Oxide and carbide formation at titanium/organic monolayer interfaces

Journal of the American Chemical Society

Volumn 130, Issue 12, 2008, Pages 4041-4047

  Blackstock, Jason J ^a   Donley, Carrie L ^a,c   Stickle, William F ^b   Ohlberg, Douglas A A ^a   Yang, J Joshua ^a   Stewart, Duncan R ^a   Williams, R Stanley ^a  

^a HEWLETT PACKARD LABORATORIES   (United States)

^b HEWLETT PACKARD COMPANY   (United States)

^c UNIVERSITY OF NORTH CAROLINA   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DELAMINATION; DEPTH PROFILING; SELF ASSEMBLED MONOLAYERS; TITANIUM CARBIDE; ULTRAHIGH VACUUM; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

ION-MILL DEPTH PROFILING; MOLECULAR MONOLAYER JUNCTIONS; ORGANIC MONOLAYER INTERFACES;

TITANIUM OXIDES;

CADMIUM; CARBON; GOLD; METAL; OXIDE; OXYGEN; PLATINUM DERIVATIVE; SILICON DIOXIDE; TITANIUM; TITANIUM CARBIDE;

ADHESION; ARTICLE; CHEMICAL BINDING; ELECTROCHEMISTRY; LANGMUIR BLODGETT FILM; MOLECULAR ELECTRONICS; PRESSURE CHAMBER; QUANTITATIVE ANALYSIS; VACUUM; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

EID: 41149116587     PISSN: 00027863     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/ja710448e     Document Type: Article

References (42)

