden Prairie, MN (1992).
24. R. P. Netterfield, P. J. Martin, C. G. Pacey, W. G. Sainty, and D. R. McKenzie, J. Appl. Phys., 66, 1805 (1989).
25. D. Gonbeau, C. Guimon, G. Pfister-Guillouzo, A. Levasseur, G. Meunier, and R. Dormoy, Surf. Sci., 254, 81 (1991).
26. C. D. Wagner, D. A. Zatko, and R. H. Raymond, Anal. Chem., 52, 1445 (1980).
27. T. Dickinson, A. F. Povey, and P. M. A. Sherwood, J. Chem. Soc., Faraday Trans. 1, 72, 686 (1976).
28. C. D. Wagner, D. E. Passoja, H. F. Hillery, T. G. Kinisky, H. A. Six, W. T. Jansen, and J. A. Taylor, J. Vac. Sci. Technol., 21, 933 (1982).
29. J. Haber, J. Stoch, and L. Ungier, J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom., 9, 459 (1976).
30. N. S. McIntyre, S. Sunder, D. W. Shoesmith, and F. W. Stanchell, J. Vac. Sci. Technol., 18, 714 (1981).
31. E. Fromm and O. Mayer, Surf. Sci., 74, 259 (1978).
32. B. Xu and N. J. Tao, Science, 301, 1221 (2003).
33. A. M. Nowak and R. L. McCreery, J. Am. Chem. Soc., 126, 16621 (2004).
34. D. Mardare, C. Baban, R. Gavrile, M. Modreanu, and G. I. Rusu, Surf. Sci., 507-510, 468 (2002).
35. J. J. Hoagland, X. D. Wang, and K. W. Hipps, Chem. Mater., 5, 54 (1993).
36. T. Itoh and R. L. McCreery, J. Am. Chem. Soc., 124, 10894 (2002).