Scanning probe anodization: Nanolithography using thin films of anodically oxidizable materials as resists

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 14, Issue 3, 1996, Pages 1223-1227

  Sugimura, Hiroyuki ^a   Nakagiri, Nobuyuki ^a  

^a NIKON CORPORATION   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0005824238     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.580271     Document Type: Article

References (27)

1. M. A. McCord and R. F. W. Pease, J. Vac. Sci. Technol. B 4, 86 (1986).
2. M. A. McCord and R. F. W. Pease, J. Vac. Sci. Technol. B 6, 293 (1988).
3. E. A. Dobisz and C. R. K. Marrian, Appl. Phys. Lett. 58, 2526 (1991).
4. C. R. K. Marrian, F. K. Perkins, S. L. Brandow, T. S. Koloski, E. A. Dobisz, and J. M. Calvert, Appl. Phys. Lett. 64, 390 (1994).
5. F. K. Perkins, E. A. Dobisz, S. L. Brandow, T. S. Koloski, J. M. Calvert, K. W. Rhee, J. E. Kosakowski, and C. R. K. Marrian, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 3725 (1994).
6. J. A. Dagata, J. Schneir, H. H. Harary, C. J. Evans, M. T. Postek, and J. Bennett, Appl. Phys. Lett. 56, 2001 (1990).
7. H. Sugimura, T. Uchida, N. Kitamura, and H. Masuhara, Jpn. J. Appl. Phys. 32, L553 (1993).
8. N. Barniol, F. Pérez-Murano, and X. Aymerich, Appl. Phys. Lett, 61, 462 (1992).
9. H. C. Day and D. R. Allee, Appl. Phys. Lett. 62, 2691 (1993).
10. M. Yasutake, Y. Ejiri, and T. Hattori, Jpn. J. Appl. Phys. 32, L1021 (1993).
11. H. Sugimura, N. Kitamura, and H. Masuhara, Jpn. J. Appl. Phys. 33, L143 (1994).
12. D. Wang, L. Tsau, and K. L. Wang, Appl. Phys. Lett. 65, 1415 (1994).
13. H. Sugimura, T. Uchida, N. Kitamura, and H. Masuhara, J. Phys. Chem. 98, 4352 (1994).
14. H. Sugimura, T. Uchida, N. Kitamura, and H. Masuhara, Appl. Phys. Lett. 63, 1288 (1993).
15. K. Matsumoto, S. Takahashi, M. Ishii, M. Hoshi, A. Kurokawa, S. Ichimura, and A. Ando, Jpn. J. Appl. Phys. 34, 1387 (1995).
16. E. S. Snow, P. M. Campbell, and B. V. Shanabrook, Appl. Phys. Lett. 63, 3488 (1993).
17. H. Sugimura, T. Uchida, N. Kitamura, and H. Masuhara: J. Vac. Sci. Technol. B 12, 2884 (1994).
18. N. Kramer, J. Jorritsma, H. Birk, and C. Schönenberger, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 805 (1995).
19. H. Sugimura and N. Nakagiri, Langmuir 11, 3623 (1995).
20. A. J. Bard and L. R. Faulkner, Electrochemical Methods, Fundamentals and Applications (Wiley, New York, 1980).
21. L. Young, Anodic Oxide Films (Academic, New York, 1961).
22. D. B. Clark, M. Fleischmann, and D. Pletcher, J. Electroanal. Chem. 42, 133 (1973).
23. D. A. Grigg, P. E. Russell, and J. E. Griffith, J. Vac. Sci. Technol. A 10, 680 (1992).
24. H. Sugimura, T. Yamamoto, N. Nakagiri, M. Miyashita, and T. Onuki, Appl. Phys. Lett. 65, 1569 (1994).
25. M. Suzuki, T. Fujii, T. Onuki, M. Miyashita, and M. Matsushiro, Ultramicroscopy 42-44, 1553 (1992).
26. W. Hertl and M. L. Hair, J. Phys. Chem. 75, 2181 (1971).
27. K. Murakami, H. Nakamura, T. Oshino, M. Ohtani, and H. Nagata, Proc. SPIE 1742, 614 (1992).