1. Forrest, S. R.; Thompson, M. E. Chem. Rev. 2007, 107, 923.
2. Organic Electronics: Materials, Manufacturing, and Applications; Klauk, H., Ed.; Wiley-VCH: Weinheim, Germany, 2006.
3. Molecular Electronics: A 'Chemistry for the 21st century'; Jortner, J., Ratner, M., Eds.; Blackwell Science: Malden, MA, 1997.
4. Molecular Nanoelectronics; Reed, M. A., Lee, T., Eds.; American Scientific Publishers: Stevenson Ranch, CA, 2003.
5. Introducing Molecular Electronics; Cuniberti, G., Fagas, G., Richter, K., Eds.; Springer, Berlin, 2005.
6. (a) Richter, C. A.; Hacker, C. A.; Richter, L. J. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 21836.
7. (b) Hacker, C. A.; Richter, C. A.; Gergel-Hackett, N.; Richter, L. J. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 9384.
8. Donley, C. L.; Blackstock, J. J.; Stickle, W. F.; Stewart, D. R.; Williams, R. S. Langmuir 2007, 23, 7620.
9. Collier, C. P.; Wong, E. W.; Belohradsky, M.; Raymo, F. M.; Stoddart, J. F.; Kuekes, P. J.; Williams, R. S.; Heath, J. R. Science 1999, 285, 391.
10. Collier, C. P.; Mattersteig, G.; Wong, E. W.; Luo, Y.; Beverly, K.; Sampaio, J.; Raymo, F. M.; Stoddart, J. F.; Heath, J. R. Science 2000, 289, 1172.
11. Chen, Y.; Ohlberg, D. A. A.; Li, X.; Stewart, D. R.; Jeppesen, J. O.; Nielsen, K. A.; Stoddart, J. F.; Olynick, D. L.; Anderson, E. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 1610.
12. Chen, Y.; Jung, G.-Y.; Ohlberg, D. A. A.; Li, X.; Stewart, D. R.; Jeppesen, J. O.; Nielsen, K. A.; Stoddart, J. F.; Williams, R. S. Nanotechnology 2003, 14, 462.
13. Lau, C. N.; Stewart, D. R.; Williams, R. S.; Bockrath, M. Nano Lett. 2004, 4, 569.
14. Stewart, D. R.; Ohlberg, D. A. A.; Beck, P. A.; Chen, Y.; Williams, R. S.; Jeppesen, J. O.; Nielsen, K. A.; Stoddart, J. F. Nano Lett. 2004, 4, 133.
15. Stewart, D. R.; Ohlberg, D. A. A.; Beck, P. A.; Lau, C. N.; Williams, R. S. Appl. Phys. A 2005, 80, 1379.
16. Lau, C. N.; Stewart, D. R.; Bockrath, M.; Williams, R. S. Appl. Phys. A 2005, 80, 1373.
17. Wu, W.; Jung, G.-Y.; Olynick, D. L.; Straznicky, J.; Li, Z.; Li, X.; Ohlberg, D. A. A.; Chen, Y.; Wang, S.-Y.; Liddle, J. A.; Tong, W. M.; Williams, R. S. Appl. Phys. A 2005, 80, 1173.
18. Kuekes, P. J.; Stewart, D. R.; Williams, R. S. J. Appl. Phys. 2005, 97, 034301.
19. Konstandinidis, K.; Zhang, P.; Opila, R. L.; Allara, D. L. Surf. Sci. 1995, 338, 300.
20. Herdt, G. C.; Jung, D. R.; Czanderna, A. W. Prog. Surf. Sci. 1995, 50, 103.
21. Jung, D. R.; Czanderna, A. W.; Herdt, G. C. J. Vac. Sci. Technol., A 1996, 14, 1779.
22. Hooper, A.; Fisher, G. L.; Konstadinidis, K.; Jung, D.; Nguyen, H.; Opila, R.; Collins, R. W.; Winograd, N.; Allara, D. L. J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 8052.
23. Fisher, G. L.; Walker, A. V.; Hooper, A. E.; Tighe, T. B.; Bahnck, K. B.; Skriba, H. T.; Reinard, M. D.; Hayie, B. C.; Opila, R. L.; Winograd, N.; Allara, D. L. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 5528.
24. Chang, S.-C.; Li, Z.; Lau, C. N.; Larade, B.; Williams, R. S. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 3198.
25. Haynie, B. C.; Walker, A. V.; Tighe, T. B.; Allara, D. L.; Winograd, N. Appl. Surf. Sci. 2003, 203-204, 433.
26. Walker, A. V.; Tighe, T. B.; Cabarcos, O. M.; Reinard, M. D.; Haynie, B. C.; Uppili, S.; Winograd, N.; Allara, D. L. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 3954.
27. Walker, A. V.; Tighe, T. B.; Stapleton, J.; Haynie, B. C.; Upilli, S.; Allara, D. L.; Winograd, N. Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 4008.
28. Jun, Y.; Zhu, X. Y. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 13224.
29. deBoer, B.; Frank, M. M.; Chabal, Y. J.; Jiang, W.; Garfunkel, E.; Bao, Z. Langmuir 2004, 20, 1539.
30. Walker, A. V.; Tighe, T. B.; Haynie, B. C.; Uppili, S.; Winograd, N.; Allara, D. L. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 11263.
31. Nowak, A. M.; McCreery, R. L. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 16621.
32. McGovern, W. R.; Anariba, F.; McCreery, R. L. J. Electrochem. Soc. 2005, 152, E176.
33. Tighe, T. B.; Daniel, T. A.; Zhu, Z.; Uppili, S.; Winograd. N.; Allara, D. L. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 21006.
34. Zhu, Z.; Daniel, T. A.; Maitani, M.; Cabarcos, O. M.; Allara, D. L.; Winograd, N. J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 13710.
35. Li, Z.; Beck, P.; Ohlberg, D. A. A.; Stewart, D. F.; Williams, R. S. Surf. Sci. 2003, 529, 410.
36. Blackstock, J. J.; Stewart, D. R.; Li, Z. Appl. Phys. A 2005, 80, 1343.
37. NIST X-ray Photoelectron Spectroscopy Database 20, version 3.4 (Web version); Wagner, C. D., Naumkin, A. V., Kraut-Vass, A., Allison, J. W., Powell, C. J., Rumble, J. R., Eds.; National Institute of Standards and Technology: Gaithersburg, MD, 2003.
38. Cumpson, P. J.; Seah, M. P. Surf. Interface Anal. 1997, 25, 430.
39. Blackstock, J. J.; Stickle, W. F.; Donley, C. L.; Stewart, D. R.; Williams, R. S. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 16.
40. Kim, H.; McIntyre, P. C.; Chui, C. O.; Saraswat, K. C.; Stemmer, S. J. Appl. Phys. 2004, 96, 3467.
41. Nishida, N.; Hara, M.; Sasabe, H.; Knoll, W. Jpn. J. Appl. Phys. 1996, 35, L799-802.
42. Lavrich, D. J.; Wetterer, S. M.; Bernasek, S. L.; Scoles, G. J. Phys. Chem. B 1998, 102, 3456.