A study of flare variation in extreme ultraviolet lithography for sub-22nm line and space pattern

Japanese Journal of Applied Physics

Volumn 49, Issue 6 PART 2, 2010, Pages

  Lee, Junhwan ^a   Song, Kangyoo ^a   Kim, Changreol ^b   Kim, Yongdae ^b   Kim, Ohyun ^a  

^a Pohang University of Science and Technology (POSTECH)   (South Korea)

^b Hynix Semiconductor Inc   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AZIMUTHAL ANGLE; CRITICAL DIMENSION UNIFORMITIES; CRITICAL ISSUES; DUMMY PATTERNS; FLARE VARIATION COMPENSATION; LINE-AND-SPACE; LINE-AND-SPACE PATTERNS; MASK TOPOGRAPHY; OFF-AXIS ILLUMINATION; RULE BASED; THREE-DIMENSIONAL (3D);

EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY; OPTICAL SYSTEMS; SURFACE ROUGHNESS; THREE DIMENSIONAL;

PHOTORESISTS;

EID: 77955328299     PISSN: 00214922     EISSN: 13474065     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/JJAP.49.06GD09     Document Type: Article

References (18)

1. R. Jonckheere, G. F. Lorusso, A. M. Goethals, J. Hermans, B. Baudemprez, A. Myers, I. Kim, A. Niroomand, F. Iwamoto, N. Stepanenko, and K. Ronse: Proc. SPIE 6607 (2007) 66070H.
2. N. Harned, M. Goethals, R. Groeneveld, P. Kucrz, M. Lowisch, H. Meijer, H. Meiling, K. Ronse, J. Ryan, M. Tittnich, H. J. Voorma, J. Zimmerman, U. Mickan, and S. Lok: Proc. SPIE 6517 (2007) 651706.
3. J. P. Kirk: Proc. SPIE 2197 (1994) 566.
4. C. Krautschik, M. Ito, I. Nishiyama, and S. Okazaki: Proc. SPIE 4688 (2002) 289.
5. J. Moon, C. K. Kim, B. S. Nam, B. H. Nam, Y. S. Hyun, S. K. Kim, C. M. Lim, Y. D. Kim, M. S. Kim, Y. K. Choi, C. R. Kim, and D. Yim: Proc. SPIE 7271 (2009) 727144.
6. M. Chandhok, S. H. Lee, and T. Bacuita: J. Vac. Sci. Technol. B 22 (2004) 2966.
7. H. Aoyama, Y. Tanaka, K. Tawarayama, Y. Arisawa, T. Tanaka, and I. Mori: Jpn. J. Appl. Phys. 48 (2009) 056510.
8. H. Aoyama, N. Iriki, and T. Tanaka: J. Vac. Sci. Technol. B 26 (2008) 80.
9. G. F. Lorusso, A. M. Goethals, R. Jonckheere, J. Hermans, K. Ronse, A. M. Myers, I. Kim, A. Niroomand, F. Iwamoto, and D. Ritter: J. Vac. Sci. Technol. B 25 (2007) 2127.
10. I. Kim, A. Myers, L. S. Melvin III, B. Ward, G. F. Lorusso, R. Jonckheere, A. M. Goethals, and K. Ronse: Microelectron. Eng. 85 (2008) 738.
11. F. M. Schellenberg, J. Word, and O. Toublan: Proc. SPIE 5751 (2005) 320.
12. S. Jang, L. Zavyalova, B. Ward, and K. Lucas: Proc. SPIE 7271 (2009) 72711A.
13. A. M. Myers, G. F. Lorusso, I. Kim, A. M. Goethals, R. Jonckheere, J. Hermans, B. Baudemprez, and K. Ronse: J. Vac. Sci. Technol. B 26 (2008) 2215.
14. C. Krautschik, M. Chandhok, G. Zhang, S. Lee, M. Goldstein, E. Panning, B. Rice, R. Bristol, and V. Singh: Proc. SPIE 5037 (2003) 58.
15. M. Chandhok, S. H. Lee, C. Krautschik, G. Zhang, B. J. Rice, M. Goldstein, E. Panning, R. Bristol, A. Stivers, and M. Shell: Proc. SPIE 5374 (2004) 854.
16. A. M. Goethals, R. Jonckheere, G. F. Lorusso, J. Hermans, F. V. Roey, A. Myers, M. Chandhok, I. Kim, A. Niroomand, F. Iwamoto, N. Stepanenko, R. Gronheid, B. Baudemprez, and K. Ronse: Proc. SPIE 6517 (2007) 651709.
17. O. R. Wood III, D. Back, R. Brainard, G. Denbeaux, D. Goldfarb, F. Goodwin, J. Hartley, K. Kimmel, C. Koay, B. La Fontaine, J. Mackey, B. Martinick, W. Montgomery, P. Naulleau, U. Okoroanyanwu, K. Petrillo, B. Pierson, M. Tittnich, S. Trogisch, T. Wallow, and Y. Wei: Proc. SPIE 6517 (2007) 65170U.
18. M. Chandhok, S. H. Lee, C. Krautschik, B. J. Rice, E. Panning, M. Goldstein, and M. Shell: Proc. SPIE 5374 (2004) 86.