Positive charge effect in atomic force microscope anodization lithography using self-assembled monolayers of metal phosphate as resists

Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

Volumn 21, Issue 6, 2003, Pages 2398-2403

  Kim, Sang Min ^a   Lee, Haiwon ^a  

^a Hanyang University   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ATOMIC FORCE MICROSCOPY; AUGER ELECTRON SPECTROSCOPY; ELECTRIC POTENTIAL; HAFNIUM; LITHOGRAPHY; MONOLAYERS; POSITIVE IONS; SELF ASSEMBLY; SILICON; ZIRCONIUM;

ANODIZATION; SCANNING PROBE MICROSCOPES (SPM);

PHOSPHATES;

EID: 0942267571     PISSN: 10711023     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.1623510     Document Type: Article

References (39)

1. K. Matsumoto, S. Takahashi, M. Ishii, M. Hoshi, A. Kurokawa, S. Ichimura, and A. Ando, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 34, 1387 (1995).
2. S. C. Minne, H. T. Soh, Ph. Flueckiger, and C. F. Quate, Appl. Phys. Lett. 66, 703 (1995).
3. E. S. Snow, P. M. Campbell, and F. K. Perkins, Proc. IEEE 85, 601 (1997).
4. K. Masumoto, Proc. IEEE 85, 612 (1997).
5. Y. Xia, J. A. Rogers, K. E. Paul, and G. M. Whitesides, Chem. Rev. (Washington, D.C.) 99, 1823 (1999).
6. G. P. Lopez, H. Biebuyck, and G. M. Whitesides, Langmuir 9, 1513 (1993).
7. S. Y. Chou, P. R. Krauss, and P. J. Renstrom, Science 272, 85 (1996).
8. J. A. Dagata, J. Schneir, H. H. Harary, C. J. Evans, M. T. Postek, and J. Bennett, Appl. Phys. Lett. 56, 2001 (1990).
9. E. S. Snow and P. M. Campbell, Appl. Phys. Lett. 64, 1932 (1994).
10. H. Sugimura, T. Uchida, N. Kitamura, and H. Masuhara, Appl. Phys. Lett. 63, 1288 (1993).
11. J. C. Kim, Y. Oh, H. Lee, Y. W. Shin, and S. W. Park, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 37, 7148 (1998).
12. H. Lee, E. J. Bae, and W. B. Lee, Thin Solid Films 393, 237 (2001).
13. S. J. Ahn, Y. K. Jang, H. S. Lee, and H. Lee, Appl. Phys. Lett. 80, 2592 (2002).
14. W. B. Lee, E. R. Kim, and H. Lee, Langmuir 18, 8375 (2002).
15. H. S. Lee, S. A. Kim, S. J. Ahn, and H. Lee, Appl. Phys. Lett. 81, 138 (2002).
16. A. Majumdar, P. I. Oden, J. P. Carrejo, L. A. Nagahara, J. J. Graham, and J. Alexander, Appl. Phys. Lett. 61, 2293 (1992).
17. A. E. Gordon, R. T. Fayfield, D. D. Litfin, and T. K. Higman, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 2805 (1995).
18. D. Stiévenard, P. A. Fontaine, and E. Dubois, Appl. Phys. Lett. 70, 3272 (1997).
19. T. Teuschler, K. Mahr, S. Miyazaki, M. Hundhausen, and L. Ley, Appl. Phys. Lett. 66, 2499 (1995).
20. P. Avouris, T. Hertel, and R. Martel, Appl. Phys. Lett. 71, 285 (1997).
21. H. Lee, E. J. Bae, and W. B. Lee, Thin Solid Films 393, 237 (2001).
22. K. Hironaka, N. Aoki, H. Hori, and S. Yamada, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 36, 3839 (1997).
23. J. P. Bourgoin, R. V. Sudiwala, and S. Palacin, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 3381 (1996).
24. S. J. Ahn, Y. K. Jang, S. A. Kim, H. S. Lee, and H. Lee, Ultramicroscopy 91, 171 (2002).
25. H. Sugimura, K. Okiguchi, and N. Nakagiri, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 4140 (1996).
26. M. J. Lercel, R. C. Tiberio, P. F. Chapman, H. G. Craighead, C. W. Sheen, A. N. Parikh, and D. L. Allara, J. Vac. Sci. Technol. B 11, 2823 (1993).
27. H. Sugimura and N. Nakagiri, Langmuir 11, 3623 (1995).
28. H. Lee, L. J. Kepley, H.-G. Hong, and T. E. Mallouk, J. Am. Chem. Soc. 110, 618 (1988).
29. H. Lee, L. J. Kepley, H.-G. Hong, S. Akhter, and T. E. Mallouk, J. Phys. Chem. 92, 2597 (1988).
30. T. M. Putvinski, M. L. Schilling, and H. E. Katz, Langmuir 6, 1567 (1990).
31. H. E. Katz, G. J. Scheller, T. M. Putvinski, M. L. Schilling, W. L. Wilson, and C. E. D. Chidsey, Science 254, 1485 (1991).
32. H. E. Katz, W. L. Wilson, and G. Scheller, J. Am. Chem. Soc. 116, 6636 (1994).
33. H. Byrd, J. K. Pike, and D. R. Talham, Chem. Mater. 5, 709 (1993).
34. C. T. Seip, G. E. Granroth, M. W. Meisel, and D. R. Talham, J. Am. Chem. Soc. 119, 7084 (1997).
35. M. A. Petruska and D. R. Talham, Chem. Mater. 10, 3672 (1998).
36. S. M. Kim, S. J. Ahn, H. S. Lee, E. R. Kim, and H. Lee, Ultramicroscopy 91, 165 (2002).
37. H. J. Chae, E. R. Kim, and H. Lee, Mol. Cryst. Liq. Cryst. 337, 149 (1999).
38. S. H. Kim, Y. Oh, and H. Lee, Mol. Cryst. Liq. Cryst. 349, 175 (2000).
39. Handbook of Auger Electron Spectroscopy, edited by C. L. Hedberg, 3rd ed. (Physical Electronics, Inc., Eden Prairie, MN, 1995).