Nanofabrication of a methacrylate-based polymer on a silicon substrate by using atomic force microscope lithography

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 41, Issue 6, 2002, Pages 949-952

  Son, Min Seok ^a   Kim, Eung Ryul ^a   Lee, Haiwon ^a  

^a Hanyang University   (South Korea)

Author keywords

AFM anodization; Ething stripping; Lithography; Methacrylate Based Polymer; Spin coated film

Indexed keywords

EID: 0036956585     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Conference Paper

References (18)

1. U. Kleineberg, A. Brechling, M. Sundermann and U. Heinzmmann, Adv. Funct. Mater. 11, 208 (2001).
2. K. Araki, K. Morimoto, K. Morita, M. Niwa and Y. Hirai, Jpn. J. Appl. Phys. 35, 6679 (1996).
3. D. A. Weinberger, S. Hong, C. A. Mirkin, B. W. Wessels and T. B. Higgins, Adv. Mater. 12, 1600 (2000).
4. C. S. Dulcey, J. H. Georger, D. A. Stenger, T. L. Fare and J. M. Calvert, Science 552, 551 (1991).
5. M. J. Lercel, R. C. Tiberio, P. F. Chapman, H. G. Craighead, C. W. Sheen, A. N. Parikh and D. L. Allara, J. Vac. Sci. Technol. B 11, 2823 (1993).
6. K. Hironaka, N. Aoki, H. Hori and S. Yamada, Jpn. J. Appl. Phys. 36, 3839 (1997).
7. J. C. Kim and H. Lee, J. Korean Phys. Soc. 33, S84 (1998); E. Bae, E. R. Kim and H. Lee, J. Korean Phys. Soc. 37, 1026 (2000); S. J. Ahn, Y. K. Jang and H. Lee, Appl. Phys. Lett. 80, 2592 (2002); H. Lee, S. A. Kim, S. J. Ahn and H. Lee, Appl. Phys. Lett. 81, 138 (2002).
8. J. C. Kim and H. Lee, J. Korean Phys. Soc. 33, S84 (1998); E. Bae, E. R. Kim and H. Lee, J. Korean Phys. Soc. 37, 1026 (2000); S. J. Ahn, Y. K. Jang and H. Lee, Appl. Phys. Lett. 80, 2592 (2002); H. Lee, S. A. Kim, S. J. Ahn and H. Lee, Appl. Phys. Lett. 81, 138 (2002).
9. J. C. Kim and H. Lee, J. Korean Phys. Soc. 33, S84 (1998); E. Bae, E. R. Kim and H. Lee, J. Korean Phys. Soc. 37, 1026 (2000); S. J. Ahn, Y. K. Jang and H. Lee, Appl. Phys. Lett. 80, 2592 (2002); H. Lee, S. A. Kim, S. J. Ahn and H. Lee, Appl. Phys. Lett. 81, 138 (2002).
10. J. C. Kim and H. Lee, J. Korean Phys. Soc. 33, S84 (1998); E. Bae, E. R. Kim and H. Lee, J. Korean Phys. Soc. 37, 1026 (2000); S. J. Ahn, Y. K. Jang and H. Lee, Appl. Phys. Lett. 80, 2592 (2002); H. Lee, S. A. Kim, S. J. Ahn and H. Lee, Appl. Phys. Lett. 81, 138 (2002).
11. Y. M. Jung, S. J. Ahn, E. R. Kim and H. Lee, J. Korean Phys. Soc. 40, 712 (2002); W. Lee, E. R. Kim and H. Lee, Langmuir 18, 8375 (2002); J. C. Kim, Y. Oh, H. Lee, Y. W. Shin and S. W. Park, Jpn. J. Appl. Phys. 37, 12B, 324 (1998); H. Sugimura and N. Nakagiri, J. Photopolym. Sci. Technol. 10, 661 (1997).
12. Y. M. Jung, S. J. Ahn, E. R. Kim and H. Lee, J. Korean Phys. Soc. 40, 712 (2002); W. Lee, E. R. Kim and H. Lee, Langmuir 18, 8375 (2002); J. C. Kim, Y. Oh, H. Lee, Y. W. Shin and S. W. Park, Jpn. J. Appl. Phys. 37, 12B, 324 (1998); H. Sugimura and N. Nakagiri, J. Photopolym. Sci. Technol. 10, 661 (1997).
13. Y. M. Jung, S. J. Ahn, E. R. Kim and H. Lee, J. Korean Phys. Soc. 40, 712 (2002); W. Lee, E. R. Kim and H. Lee, Langmuir 18, 8375 (2002); J. C. Kim, Y. Oh, H. Lee, Y. W. Shin and S. W. Park, Jpn. J. Appl. Phys. 37, 12B, 324 (1998); H. Sugimura and N. Nakagiri, J. Photopolym. Sci. Technol. 10, 661 (1997).
14. Y. M. Jung, S. J. Ahn, E. R. Kim and H. Lee, J. Korean Phys. Soc. 40, 712 (2002); W. Lee, E. R. Kim and H. Lee, Langmuir 18, 8375 (2002); J. C. Kim, Y. Oh, H. Lee, Y. W. Shin and S. W. Park, Jpn. J. Appl. Phys. 37, 12B, 324 (1998); H. Sugimura and N. Nakagiri, J. Photopolym. Sci. Technol. 10, 661 (1997).
15. Y. J. Kang, H. Lee, E. R. Kim, S. J. Choi and C. G. Park, J. Photopolym. Sci. Technol. 10, 585 (1997); S. Choi, C. Park and H. Lee, US Patent 5981141 (1999); S. J. Park, I. H. Kim, Y. J. Kang, H. Lee, S. H. Lee and S. J. Choi, J. Vac. Sci. Technol. B, in press (2002).
16. Y. J. Kang, H. Lee, E. R. Kim, S. J. Choi and C. G. Park, J. Photopolym. Sci. Technol. 10, 585 (1997); S. Choi, C. Park and H. Lee, US Patent 5981141 (1999); S. J. Park, I. H. Kim, Y. J. Kang, H. Lee, S. H. Lee and S. J. Choi, J. Vac. Sci. Technol. B, in press (2002).
17. Y. J. Kang, H. Lee, E. R. Kim, S. J. Choi and C. G. Park, J. Photopolym. Sci. Technol. 10, 585 (1997); S. Choi, C. Park and H. Lee, US Patent 5981141 (1999); S. J. Park, I. H. Kim, Y. J. Kang, H. Lee, S. H. Lee and S. J. Choi, J. Vac. Sci. Technol. B, in press (2002).
18. H. Sugimura and N. Nakagiri, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 1223 (1996).