Anodic oxidation lithography via atomic force microscope on organic resist layers

Polymer (Korea)

Volumn 30, Issue 3, 2006, Pages 187-195

  Kim, Sung Kyoung ^a   Lee, Haiwon ^a  

^a Hanyang University   (South Korea)

Author keywords

Anodic oxidation or anodization; Atomic force microscope; Langmuir Blodgett film; Nanolithography; Organic resist; Polymer resist; Self assembled monolayer

Indexed keywords

EID: 33845369374     PISSN: 0379153X     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Review

References (47)

1. G. Binnig, H. Rohrer, C. Gerber, and E. Weibel, Phys. Rev. Lett., 49, 57 (1982).
2. G. Binnig, C. F. Quate, and Ch. Gerber, Phys. Rev. Lett., 56, 930 (1986).
3. G. Marsh, Materialstoday, 6, 28 (2003).
4. P. Gould, Materialstoday, 6, 34 (2003).
5. D. Wouters and U. S. Schubert, Angew. Chem. Int. Ed., 43, 2480 (2004).
6. G. Y. Liu, S. Xu, and Y. Qian, Acc. Chem. Res., 33, 457 (2000).
7. R. M. Nyffenegger and R. M. Penner, Chem. Rev., 97, 1195 (1997)
8. B. D. Gates, Q. Xu, M. Stewart, D. Ryan, C. G. Willson, and G. M. Whitesides, Chem. Rev., 105, 1171 (2005).
9. S. H. Lee and H. Lee, Encyclopedia of Nanoscience and Nanotechnology, Marcel Dekker, Inc., New York, p109 (2004).
10. D. M. Eigler and D. K. Schweizer, Nature, 344, 524 (1990).
11. I-W. Lyo and Ph. Avouris, Science, 253, 173 (1991).
12. R. D. Finer, J. Zhu, F. Xu, S. Hong, and C. A. Mirkin, Science, 283, 661 (1999).
13. S. L. Brandow, W. J. Dressick, C. S. Dulcey, T. S. Koloski, L. M. Shirey, J. Schmidt, and J. M. Calvert, J. Vac. Sci. Technol. B, 15, 1818 (1997).
14. M. Versen, B. Klehn, U. Kunze, D. Reuter, and A. D. Wieck, Ultramicroscopy, 82, 159 (2000).
15. E. Garfunkel, G. Rudd, D. Novak, S. Wang, G. Ebert, M. Greenblatt, T. Gustafsson, and S. H. Garofalini, Science, 246, 99 (1989).
16. P. Radojkovic, M. Schwartzkopff, T. Gabriel, and E. Hartmann, Appl. Phys. A, 66, S701 (1998).
17. P. E. Sheehan, L. J. Whitman, P. K. William, and A. N. Brent, Appl. Phys. Lett., 85, 1589 (2004).
18. S. W. Lee, B. J. Park, G. Y. Yeom, and H. Lee, Nanotechnology, 16, 3137 (2005).
19. J. A. Dagata, J. Schneir, H. H. Haray, C. J. Evans, M. T. Postek, and J. Bennet, Appl. Phys. Lett., 58, 2001 (1990).
20. R. M. Silver, E. E. Ehrichs, and A. L. de Lozanne, Appl. Phys. Lett., 51, 247 (1987).
21. M. Baba and S. Matsui, Jpn. J. Appl. Phys., 29, 2854 (1990)
22. S. L. Konsek, R. J. N. Coope, T. P. Pearsall, and T. Tiedje, Appl. Phys. Lett., 70, 1846 (1997).
23. S. Xu and G. Y. Liu, Langmuir, 13, 127 (1997).
24. J. F. Liu, S. Cruchon-Dupeyrat, J. C. Garmo, J. Frommer, and G. Y. Liu, Nano Lett., 2, 937 (2002).
25. J. Zhao and K. Uosaki, Nano Lett., 2, 137 (2002).
26. A. E. Gordon, R. T. Fayfield, D. D. Litfin, and T. K. Higman, J. Vac. Sci. Technol. B, 13, 2805 (1995).
27. H. Sugimura and N. Nakagiri, J. Vac. Sci. Technol. A, 14, 1223 (1996).
28. D. Stievenard, P. A. Fontaine, and E. Dubois, Appl. Phys. Lett., 70, 3272 (1997).
29. P. Avouris, T. Hertel, and R. Martel, Appl. Phys. Lett., 71, 285 (1997).
30. J. Kim, Y. Oh, H. Lee, Y. Shin, and S. Park, Jpn. J. Appl. Phys., 37, 324 (1998).
31. B. Legrand and D. Stievenard, Appl. Phys. Lett., 74, 4049 (1999).
32. E. S. Snow, P. M. Campbell, and F. K. Perkins, Appl. Phys. Lett., 75, 1476 (1999).
33. W. Lee, Y. Oh, E. R. Kim, and H. Lee, Synthetic Metals, 117, 305 (2001).
34. S. J. Ahn, Y. K. Jang, and H. Lee, Appl. Phys. Lett., 80, 2592 (2002).
35. H. Lee, S. A. Kim, S. J. Ahn, and H. Lee, Appl. Phys. Lett., 81, 138 (2002).
36. W. Lee, E. R. Kim, and H. Lee, Langmuir, 18, 8375 (2002).
37. M. S. Son, E. R. Kim, and H. Lee, J. Korean Phys. Soc., 41, 949 (2002).
38. S. M. Kim and H. Lee, J. Vac. Sci. Technol. B, 21, 2398 (2003).
39. S. J. Bae, C. Han, M. S. Kim, C. C. Chung, and H. Lee, Nanotechnology, 16, 2082 (2005).
40. W. Lee, H. Lee, and M. S. Chun, Langmuir, 21, 8839 (2005).
41. M. Tello and R. Garcia, Appl. Phys. Lett., 79, 424 (2001).
42. A. Ulman, An introduction to ultrathin organic films from Langmuir-Blodgett to self-assembly, Academic Press, San Diego, 1991.
43. H. J. Lee, H. Y. Park, S. Y. Koo, and H. Lee, Mat. Res. Soc. Proc., 739, 199 (2003).
44. Q. Li, J. Zheng, and Z. Liu, Langmuir, 19, 166 (2003).
45. nd ed., Academic Press, New York, 1992.
46. H. Kolbe, Ann., 69, 257 (1849).
47. K. Wilder, B. Singh, D. F. Kyser, and C. F. Quate, J. Vac. Sci. Technol. B, 16, 6 (1998).